可去除掉较多的红色、蓝色、绿色的彩色光阻部分14上方的透明光阻层18，相对地，开口部分16的透明光阻层18被去除较少，因此可使经显影后的透明光阻层18的表面形成为平坦的表面。
[0027]最后，参照图1E，先涂布一例如压克力的负光阻材料在电极层22上，再经过一道黄光制程而留下类似柱状物的间隔体24，用来顶住液晶显示面板的上下基板的间距。值得注意的是，因为明光阻层18的表面平坦，所以可得到膜厚较均匀的间隔体24。
[0028]<第二实施例>
[0029]在根据本发明的第二实施例中，形成间隔体24之前的方法与第一实施例相同，即第二实施例的形成间隔体24之前的方法可参照图1A至图1D。这里，避免赘述，第二实施例中仅描述与第一实施例的形成间隔体24的方法的不同之处。
[0030]首先，应当说明的是，第二实施例的具有彩色滤光片基板的液晶显示面板的显示模式可例如为边缘场切换(FFS)模式或平面转换型(IPS)显示模式。
[0031]图2是根据本发明的第二实施例的间隔体形成方法的示意图。
[0032]参照图2，在透明光阻层18的表面平坦后，利于后续利用溅镀方式沉积电极层22在透明光阻层18上，其中，电极层22可例如是氧化铟锡(ITO)的透明导电膜。
[0033]接着，继续参照图2，先涂布一例如压克力的负光阻材料在电极层22上，再经过一道黄光制程而留下类似柱状物的间隔体24，用来顶住液晶显示面板的上下基板的间距。值得注意的是，因为明光阻层18的表面平坦，所以可得到膜厚较均匀的间隔体24。
[0034]图3是根据本发明的第三实施例的对透明光阻层进行光刻工艺的示意图。
[0035]在根据本发明的第三实施例中，仅在图3所示的对透明光阻层进行光刻工艺的方法与图1D所示的对透明光阻层进行光刻工艺的方法有区别，其余方法均相同，因此二者相同之处在此不再赘述。
[0036]请参照图3，在根据本发明的另一实施例中，对透明光阻层18进行光刻工艺是利用灰阶光罩(Gray Tone Mask，GTM)26对透明光阻层18进行曝光，再对经曝光后的透明光阻层18进行显影，以使经显影后的透明光阻层18的表面平整。这里，灰阶光罩26的相对开口部分16的部分透光较多，而其余部分透光较少，其中，向下的箭头表示灰阶光罩26透过的光。由于透明光阻层18为负透明光阻层，接受较多光照射之处的光阻经显影后剩余较多，而接受较少光照射之处的光阻经显影后剩余较少，这样，通过采用灰阶光罩26对透明光阻层18进行曝光，在经过显影后，可去除掉较多的红色、蓝色、绿色的彩色光阻部分14上方的透明光阻层18，相对地，开口部分16的透明光阻层18被去除较少，因此可使经显影后的透明光阻层18的表面形成为平坦的表面。
[0037]综上，本发明采用透明光阻层填入开口部分作为白色光阻，并且利用光刻工艺将透明光阻层的表面平坦化，相对于现有技术，在减少一道白色色阻的光刻制程的同时，不会使开口部分上的透明光阻层凹陷，避免透明光阻层的表面凹凸不平，进而提高制成的液晶显不面板的显不品质。
[0038]虽然已经参照特定实施例示出并描述了本发明，但是本领域的技术人员将理解:在不脱离由权利要求及其等同物限定的本发明的精神和范围的情况下，可在此进行形式和细节上的各种变化。
【主权项】
1.一种彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，包括步骤: 提供一基板(10)； 在所述基板(10)上形成遮光部分(12); 在所述基板(10)上形成彩色滤光片，其中，所述彩色滤光片包括彩色部分(14)及开口部分(16)； 在所述基板(10)上覆盖平坦层(18)，且所述平坦层(18)填入所述开口部分(16); 对所述平坦层(18)进行光刻； 在经光刻后的平坦层(18)上形成间隔体(24)。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在经光刻后的平坦层(18)上形成间隔体(24)之前，在经光刻后的平坦层(18)上形成透明电极层(22)，再在所述透明电极层(22)上形成间隔体(24) ο
3.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述平坦层(18)为透明负光阻层O
4.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，对所述平坦层(18)进行光刻是利用半色调光罩(20)对所述平坦层(18)进行曝光，再对经曝光后的平坦层(18)进行显影，以使经显影后的平坦层(18)的表面平整。
5.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，对所述平坦层(18)进行光刻是利用灰阶光罩(26)对所述平坦层(18)进行曝光，再对经曝光后的平坦层(18)进行显影，以使经显影后的平坦层(18)的表面平整。
6.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述彩色部分(14)包括红色、绿色及蓝色。
7.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述遮光部分(12)的材料为金属铬或黑色树脂。
8.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述彩色部分(14)是利用旋涂涂布方式在所述基板(10)表面形成红色光阻，再以曝光显影的方式，留下红色光阻在红色的像素预定区中，并去除其余位置的红色光阻。
9.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述彩色部分(14)还包括以同样的方式依序形成绿色光阻和蓝色光阻。
10.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述间隔体(24)通过涂布负光阻材料，再经过一黄光制程而形成。
【专利摘要】本发明公开一种彩色滤光片基板的制作方法，包括步骤：提供一基板(10)；在基板(10)上形成遮光部分(12)；在基板(10)上形成彩色滤光片，其中，彩色滤光片包括彩色部分(14)及开口部分(16)；在基板(10)上覆盖平坦层(18)，且平坦层(18)填入开口部分(16)；对平坦层(18)进行光刻；在经光刻后的平坦层(18)上形成间隔体(24)。本发明采用透明光阻层填入开口部分作为白色光阻，并利用光刻工艺将透明光阻层的表面平坦化，相对于现有技术，在减少一道白色色阻的光刻制程的同时，不会使开口部分上的透明光阻层凹陷，避免透明光阻层的表面凹凸不平，进而提高制成的液晶显示面板的显示品质。
【IPC分类】G02B5-20, G02F1-1335, G03F7-00
【公开号】CN104678639
【申请号】CN201410844602
【发明人】薛景峰, 陈归
【申请人】深圳市华星光电技术有限公司
【公开日】2015年6月3日
【申请日】2014年12月30日