伸方向的长度设为I ?50 μ m0
[0031]本发明的纳米结构体能够通过以下方式制作，S卩，在没有编码区域的公知的纳米结构体的制作方法中，形成潜影图案的工序中使激光偏转，以使潜影图案基于编码信号而曲折行进。即，本发明的纳米结构体能够通过以下工序制作:
在原盘的表面形成抗蚀剂层的工序；
对原盘上的抗蚀剂层脉冲照射激光，并且使照射位置移动，从而形成由以曝光部构成的斑点状潜影的曝光方向的微细间距的排列构成的轨道多列配置而成的潜影图案的工序，其中使激光偏转，以使轨道沿该轨道的延伸方向曲折行进；
将潜影进行显影而形成抗蚀剂图案的工序；
以抗蚀剂图案为掩模对原盘进行蚀刻处理从而在原盘的表面形成凹凸图案的工序；以及
对树脂材料转印原盘的表面凹凸的工序。
[0032]图4是对形成潜影图案合适的滚筒原盘曝光装置10的概略说明图。该滚筒原盘曝光装置10具有:发射用于对滚筒原盘11的表面贴膜的抗蚀剂层12进行曝光的激光(波长266nm)的激光源13 ;从激光源13出射的激光L入射的电光学元件(E0M)14 ;由偏振分束器构成的反射镜15 ;以及光电二极管16，由光电二极管16接受透射反射镜15的偏振分量，光电二极管16控制电光学元件14而进行激光L的相位调制，从而使激光噪声成为± I %以下。
[0033]另外，该滚筒原盘曝光装置I具有对于相位调制的激光L进行强度调制和激光的偏转的调制偏转光学系统(0M/0D) 17。调制偏转光学系统(0M/0D) 17具备聚光透镜18、音响光学元件/音响光学偏转元件(AOM (Acoustic-Optical Modulator)/AOD(Acoustic-Optical Diflector))19、制造平行光的透镜20。另外，具有形成潜影的二维图案的成型机21和驱动器22，成型机21控制对抗蚀剂层12照射激光的定时，驱动器22控制音响光学元件/音响光学偏转元件(A0M/A0D) 19，从而对激光进行调制。
[0034]该潜影的二维图案的形成中，更具体而言，成型机21按每一个轨道产生极性反转成型机信号和使滚筒原盘11的旋转控制器同步的信号，利用A0M/A0D19进行强度调制。通过以恒定角速度(CAV)且适当的转速和适当的调制频率进行曝光，从而能够以既定间距形成既定大小的斑点状潜影。另外，使激光曲折行进的信号从成型机21供给驱动器22，通过采用Sin波、脉冲串波等的FM调制或AM调制的一种或适当组合多种进行调制，从而AOM/A0D19控制激光的照射方向，在潜影的二维图案形成曝光方向的曲折行进。
[0035]例如，在形成六方格子的潜影图案的情况下，使滚筒原盘11的圆周方向的周期(即，曝光方向的间距Pl)为315nm、对于圆周方向约60度方向(约-60度方向)的倾斜间距P2为300nm、输送间距Tp为251nm (勾股定理)。在该情况下，滚筒原盘11的转速采用为例如1800、900、450rpm，对应于该转速确定成型机21的极性反转成型机信号的频率。还能同样地形成准六方格子、四方格子、准四方格子的图案的潜影。
[0036]由A0M/A0D19进行强度调制，并且响应使激光曲折行进的信号而偏转的激光，在反射镜23反射，通过移动台24上的光束扩展器(BEX)25成形为期望的光束形状，经由物镜26照射滚筒原盘11上的抗蚀剂层12。更具体而言，例如，用光束扩展器25放大到5倍的光束直径，经由数值孔径(NA) 0.9的物镜26照射滚筒原盘11上的抗蚀剂层12。
[0037]滚筒原盘11承载于连接到主轴电动机27的转台28。因此，使滚筒原盘11旋转的同时，一边使激光沿高度方向移动一边向抗蚀剂层12脉冲照射激光。通过这样照射而在抗蚀剂层12形成的潜影，成为在圆周方向具有长轴的大致椭圆形状。
[0038]以上，虽然说明了使用滚筒原盘曝光装置10在抗蚀剂层12形成潜影图案的方法，但是在本发明的纳米结构体的制造方法中，也可以通过曝光在盘型原盘形成潜影图案。
[0039]在形成潜影图案后，对抗蚀剂层12进行显影处理，进行使曝光的部分的抗蚀剂溶解的显影，从而形成抗蚀剂图案。
[0040]接着，以抗蚀剂图案为掩模，对原盘进行蚀刻处理，从而在原盘的表面形成凹凸图案。该构图通过例如在CHF3气体气氛中进行等离子体蚀刻而进行。
[0041]将这样形成的在表面具有微细的凹凸图案的原盘与丙烯片等的UV树脂材料密合，通过紫外线照射等来使树脂材料硬化，并通过剥离，能够得到转印有原盘表面的微细凹凸的纳米结构体。在此，作为原盘若使用滚筒原盘，则能够得到以滚筒对滚筒方式编码的纳米结构体的大面积的片。
[0042]本发明的纳米结构体，在显示器、光电子学、光通信(光纤)、太阳能电池、照明装置等各种光器件中，为了得到基于纳米结构的功能而能够优选使用。
[0043]按照纳米结构体的用途，也可以在纳米结构体的表面形成由ITO (Ιη203、3]102:铟锡氧化物)、ΑΖ0 (Α1203、Ζη0:掺铝氧化锌)、SZ0、FT0 (掺氟氧化锡)、Sn02 (氧化锡)、GZ0 (掺镓氧化锌)、IZO (ln203、ZnO:氧化铟锌)等构成的透明导电膜。在该情况下，优选使透明导电膜沿着纳米结构体的表面凹凸。透明导电膜能够通过溅射、湿涂等来形成。
[0044]标号说明
UlBUC纳米结构体；2基体；3结构体；10滚筒原盘曝光装置；11滚筒原盘；12抗蚀剂层；13激光源；14电光学元件(EOM) ;15反射镜；16光电二极管；17调制偏转光学系统(0M/0D) ；18聚光透镜；19音响光学元件/音响光学偏转元件(AOM/A0D) ;20透镜；21成型机；22驱动器；23反射镜；24移动台；25光束扩展器(BEX) ；26物镜；27主轴电动机；28转台；L激光；Pl间距(曝光方向)；P2倾斜间距；R1、R3曲折行进区域；R2、R4非曲折行进区域；Τ1、Τ2、Τ3、Τ4轨道；Τρ轨道间距或输送间距。
【主权项】
1.一种纳米结构体，多列配置由利用基体表面的凸部或凹部形成的结构体的排列构成的轨道而成，其中，通过使结构体的排列沿轨道的延伸方向曲折行进而实施编码。2.如权利要求1所述的纳米结构体，其中，曲折行进区域设置在沿轨道的延伸方向观察纳米结构体的情况下的一部分或全部区域。3.如权利要求1或2所述的纳米结构体，其中，利用曲折行进的周期或曲折行进的振幅来编码。4.如权利要求1?3的任一项所述的纳米结构体，其中，各轨道的曲折行进的相位一致。5.一种权利要求1?3的任一项所述的纳米结构体的制作方法，其中包括: 在原盘的表面形成抗蚀剂层的工序； 对原盘上的抗蚀剂层脉冲照射激光，并且使照射位置移动，从而形成由以曝光部构成的斑点状潜影的曝光方向的微细间距的排列构成的轨道多列配置而成的潜影图案的工序; 将潜影进行显影而形成抗蚀剂图案的工序； 以抗蚀剂图案为掩模对原盘进行蚀刻处理从而在原盘的表面形成凹凸图案的工序；以及 对树脂材料转印原盘的表面凹凸的工序， 在形成所述潜影图案的工序中，以使轨道沿该轨道的延伸方向曲折行进的方式使激光偏转。6.如权利要求5所述的纳米结构体的制作方法，其中，采用调制偏转光学系统来进行激光的脉冲照射的曲折行进。
【专利摘要】实施有编码的纳米结构体，具有多列配置由利用基体表面的凸部或凹部形成的结构体的排列构成的轨道的结构。通过使结构体的排列沿轨道的延伸方向曲折行进而实施编码。
【IPC分类】B82Y40/00, G02B1/118, B82Y20/00
【公开号】CN105209937
【申请号】CN201480007762
【发明人】远藤惣铭
【申请人】迪睿合株式会社
【公开日】2015年12月30日
【申请日】2014年1月24日
【公告号】US20160109620, WO2014123008A1