热喷涂旋转靶材基管校直装置制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种热喷涂旋转靶材基管校直装置，包括安装在工作台上的导轨，其特征是：所述导轨内设有两个V型块支座，V型块支座的底端与导轨相配合、可沿导轨滑动，V型块支座的顶端设有V型块，V型块的V型槽中放置待校基管，待校靶材的两端分别设置主动回转中心和从动回转中心，待校基管的上方设有液压冲头，待校基管的下方设有数字千分表。本实用新型结构简单、合理，校直精度高、校直范围大，可以有效提高旋转靶材的成品率，降低成本。
【专利说明】热喷涂旋转?E材基管校直装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种校直装置，尤其是一种热喷涂旋转靶材基管的校直装置。
【背景技术】
[0002]镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。更换不同的靶材，就可以得到具有不同功能的薄膜。
[0003]靶材基管的直线度非常重要，不然会导致生产完的靶材无法正常使用，大大增加了工厂成本，浪费人力物力。靶材在生产过程中有一道基管前处理工艺，在热喷涂工艺前需要对基管进行校直作业。目前基管是初步测下跳动度，就上车床加工，使其有时基管不直，导致加工不出合格的产品，降低了劳动效率，增加生产成本。
【发明内容】
[0004]本实用新型的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种热喷涂旋转靶材基管校直装置，该装置可以有效的校直旋转靶材基管，提高产品合格率，降低废品率。
[0005]按照本实用新型提供的技术方案，一种热喷涂旋转靶材基管校直装置，包括安装在工作台上的导轨，其特征是:所述导轨内设有两个V型块支座，V型块支座的底端与导轨相配合、可沿导轨滑动，V型块支座的顶端设有V型块，V型块的V型槽中放置待校基管，待校靶材的两端分别设置主动回转中心和从动回转中心，待校基管的上方设有液压冲头，待校基管的下方设有数字千分表。
[0006]所述两个V型块支座之间设有可动支承。
[0007]所述主动回转中心和从动回转中心分别通过支架固定在工作台上。
[0008]所述数字千分表设置在千分表支座上，千分表支座可沿待校祀材基管的轴向移动。
[0009]所述V型块支座的下方设有称重传感器。
[0010]本实用新型所述热喷涂旋转靶材基管校直装置，结构简单、合理，校直精度高、校直范围大，使用该装置可以有效提高旋转靶材的成品率，降低成本。
【专利附图】
【附图说明】
[0011]图1为本实用新型的结构示意图。
[0012]图2为图1的剖视图。
【具体实施方式】
[0013]下面结合具体附图对本实用新型作进一步说明。
[0014]如图1、图2所示:所述热喷涂旋转祀材校直装置包括主动回转中心1、支架2、V型块3、数字千分表4、待校靶材基管5、液压冲头6、可动支承7、从动回转中心8、工作台9、导轨10、V型块支座11等。
[0015]本实用新型包括安装在工作台9上的导轨10，导轨10内设有两个V型块支座11，V型块支座11的底端与导轨10相配合、可沿导轨10滑动，V型块支座11的下方设有称重传感器(图中未示出)，V型块支座11的顶端设有V型块3，V型块3的V型槽中上放置待校靶材基管5，两个V型块支座11之间设有可动支承7，可动支承7用于支撑待校靶材基管5，待校靶材基管5的两端分别设置主动回转中心I和从动回转中心8，主动回转中心I和从动回转中心8分别通过支架2固定在工作台9上，待校靶材基管5的上方设有液压冲头6，待校靶材基管5的下方设有数字千分表4，数字千分表4通过RS-232串行总线与单片机系统通信，数字千分表4设置在千分表支座(图中未不出)上,千分表支座可沿待校祀材基管5的轴向移动。
[0016]本实用新型的工作原理及工作过程:当待校靶材基管5放入V型块3的V型槽中后，气缸运动推动从动回转中心8将待校靶材基管5顶紧，然后由步进电机带动待校靶材基管5转动，每旋转一个分度，数字千分表4检测待校靶材基管5该位置的跳动度并由步进电机步数记录相应的相位，根据检测结果判断待校靶材基管5的最大弯曲量及其位置；当待校靶材基管5旋转测量时，主动回转中心I和从动回转中心8的轴线为测量基准，数字千分表4所检测的靶材基管表面跳动度值是相对于轴线的跳动量，然后通过RS-232串行总线传送给单片机系统进行处理；
[0017]确定待校靶材基管5的最大弯曲量及其位置后，先由步进电机驱动待校靶材基管5转动，使其最大弯曲处竖直向上，再由电机驱动压力机小车将液压冲头6移到零件最大弯曲处，然后液压冲头6压下完成第一次校直过程，完成第一次校直过程后，进行检测，如果检测结果显示待校靶材基管5的弯曲情况在允许范围内，停机，完成本次校直工作；如果检测结果显示校直后不合格，则重复以上的校直过程，直到弯曲情况在允许范围内。
【权利要求】
1.一种热喷涂旋转靶材基管校直装置，包括安装在工作台(9)上的导轨(10)，其特征是:所述导轨(10)内设有两个V型块支座(11)，V型块支座(11)的底端与导轨(10)相配合、可沿导轨(10)滑动，V型块支座(11)的顶端设有V型块(3)，V型块(3)的V型槽中放置待校基管(5)，待校基管(5)的两端分别设置主动回转中心(I)和从动回转中心(8)，待校基管(5)的上方设有液压冲头(6)，待校基管(5)的下方设有数字千分表(4)。
2.如权利要求1所述的热喷涂旋转靶材基管校直装置，其特征是:所述两个V型块支座(11)之间设有可动支承(7 )。
3.如权利要求1所述的热喷涂旋转靶材基管校直装置，其特征是:所述主动回转中心(I)和从动回转中心(8)分别通过支架(2)固定在工作台(9)上。
4.如权利要求1所述的热喷涂旋转靶材基管校直装置，其特征是:所述数字千分表(4)设置在千分表支座上，千分表支座可沿待校祀材基管(5)的轴向移动。
5.如权利要求1所述的热喷涂旋转靶材基管校直装置，其特征是:所述V型块支座(II)的下方设有称重传感器。
【文档编号】B21D3/10GK203972531SQ201420334972
【公开日】2014年12月3日 申请日期:2014年6月20日 优先权日:2014年6月20日
【发明者】胡习光, 秦国强, 张志祥, 常金永 申请人:江阴恩特莱特镀膜科技有限公司