一种彩色滤光片基板的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种彩色滤光片基板的制作方法，尤其涉及一种利用光刻工艺使平坦层表面平整的彩色滤光片基板的制作方法。
【背景技术】
[0002]液晶显示面板包括互相对向设置的上基板和下基板，以及夹设于上下基板之间的液晶层。而上基板通常称为彩色滤光片(Color Filter, CF)基板，下基板通常称为阵列(Array)基板。随着信息技术的发展，对于液晶显示面板的各种需求也在增加，其中，高透过率、低功耗、成像质量佳成为人们对显示面板的需求。为了满足这些需求，出现了由红色(R)子像素、绿色(G)子像素、蓝色(B)子像素和白色(W)子像素组成一个像素的液晶显示面板，即在彩色滤光片基板中，由红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素和白色子像素组成一个像素。
[0003]彩色滤光片基板有多种制作方法，例如，其中一种是采用红色、绿色、蓝色及白色色阻形成在基板上，再在基板上形成平坦层，但这种方法会增加一道白色色阻的光刻制程；另一种是在基板上形成红色、绿色和蓝色色阻，以及与平坦层相同材料色阻，再在基板上形成平坦层，但这种方法同样是增加一道与平坦层相同材料色阻的光刻制程；再一种是在基板上形成红色、绿色和蓝色色阻，以及开口部分，再在基板上形成平坦层，并且该平坦层填入开口部分，这种方法虽然节省了一道光刻制程，但是平坦层在开口部分处出现凹陷，使得平坦层的表面凹凸不平，进而影响制成的液晶显示面板的显示品质。
【发明内容】
[0004]为了解决上述现有技术存在的问题，本发明的目的在于提供一种彩色滤光片基板的制作方法，包括步骤:提供一基板；在所述基板上形成遮光部分；在所述基板上形成彩色滤光片，其中，所述彩色滤光片包括彩色部分及开口部分；在所述基板上覆盖平坦层，且所述平坦层填入所述开口部分；对所述平坦层进行光刻；在经光刻后的平坦层上形成透明电极层；在所述透明电极层上形成间隔体。
[0005]进一步地，在经光刻后的平坦层上形成间隔体之前，在经光刻后的平坦层上形成透明电极层，再在所述透明电极层上形成间隔体。
[0006]进一步地，所述平坦层为透明负光阻层。
[0007]进一步地，对所述平坦层进行光刻是利用半色调光罩对所述平坦层进行曝光，再对经曝光后的平坦层进行显影，以使经显影后的平坦层的表面平整。
[0008]进一步地，对所述平坦层进行光刻是利用灰阶光罩对所述平坦层进行曝光，再对经曝光后的平坦层进行显影，以使经显影后的平坦层的表面平整。
[0009]进一步地，所述彩色部分包括红色、绿色及蓝色。
[0010]进一步地，所述遮光部分的材料为金属铬或黑色树脂。
[0011]进一步地，所述彩色部分是利用旋涂方式在所述基板表面形成红色光阻，再以曝光显影的方式，留下红色光阻在红色的像素预定区中，并去除其余位置的红色光阻。
[0012]进一步地，所述彩色部分还包括以同样的方式依序形成绿色光阻和蓝色光阻。
[0013]进一步地，所述透明电极层的材料为氧化铟锡。
[0014]进一步地，所述间隔体通过涂布负光阻材料，再经过一黄光制程而形成。
[0015]本发明采用透明光阻层填入开口部分作为白色光阻，并且利用光刻工艺将透明光阻层的表面平坦化，相对于现有技术，在减少一道白色色阻的光刻制程的同时，不会使开口部分上的透明光阻层凹陷，避免透明光阻层的表面凹凸不平，进而提高制成的液晶显示面板的显不品质。
【附图说明】
[0016]通过结合附图进行的以下描述，本发明的实施例的上述和其它方面、特点和优点将变得更加清楚，附图中:
[0017]图1A至图1E是根据本发明的第一实施例的彩色滤光片基板的制作方法示意图；
[0018]图2是根据本发明的第二实施例的间隔体形成方法的示意图；
[0019]图3是根据本发明的第三实施例的对透明光阻层进行光刻工艺的示意图。
【具体实施方式】
[0020]以下，将参照附图来详细描述本发明的实施例。然而，可以以许多不同的形式来实施本发明，并且本发明不应该被解释为限制于这里阐述的具体实施例。相反，提供这些实施例是为了解释本发明的原理及其实际应用，从而使本领域的其他技术人员能够理解本发明的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改。在附图中，相同的标号将始终被用于表示相同的元件。
[0021]〈第一实施例〉
[0022]图1A至图1E是根据本发明的第一实施例的彩色滤光片基板的制作方法示意图。在第一实施例中，具有彩色滤光片基板的液晶显示面板的显示模式可例如为垂直取向(VA)模式或扭曲向列型(TN)显示模式。
[0023]首先，请参照图1A，提供一基板10，例如为一绝缘透明基板，其被定义为彩色滤光片基板，通常称为上基板；接着，在基板10上形成一黑色矩阵(black matrix)遮光部分12，其中，黑色矩阵遮光部分12的材料可为黑色树脂或者金属铬，例如以黄光制程方式制作一定厚度的黑色树脂，较佳为亚克力与碳混合的高分子材料，亦或同样以黄光方式制作一定厚度的金属铬，由于厚度较薄以致红色、绿色、蓝色彩色光阻之间不会发生迭合的现象。
[0024]接着，请参照图1B，在基板10上形成彩色滤光片，其中，该彩色滤光片包括红色、蓝色、绿色的彩色光阻部分14及开口部分16，红色彩色光阻部分14是利用旋涂或者其他方式在基板10表面形成红色颜料光阻，再以曝光显影的方式，留下一定厚度的红色颜料光阻在红色的像素预定区中，并去除其余位置的红色颜料光阻。之后，再依序以同样的方式形成相同厚度的蓝色颜料光阻和绿色颜料光阻。
[0025]接着，请参照图1C，以旋涂或者其他方式在彩色滤光片上沉积覆盖一具有一定厚度的透明光阻层18，其中，该透明光阻层18填入开口部分16，并且该透明光阻层18为负透明光阻层，其由透明感光或感热材料形成。
[0026]接着，请参照图1D，对透明光阻层18进行光刻工艺，以使透明光阻层18的表面平整，而对透明光阻层18进行光刻工艺是利用半色调光罩(Half Tone Mask，HTM)20对透明光阻层18进行曝光，再对经曝光后的透明光阻层18进行显影，以使经显影后的透明光阻层18的表面平整。这里，半色调光罩20的相对开口部分16的部分透光率较高，而其余部分的透光率较低，其中，向下的箭头表示半色调光罩20透过的光。由于透明光阻层18为负透明光阻层，接受较强光照射之处的光阻经显影后剩余较多，而接受较弱光照射之处的光阻经显影后剩余较少，这样，通过采用半色调光罩20对透明光阻层18进行曝光，在经过显影后，