显示基板及显示面板的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种显示基板的制作方法及显示面板的 制作方法。
【背景技术】
[0002] 液晶面板显示器是目前主流的平板显示器，广泛应用于电视、笔记本、数码相机、 移动手持设备等领域。
[0003] 目前液晶显示面板主要包括：阵列基板，彩膜基板以及位于阵列基板和彩膜基板 之间的液晶层；参见图1和图2,其中图2为沿图1中虚线A1_A2方向的剖面图，该阵列基 板包括：衬底基板101，位于衬底基板上方的栅极102,位于所述栅极上方的栅绝缘层103， 位于所述栅绝缘层103上方的有源层104,位于所述有源层104上方的信号线层105 (包括 同层设置的源极和漏极），位于所述信号线层105上方的绝缘层106,以及位于所述绝缘层 106上方的、且通过贯穿绝缘层106的过孔107与所述漏极电连接的像素电极108。制作所 述液晶显示面板的主要步骤包括：制作阵列基板和彩膜基板，以及对阵列基板和彩膜基板 进行对盒工艺；在对盒工艺中，首先分别对所述阵列基板和彩膜基板进行配向膜印刷以及 光配向处理，然后在阵列基板和彩膜基板之间注入液晶，并使用封框胶进行密封，最后切割 成单个面板并通过在该单个面板的上下两侧贴敷偏正方向相互垂直的偏振片以形成液晶 显示面板。
[0004] 其中，配向膜是使用液晶配向材料来制作的，分为两种制作方法，一种是摩擦法， 另一种是光配向法，因为摩擦法需要采用绒布与配向膜材料接触且沿一个方向摩擦，而光 配向法采用光源照射配向膜材料，不需要与配向膜材料直接接触，所以在配向过程中，光配 向法所产生的灰尘或静电比摩擦处理少。因此，通过使用光配向法可以得到配向性良好的 液晶配向膜，从而改善液晶显示元件的性能。但是，对于非晶硅+欧姆层构造而成的有源层 来说，光线照射到非晶硅层时会导致该层中产生光生电子，导致漏电流变大，从而影响薄膜 晶体管的电学特性，进而致串扰等问题的发生，影响液晶面板的显示质量，降低用户感受。
【发明内容】
[0005] 本发明实施例提供了一种显示基板的制作方法及显示面板的制作方法，用以解决 现有技术中因光配向所导致的薄膜晶体管中漏电流过大、串扰等问题，提高面板的显示质 量用户感受。
[0006] 本发明实施例提供了一种显示基板的制作方法，所述方法包括：
[0007] 利用构图工艺形成遮光板，所述遮光板包括透明的衬底基板和与待光配向的阵列 基板中的有源层相匹配的遮光层；
[0008] 将所述遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，对阵列基板侧的配向膜进行光 配向；其中，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层至少部分重叠。
[0009] 本发明实施例中，通过构图工艺形成的遮光板包括透明的衬底基板和与待光配向 的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层，在对阵列基板的配向膜进行光配向的过程中，将 该遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层至 少部分重叠，使得照射到有源层的部分光线能够被遮住，进而降低有源层的漏电流，提高薄 膜晶体管的电学特性，进而防止串扰等问题的发生，同时提高显示面板的显示质量和用户 感受。
[0010] 较佳的，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层完全重叠。当所述遮光层在正 投影方向上与所述有源层完全重叠时，遮光层就将有源层完全遮住，从而使照射到有源层 的光线全部被遮住，能够更进一步地降低有源层的漏电流，提高薄膜晶体管的电学特性，避 免串扰等问题的发生。
[0011] 较佳的，所述利用构图工艺形成遮光板，具体包括：
[0012] 在透明的衬底基板上沉积一金属层；
[0013] 在所述金属层上涂覆一层光刻胶，利用与所述有源层匹配的有源层掩膜板形成与 所述有源层相匹配的遮光层。
[0014] 通过在透明的衬底基板上沉积一金属层，并利用与所述有源层匹配的有源层掩膜 板形成与所述有源层相匹配的遮光层，使得光配向所使用的光可以透过所述透明衬底以对 配向膜进行光配向，同时由于在有源层的上方区域存在与所述有源层相匹配的遮光层，有 效的遮住了光配向所使用的线偏极紫外光，使得照射到有源层的部分光线能够被遮住，有 效的避免了有源层中光生电子的产生，降低了有源层的漏电流，提高了薄膜晶体管的电学 特性，进而防止串扰等问题的发生，同时提高了显示面板的显示质量和用户感受。
[0015] 较佳的，在进行光配向之前，所述方法还包括：
[0016] 利用构图工艺制作包括衬底基板、栅极、栅绝缘层、有源层、信号线层、信号线绝缘 层和像素电极的阵列基板。
[0017] 在利用紫外线进行光配向之前先制作阵列基板，可明确该阵列基板的大小、有源 层的形状以及制作该有源层所使用的有源层掩膜板，使得可根据该有源层掩膜板制作遮光 层。
[0018] 较佳的，制作所述遮光层的材料与制作栅极或/和信号线层的材料相同。使用与 制作栅极或/和信号线层相同的材料制作所述遮光层，可采用与制作栅极或/信号线层相 同的工艺制作所述遮光层，有利于简化工艺复杂度，节约生产成本。
[0019] 较佳的，采用线偏极紫外光进行光配向。
[0020] 较佳的，所述方法还包括：在完成对阵列基板侧的配向膜进行光配向后，将所述遮 光板从阵列基板上方移除。完成光配向后将所述遮光板从阵列基板上方移除，以便进行对 盒工艺。
[0021] 本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法，所述方法包括：
[0022] 利用构图工艺制作彩膜基板和阵列基板；
[0023] 在阵列基板的上方、面向彩膜基板的一侧制作阵列基板侧的配向膜；
[0024] 在彩膜基板下方、面向阵列基板的一侧制作彩膜基板侧的配向膜；
[0025] 将遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，对阵列基板侧的配向膜进行光配 向；其中，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层至少部分重叠；所述遮光板包括透明 的衬底基板和与待光配向的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层；
[0026] 对彩膜基板侧的配向膜进行光配向；
[0027] 对阵列基板和彩膜基板进行对盒。
[0028] 本发明实施例提供的制作显示面板的方法中，通过构图工艺形成的遮光板，该遮 光板包括透明的衬底基板和与待光配向的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层，在对阵列 基板的配向膜进行光配向的过程中，将该遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，所述 遮光层在正投影方向上与所述有源层至少部分重叠，使得照射到有源层的部分光线能够被 遮住，进而降低有源层的漏电流，提高薄膜晶体管的电学特性，进而防止串扰等问题的发 生，同时提尚显不面板的显不质量和用户感受。
【附图说明】
[0029] 图1为现有技术中阵列基板的平面结构示意图；
[0030] 图2为沿图1中虚线A1-A2方向的阵列基板的剖面结构示意图；
[0031] 图3为本发明实施例一提供的显示基板的制作方法；
[0032] 图4为本发明实施例提供的遮光板剖面结构示意图；
[0033] 图5为利用本发明实施例提供的遮光板对阵列基板侧的配向膜进行光配向的示 意图；
[0034] 图6为遮光层在正投影方向上的投影区域大于有源层的覆盖范围时的示意图；
[0035] 图7为本发明实施例提供的制作显示基板的流程示意图。
【具体实施方式】
[0036] 本发明实施例提供了一种显示基板的制作方法及显示面板的制作方法，用以解决 现有技术中因光配向所导致的薄膜晶体管中漏电流过大、串扰等问题，提高面板的显示质 量用户感受。
[0037]本发明实施例提供了一种显示基板的制作方法，参见图3,所述方法包括：
[0038] 步骤S31，参见图4,利用构图工艺形成遮光板，所述遮光板包括透明的衬底基板 41和与待光配向的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层42。
[0039] 步骤S32,将所述遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，对阵列基板侧的配向 膜进行光配向；其中，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层至少部分重叠。
[0040] 本发明实施例中，通过构图工艺形成的遮光板包括透明的衬底基板和与待光配向 的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层，在对阵列基板的配向膜进行光配向的过程中，将 该遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层至 少部分重叠，使得照射到有源层的部分光线能够被遮住，进而降低有源层的漏电流，提高薄 膜晶体管的电学特性，进而防止串扰等问题的发生，同时提高显示面板的显示质量和用户 感受。
[0041] 需特别指出的是，目前光配向工艺中，虽然有源层掩膜板具有遮光的作用，理论上 可以作为遮光板使用，但是实际工艺中并不能使用有源层掩膜板作为遮光板使用，具体原 因如下：
[0042] 一，有源层掩膜板厚度约10_，厚度大，会降低光配向工艺中照射光的透过率，影 响光配向的质量和效率。
[0043] 二，有源层掩膜板价格昂贵，反复使用易造成磨损，从而导致生产成本增加。
[0044] 三，有源层掩膜板尺寸较小，如使用有源层掩膜板作为遮光板，则在光配向工艺中 需要同时使用多个有源层掩膜板，或利用一个有源层掩膜板通过多次照射完成光配向工 艺，增大了光配向工艺的复杂程度和成本。并且，由于具有厚度大、尺寸小，有源层掩膜板需 通过一定的方式悬挂在阵列基板的上方时容易跌落，进而导致阵列基板的损坏。
[0045] 综上，现有技术中在进行光配向的过程中不可能使用有源层掩膜板作为遮光板来 遮住有源层上方的光线。
[0046] 进一步的，参见图5 ;图5为利用本发明实施例提供的遮光板对阵列基板侧的配向 膜进行光配向的示意图，从图5中可以看出，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层完 全重叠。当所述遮光层在正投影方向上与所述有源层完全重叠时，遮光层就将有源层完全 遮住，从而使照射到有源层的光线全部被遮住，能够更进一步地降低有源层的漏电流，提高 薄膜晶体管的电学特性，避免串扰等问题的发生。
[0047] 此外，参见图6 ;所述遮光层在正投影方向上的投影区域还可以大于所述有源层 的覆盖范围，在所述投影区域的边缘与所述有源层的边缘之间的距离d约3_，以避免对位 偏差所造成的遮光板正投影方向上不能完全覆盖有源层的问题。
[0048] 进一步的，其中所述利用构图工艺形成遮光板，具体包括：
[0049] 在透明的衬底基板上沉积一金属层；
[0050] 在所述金属层上涂覆