板的方法。
[0041]图7示出了本发明的显示基板的制作方法的流程图。
[0042]参照图7，本实施例的显示基板制作方法，具体包括:
[0043]S1、在显示基板的焊盘区域形成至少一条表面具有凹凸结构的引线；
[0044]S2、在显示基板衬底的所有区域涂覆配向膜材料并固化，使得每条所述引线的凹凸结构中的凸部不被所述配向膜材料覆盖而能与覆晶薄膜导电接触，凹部容纳有配向膜材料。
[0045]现有的方法中，显示基板的制作通常是在衬底上同时制作多个显示基板，但是，由于配向膜的绝缘性，焊盘区域的引线不能被涂覆配向膜，从而在制作过程中，对衬底的每一个显示基板分别进行配向膜的涂覆，其制作过程繁复，并且该涂覆工艺导致每个显示基板的配向膜边缘会出现Halo区域。
[0046]而本申请通过上述的方法，在制作显示基板的衬底的所有区域涂覆配向膜材料并固化，然后通过切割制成显示基板。因此，本发明在制备显示基板时，将引线制备成凹凸结构，本实施例的引线的凹凸结构可以是凸部与凹部在引线的宽度方向或长度方向交替设置，即可以是条状的凹部和凸部交替设置，也可以是将凸部设置成形状分布在一个平整的底面上，将凸部之间的间隙作为凹部。
[0047]另外，将每条引线的凹凸结构的凸部在凸部与凹部相连的方向上的垂直截面制备成为梯形，且坡度角为0°?60°。将凸部制备成梯形结构，使得在涂覆配向膜的过程中，涂覆在凸部顶部的配向膜液通过梯形的斜边滑落到凹部，从而使得凸部顶部不被涂覆有配向膜。
[0048]另外，为了在凹部涂覆配向膜材料后能够实现凹部连通，凸部与覆晶薄膜电接触，将凹凸结构的凹部的厚度设置为150nm?600nm，并且凸部的顶面高于凹部的底面不大于200nmo
[0049]在本实施例中，制作显示基板时可以在一块衬底上同时制作多个显示基板，如图8所示，在制作过程中，在衬底上设置每个显示基板的区域，并在每个显示基板的焊盘区域102布置具有凹凸结构的引线，然后在整个衬底上涂覆配向膜材料，由于引线具有凹凸结构，使得涂覆在引线凸部上的配向膜材料滑落到凹部，从而使得凸部不被配向膜材料覆盖。通过上述方法制备的显示基板，由于配向膜的边缘区域位于衬底的边缘，每个显示基板的显示区域101的配向膜的厚度均匀，不会出现Halo区域。
[0050]在本发明的又一个实施例中，提供一种显示装置，该显示装置包括上述的显示基板。
[0051]在本实施例中，显示装置使用上述的显示基板制成，由于边缘不存在Halo区域，使得显示装置的边缘显示功能正常，从而可以在一定程度上实现显示装置的窄边框以及超窄边框。
[0052]根据上述显示装置，在本发明的再又一个实施例中，提供一种显示装置的制造方法，该方法包括:
[0053]制作第一显示基板和第二显示基板，其中第一显示基板和/或第二显示基板按照上述的显示基板的制作方法制作；
[0054]将所述第一显示基板与第二显示基板对盒。
[0055]本实施例的第一显示基板和第二显示基板，可以通过上述的显示基板的制作方法制作，从而可以避免显示基板的边缘由于配向膜厚度不均匀影响显示，从而影响显示装置的边框的设计。
[0056]另外，本发明的显示装置的显示基板可以是第一显示基板和第二显示基板中的一个通过上述显示基板的制作方法制作而成，另一个可以使用其他的方法制成，在此不做限定。同时应该理解，当在一个衬底上包括多个显示基板时，对盒后还包括切割成单个显示面板的工艺，此为本领域技术人员所熟知，在此不再赘述。
[0057]本发明提供的显示基板、显示装置及其制作方法，将焊盘区域的引线设置成凹凸结构，在涂覆配向膜时，涂覆在引线上的配向膜材料聚集在凹凸结构的凹部，而引线的凸部没有被涂覆配向膜材料，从而可以通过凸部与覆晶薄膜接触进行信号的导通；并且基于上述结构，在制作显示基板的过程中可以对整个基板进行配向膜的涂覆，尤其是在衬底上同时制作多个显示基板的工艺中，通过在衬底上整体涂覆配向膜材料，使得配向膜的边缘位于衬底的边缘，从而避免了在显示基板的边缘形成Halo区域。另外，通过整体涂覆衬底的方法，可以简化配向膜涂覆工艺，提高显示基板的制备效率。
[0058]以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种显示基板，其特征在于，包括显示区域和焊盘区域，所述显示区域和所述焊盘区域均涂覆有配向膜材料，在所述焊盘区域上设置有至少一条引线，每条所述引线的表面包括凹凸结构，所述凹凸结构中的凸部不被配向膜材料覆盖且能与覆晶薄膜导电接触，所述凹凸结构中的凹部容纳有配向膜材料。
2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凸部与所述凹部在所述引线的宽度方向或长度方向交替设置。
3.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凸部在凸部与凹部相连的方向上的垂直截面为梯形，且坡度角为0°?60°。
4.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述引线在所述凹部底面处的厚度为150-600nm，所述凸部的顶面高于所述凹部的底面不大于200nm。
5.一种显示装置，其特征在于，包括上述权利要求1-4任一项所述的显示基板。
6.一种显示基板的制作方法，其特征在于，所述显示基板包括显示区域和焊盘区域，所述方法包括: 在所述焊盘区域形成至少一条表面具有凹凸结构的引线； 在所述显示基板衬底的所有区域涂覆配向膜材料并固化，使每条所述引线的凹凸结构中的凸部不被所述配向膜材料覆盖而能与覆晶薄膜导电接触，凹部容纳有配向膜材料。
7.如权利要求6所述的显示基板的制作方法，其特征在于，每条所述引线的凹凸结构的凸部与凹部在引线的宽度方向或长度方向交替设置。
8.如权利要求6所述的显示基板的制作方法，其特征在于，每条所述引线的凹凸结构的凸部在凸部与凹部相连的方向上的垂直截面为梯形，且坡度角为0°?60°。
9.如权利要求6所述的显示基板的制作方法，其特征在于，每条所述引线的凹凸结构的凹部的厚度为150nm?600nm，且每条所述引线的凹凸结构的凸部的顶面高于凹部的底面不大于200nmo
10.一种显示装置的制造方法，其特征在于，所述方法包括: 制作第一显示基板和第二显示基板，其中第一显示基板和/或第二显示基板按照权利要求6-9任一项所述的显示基板的制作方法制作； 将所述第一显示基板与第二显示基板对盒。
【专利摘要】本发明提供了一种显示基板，其特征在于，包括显示区域和焊盘区域，所述显示区域和所述焊盘区域均涂覆有配向膜材料，在所述焊盘区域上设置有至少一条引线，每条所述引线的表面包括凹凸结构，所述凹凸结构中的凸部不被配向膜材料覆盖且能与覆晶薄膜导电接触，所述凹凸结构中的凹部容纳有配向膜材料。本发明通过将显示基板的焊盘区域的引线设置成凹凸结构，在进行配向膜涂覆时，可以在整个基板上进行涂覆，从而避免制成的显示基板上的配向膜的边缘产生Halo区域。
【IPC分类】G02F1-1337, G02F1-1333, G02F1-13
【公开号】CN104765171
【申请号】CN201510184914
【发明人】马国靖, 王丹, 徐长健, 任锦宇, 宋勇志
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方显示技术有限公司
【公开日】2015年7月8日
【申请日】2015年4月17日