专利名称：研磨头保湿清洗装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种清洗装置，尤其涉及一种研磨头保湿清洗装置。
背景技术：
随着半导体行业的发展，集成电路制造行业发展迅速。其中，化学机械研磨(CMP) 作为芯片加工中必不可少的一道工艺也面临着越来越高的挑战。CMP机台最核心的部件就是研磨头清洗及硅片装卸单元(HCLU)中的研磨头。由 于研磨头直接与晶圆接触，并带着晶圆在衬垫上研磨。因此，对研磨头的要求非常高，研磨 头需要一直保持干净。如果研磨头不干净，上面的脏东西和颗粒物质(如研磨液残留的结 晶)就会落到晶圆上，造成晶圆的刮伤。请参阅图1，图1所示是现有的研磨头保湿清洗装置的结构示意图。从图1可见， 在HCLU上只有一个设有喷射支撑管1上的喷嘴11清洗研磨头2，而且喷嘴11喷水角度及 喷水的覆盖范围比较小，没有完全覆盖到研磨头，而且几乎没有覆盖到研磨头2上方的转 轴3和横向导轨4。因此，在研磨过程中飞溅起来的研磨液残留在转轴3和横向导轨4上。 而残留的研磨液就会转轴3和横向导轨4的表面结晶，并在研磨过程中掉下来，造成晶圆的 刮伤。因此，如何提供一种可以彻底、有效地清洗和润湿研磨头及其上方的转轴和横向 导轨的研磨头保湿清洗装置是本领域亟待解决的一个技术问题。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种研磨头保湿清洗装置，可以彻底、有效地清洗和 润湿研磨头及其上方的转轴和横向导轨。为了达到上述的目的，本实用新型采用如下技术方案一种研磨头保湿清洗装置，包括设置在所述研磨头侧边的喷射支撑管，所述喷射 支撑管设有用于清洗研磨头的喷嘴，所述研磨头通过一转轴设置在一横向导轨的下方，所 述喷嘴有两个以上，所述喷嘴所喷出的水雾范围涉及研磨头、转轴和横向导轨。所述喷嘴有两到四个。所述喷嘴有两个。所述喷射支撑管的横截面形状是圆形。所述喷射支撑管的横截面形状是三角形。所述喷射支撑管的横截面形状是矩形。所述喷射支撑管的横截面形状是椭圆形。所述转轴通过电机带动转动。本实用新型的有益效果如下本实用新型研磨头保湿清洗装置，结构简单、使用方便，由于所述喷嘴所喷出的水 雾范围不但涉及研磨头，而且还涉及转轴和横向导轨，因此可以彻底清洗研磨头及其周边的部件(如转轴和横向导轨)上的脏东西及研磨液残留，从而防止研磨头、转轴及横向导轨 上留有脏东西及研磨液，避免这些脏东西及研磨液残留结晶在研磨过程中落在晶圆上，造 成晶圆损伤。同时，由于本研磨头保湿清洗装置可以其可以彻底清洗研磨头、转轴及横向导 轨，因此可以减少停机进行人工清洗的频率，从而有效减少了停机时间和维护成本。另外， 研磨头保湿清洗装置还对研磨头具有保湿作用。
本实用新型的研磨头保湿清洗装置由以下的实施例及附图给出。图1是现有的研磨头保湿清洗装置的结构示意图；图2是本实用新型的研磨头保湿清洗装置的结构示意图；图中，1-喷射支撑管、11-喷嘴、2-研磨头、3-转轴、4-横向导轨。
具体实施方式
以下将对本实用新型的研磨头保湿清洗装置作进一步的详细描述。下面将参照附图对本实用新型进行更详细的描述，其中表示了本实用新型的优选 实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本实用新型而仍然实现本实用新型 的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对 本实用新型的限制。为了清楚，不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中，不详细描述公知的功能 和结构，因为它们会使本实用新型由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例 的开发中，必须作出大量实施细节以实现开发者的特定目标，例如按照有关系统或有关商 业的限制，由一个实施例改变为另一个实施例。另外，应当认为这种开发工作可能是复杂和 耗费时间的，但是对于本领域技术人员来说仅仅是常规工作。为使本实用新型的目的、特征更明显易懂，
以下结合附图对本实用新型的具体实 施方式作进一步的说明。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率， 仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。请参见图2，图2所示为本实施例研磨头保湿清洗装置的结构示意图。这种研磨头 保湿清洗装置，包括设置在所述研磨头2侧边的喷射支撑管1，所述喷射支撑管1设有用于 清洗研磨头2的喷嘴11，所述研磨头2通过一转轴3设置在一横向导轨4的下方。本实施 例中，所述研磨头2固定连接在转轴3的下端，所述转轴3的上端滑动式连接于横向导轨4。 所述喷嘴11有两个以上，所述喷嘴11所喷出的水雾范围涉及研磨头2、转轴3和横向导轨 4。所述转轴3通过电机带动转动，在转动过程中带动研磨头2转动。为了使得所述喷嘴11所喷出的水雾范围不但涉及研磨头2，而且还涉及转轴3和 横向导轨4，所述喷嘴11至少有两个以上。所述喷嘴11可以是两到四个。本实施例中，所 述喷嘴11有两个，上下间隔分布于所述喷射支撑管1。所述喷射支撑管1形状可以为任意形状。可以采用制造工艺比较方便的形状。如 所述喷射支撑管1的横截面形状是圆形或三角形或矩形或椭圆形等等。本实用新型研磨头保湿清洗装置，结构简单、使用方便，由于所述喷嘴所喷出的水 雾范围不但涉及研磨头，而且还涉及转轴和横向导轨，因此可以彻底清洗研磨头及其周边的部件(如转轴和横向导轨)，从而，防止研磨头、转轴及横向导轨上留有脏东西及研磨液， 避免这些脏东西及研磨液残留结晶在研磨过程中落在晶圆上，造成晶圆损伤。同时，由于本 研磨头保湿清洗装置可以其可以彻底清洗研磨头、转轴及横向导轨，因此可以减少停机进 行人工清洗的频率，从而有效减少停机时间和维护成本。另外，研磨头保湿清洗装置还对研 磨头具有保湿作用。 显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用 新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及 其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
权利要求1.一种研磨头保湿清洗装置，包括设置在所述研磨头侧边的喷射支撑管，所述喷射支 撑管设有用于清洗研磨头的喷嘴，所述研磨头通过一转轴设置在一横向导轨的下方，其特 征在于，所述喷嘴有两个以上，所述喷嘴所喷出的水雾范围涉及研磨头、转轴和横向导轨。
2.如权利要求1所述的研磨头保湿清洗装置，其特征在于，所述喷嘴有两到四个。
3.如权利要求2所述的研磨头保湿清洗装置，其特征在于，所述喷嘴有两个。
4.如权利要求1所述的研磨头保湿清洗装置，其特征在于，所述喷射支撑管的横截面 形状是圆形。
5.如权利要求1所述的研磨头保湿清洗装置，其特征在于，所述喷射支撑管的横截面 形状是三角形。
6.如权利要求1所述的研磨头保湿清洗装置，其特征在于，所述喷射支撑管的横截面 形状是矩形。
7.如权利要求1所述的研磨头保湿清洗装置，其特征在于，所述喷射支撑管的横截面 形状是椭圆形。
8.如权利要求1所述的研磨头保湿清洗装置，其特征在于，所述转轴通过电机带动转动。
专利摘要本实用新型涉及一种清洗装置，尤其涉及一种研磨头保湿清洗装置。这种研磨头保湿清洗装置，包括设置在所述研磨头侧边的喷射支撑管，所述喷射支撑管设有用于清洗研磨头的喷嘴，所述研磨头通过一转轴设置在一横向导轨的下方，所述喷嘴有两个以上，所述喷嘴所喷出的水雾范围涉及研磨头、转轴和横向导轨。由于所述喷嘴所喷出的水雾范围不但涉及研磨头，而且还涉及转轴和横向导轨，因此可以彻底清洗研磨头、转轴和横向导轨，从而，防止研磨头、转轴及横向导轨上留有脏东西及研磨液，避免这些脏东西及研磨液残留结晶在研磨过程中落在晶圆上，造成晶圆损伤。同时，可以减少停机进行人工清洗的频率，从而有效减少停机时间和维护成本。
文档编号B24B55/00GK201856166SQ20102050597
公开日2011年6月8日 申请日期2010年8月26日 优先权日2010年8月26日
发明者余文军, 左少杰, 曹开玮, 熊世伟, 王怀锋 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司, 武汉新芯集成电路制造有限公司