配。在穿过堆叠402的光波的实质上峰值强度的位置处，安置所述堆叠402 的光吸收层416。结果是，实质上降低光424Β从吸收膜堆叠402的整体反射率。
[0076] 任选地，选择可在足够精确度下沉积以可靠地达成+/-5%及可能+/-2. 5%或更 少的容限的膜厚度。达成此些容限降低反射率的变动（如果所形成的层过厚或过薄以致不 能达成引起破坏性干扰的相移，那么所述反射率的变动可出现）。以下表1呈现以纳米为单 位给定的实例膜厚度。
[0077]
【主权项】
1. 一种装置，其包括 衬底层，其邻近光源而安置且具有 允许光穿过所述衬底层的孔口，及 吸收膜堆叠，其包含： 光反射材料层， 光吸收材料层，其安置于所述光反射材料层上且与所述光反射材料层间隔固定距离， 及 干涉吸收膜堆叠，包含： 具有第一折射率的介电材料层及具有第二折射率的介电材料层， 所述介电材料层的厚度经选择以引起从所述干涉吸收膜堆叠反射的光干扰入射在所 述干涉吸收膜堆叠上的光且使具有峰值振幅的干扰驻波出现在所述光吸收材料层处。
2. 根据权利要求1所述的装置，其中具有第一折射率的所述介电材料层及具有第二折 射率的所述介电材料层经选择以减少以与正交于所述干涉吸收膜堆叠的表面的轴成0°与 50°之间的角度入射的光的反射。
3. 根据权利要求1所述的装置，其中所述固定距离将所述吸收材料层布置于所述吸收 膜堆叠中的所述干扰驻波的实质上峰值振幅的位置处。
4. 根据权利要求1所述的装置，进一步包含安置于所述光反射材料层与所述吸收材料 层之间的透射材料间隔层。
5. 根据权利要求4所述的装置，其中所述间隔层具有使所述吸收层与所述光反射材料 层间隔所述固定距离的厚度。
6. 根据权利要求1所述的装置，其中所述光反射材料层包含在可见光的光谱中具有大 于70%的反射比的金属层。
7. 根据权利要求1所述的装置，其中所述光反射材料层包含选自铝A1、铬Cr、钼Mo、镍 Ni、钽Ta及银Ag的群组的层。
8. 根据权利要求1所述的装置，进一步包括安置于所述干涉吸收膜堆叠上的透明导电 层。
9. 根据权利要求1所述的装置，进一步包括安置于所述光反射材料层的与所述光吸收 材料相对的表面上的反射性膜。
10. 根据权利要求9所述的装置，其中所述反射性膜包含具有具第一折射率的第一材 料及具第二折射率的第二材料的介电薄膜堆叠，所述第一材料及所述第二材料具有来自所 述光源的光的波长的约四分之一的相应厚度。
11. 根据权利要求1所述的装置，进一步包括安置于所述干涉吸收膜堆叠上方的流体 层。
12. 根据权利要求1所述的装置，其中所述光源包含发射分别以色彩红色、绿色及蓝色 RGB居中的不同波长光谱处的光的一光源或多个光源。
13. 根据权利要求12所述的装置，其中具有第一折射率的所述介电材料层具有约34nm 的厚度且具有第二折射率的所述介电材料层具有约I5nm的厚度。
14. 根据权利要求1所述的装置，其中具有第一折射率的所述介电材料层包含二氧化 硅3102且具有第二折射率的所述介电材料层包含二氧化钛TiO2。
15.根据权利要求1所述的装置，其中所述衬底层包含用于阻断来自所述孔口的光或 使所述光通过的可移动快门。
16.根据权利要求1所述的装置，进一步包括： 经配置以与所述显示器通信的处理器，所述处理器经配置以处理图像数据；及 经配置以与所述处理器通信的存储器装置。
17.根据权利要求16所述的装置，进一步包括： 驱动器电路，其经配置以将至少一信号发送到所述显示器；及 控制器，其经配置以将所述图像数据的至少一部分发送到所述驱动器电路。
18.根据权利要求16所述的装置，进一步包括： 图像源模块，其经配置以将所述图像数据发送到所述处理器，其中所述图像源模块包 括接收器、收发器及发射器中的至少一者。
19.根据权利要求16所述的装置，进一步包括： 输入装置，其经配置以接收输入数据且将所述输入数据传达到所述处理器。
20. -种制造方法，包括： 提供光反射材料层，及 在所述光反射材料层上方形成光吸收膜，所述光吸收膜具有： 光吸收材料层，及 具有第一折射率及约25nm到40nm的第一厚度的第一材料层与具有第二折射率及约IOnm到20nm的第二厚度的第二材料层，所述第一层及所述第二层的所述相应厚度经选择 以提供在选定波长范围内且与正交于所述吸收膜的轴成大于约30°的入射角的光的干涉 衰减。
21. 根据权利要求20所述的方法，进一步包括将所述吸收材料层布置于通过所述干涉 衰减形成的驻波的实质上峰值振幅的位置处。
22. 根据权利要求20所述的方法，进一步包含： 提供介于所述光反射层与所述吸收材料层之间且具有经选择以使所述吸收材料层与 所述光反射层间隔从所述光反射层反射的光的波长的约四分之一的厚度的透射材料间隔 层。
23.根据权利要求20所述的方法，进一步包括： 在所述衬底与所述光吸收膜之间形成膜堆叠，所述膜堆叠具有： 具有第一折射率的第一材料及具有第二折射率的第二材料，所述第一材料及所述第二 材料具有待反射的光的波长的约四分之一的相应厚度。
24.根据权利要求23所述的方法，其中所述第一材料具有介于约80nm到约IlOnm之间 的厚度且所述第二材料具有介于约50nm与约65nm之间的厚度。
25.根据权利要求23所述的方法，其中所述第一材料包含二氧化硅SiO2且所述第二材 料包含二氧化钛TiO2。
26.根据权利要求20所述的方法，其中所述光反射材料层为金属层。
27.根据权利要求20所述的方法，其中形成所述第一材料层包含， 使用选自由化学气相沉积、物理气相沉积、等离子增强化学气相沉积、热化学气相沉积 (热CVD)及旋涂组成的群组的工艺沉积所述第一层。
28. 根据权利要求20所述的方法，其中提供光反射材料层包含 提供可从第一位置移动到第二位置且具有具光反射材料层的表面的快门。
29. 根据权利要求28所述的方法，其中形成所述光吸收膜包含 在所述快门的所述光反射材料层上方形成所述光吸收膜。
30. -种薄膜堆叠，包括 衬底层，其具有允许光穿过所述衬底层的孔口且邻近第一波长的光源而安置，且包含 具有第一侧及第二侧的光反射材料层， 干涉吸收堆叠，其安置于所述光反射材料层的所述第二侧上且具有两个介电材料层， 所述两个介电材料层具有经选择以降低以角度0°到50°入射且以所述第一波长传播的 光的反射率的厚度及折射率，及 高反射比堆叠，其安置于所述光反射材料层的所述第一侧上且具有一或一个以上成对 的介电材料层，所述成对的介电材料层具有经选择以对以介于0°到50°之间的角度入射 且以所述第一波长传播的光达成大于90%的明视上加权的反射率的厚度及折射率。
31. 根据权利要求30所述的薄膜堆叠，其中所述衬底层包含明视上透明材料层。
32. 根据权利要求30所述的薄膜堆叠，进一步包含 快门，其邻近所述孔口而安置且可跨所述孔口移动以使穿过所述孔口的光通过及阻断 所述光以提供图像内的像素。
33. 根据权利要求30所述的薄膜堆叠，其中所述光源包含产生不同相应波长的光的多 个光源。
34. 根据权利要求33所述的薄膜堆叠，其中所述干涉吸收堆叠包含具有经选择以降低 以所述不同相应波长传播的光的明视上加权的反射率的厚度及折射率的两个介电材料层。
35. 根据权利要求33所述的薄膜堆叠，其中所述高反射比堆叠包含具有经选择以对以 所述不同相应波长传播的光达成大于95%的明视上加权的反射率的厚度及折射率的一或 多个成对的介电材料层。
【专利摘要】本发明提供用于吸收膜堆叠的系统、方法及设备。在一方面中，所述吸收膜堆叠为干涉吸收膜堆叠，对于选定波长的光，所述干涉吸收膜堆叠通过在材料堆叠内建立驻波而减少从所述堆叠的表面反射的光。在一些实施方案中，吸收层可放置于驻波干扰模式的峰值处。可实施所述吸收层以吸收选定波长的光且实质上减少不需要反射的量。在一些其它实施方案中，反射性表面可形成于所述堆叠的与所述吸收层相对的所述表面上。
【IPC分类】G02B5-22, G02B26-00
【公开号】CN104769462
【申请号】CN201380056880
【发明人】吉安·J·马, 约翰·H·宏, 泰里斯·Y·江, 忠·U·李
【申请人】皮克斯特隆尼斯有限公司
【公开日】2015年7月8日
【申请日】2013年10月23日
【公告号】US20140118360, WO2014070551A1