专利名称：蒸镀设备的制作方法
技术领域：
本发明是有关于一种蒸镀设备，且特别是有关于一种能够在大尺寸基板上进行薄膜沉积的蒸镀设备。
背景技术：
近来环保意识抬头，具有低消耗功率、空间利用效率佳、无辐射、高画质等优越特性的平面显示装置已成为市场主流。常见的平面显示装置包括液晶显示装置、电浆显示装置、有机电激发光显示装置等。以有机电激发光显示装置为例，其是一种自发光型的显示装置，无须使用背光模组，故可省去背光模组的制造成本以及背光模组本身所消耗的能源。此外，由于有机电激发光显示装置无视角问题，且具有全彩化、高应答速度等特性，故有机电激发光显示装置已经成为一种兼具性能及环保概念的平面显示装置。一般来说，有机电激发光显示装置的制作包括将阳极、有机电激发光层、阴极等膜层制作于基板之上。以现有技术而言，有机电激发光层与阴极多采用单一遮罩搭配蒸镀的方式进行制作，故所使用的遮罩的尺寸通常需与基板的尺寸相当。由于基板持续朝着大尺寸的方向发展，故蒸镀工艺所需使用到的遮罩的尺寸亦随之增加，然而，大尺寸的遮罩在制作上十分困难，造成制作成本的负担。此外，大尺寸遮罩容易有结构强度不足、因重力作用而下垂等问题，因此，如何在大尺寸基板上进行蒸镀加工，实为此领域研发的重点之一。
发明内容
本发明提供一种蒸镀设备，其能够在大尺寸基板上进行薄膜沉积。本发明提供一种蒸镀设备，其包括一基板载具、至少一可移动蒸镀源以及至少一可移动遮罩。基板载具适于承载一基板，可移动蒸镀源位于基板下方，且可移动蒸镀源在基板上的蒸镀范围小于基板的尺寸。可移动遮罩配置于可移动蒸镀源与基板之间，其中可移动遮罩具有一图案化开孔，且可移动遮罩的遮蔽范围大于或等于可移动蒸镀源在基板上的蒸镀范围。本发明另提供一种蒸镀设备，其包括一基板载具、至少一可移动蒸镀源以及多个遮罩。基板载具适于承载一基板，而可移动蒸镀源位于基板下方，且可移动蒸镀源在基板上的蒸镀范围小于基板的尺寸。遮罩配置于可移动蒸镀源与基板之间，其中各遮罩具有一图案化开孔，且各遮罩的遮蔽范围大于或等于可移动蒸镀源在基板上的蒸镀范围。本发明利用可移动蒸镀源与可移动遮罩的搭配，或者利用与可移动蒸镀源与多个遮罩的搭配，以于基板的不同区域上分别进行蒸镀，由于可移动遮罩与各个遮罩的尺寸无须与基板相当，因此本发明可以有效降低可移动遮罩与遮罩的制作困难度。以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。
图IA至图ID为本发明第一实施例的蒸镀设备的示意图2为本发明第一实施例的蒸镀设备的侧视示意图；图3A至图;3B为本发明第二实施例的蒸镀设备的示意图；图4为本发明第二实施例的蒸镀设备的侧视示意图。其中，附图标记100、100，蒸镀设备110:基板载具120:可移动蒸镀源130:可移动遮罩130，遮罩130a:图案化开口130b 有效区130c 周边区SUB 基板Al 遮蔽范围A2 蒸镀范围A3 镀膜区Pl PlO 移动路径
具体实施例方式下面结合附图和具体实施例对本发明技术方案进行详细的描述，以更进一步了解本发明的目的、方案及功效，但并非作为本发明所附权利要求保护范围的限制。图IA至图ID为本发明第一实施例的蒸镀设备的示意图，而图2为本发明第一实施例的蒸镀设备的侧视示意图。请参照图IA与图2，本实施例的蒸镀设备100包括一基板载具110、一可移动蒸镀源120以及一可移动遮罩130。基板载具110适于承载一基板SUB， 可移动蒸镀源120位于基板SUB下方，且可移动蒸镀源120在基板SUB上的蒸镀范围A2小于基板SUB的尺寸。可移动遮罩130配置于可移动蒸镀源120与基板SUB之间，其中可移动遮罩130具有一图案化开孔130a，且可移动遮罩130的遮蔽范围A 1大于或等于可移动蒸镀源120在基板SUB上的蒸镀范围A2。值得注意的是，遮蔽范围Al的形状与蒸镀范围 A2的形状相似，举例而言，遮蔽范围Al与蒸镀范围A2皆为矩形范围。在本实施例中，基板SUB上可区分为多个呈阵列排列的镀膜区A3，而可移动遮罩 130具有一对应于各个镀膜区A3的有效区130b以及一环绕有效区130b的周边区130c，且周边区130b的外缘定义出可移动遮罩130的遮蔽范围Al。从图2可清楚得知，基板SUB上的各个镀膜区A3是彼此分离，但不以此为限。换言之，各个镀膜区A3亦可彼此相邻(未绘示)，可移动蒸镀源120的数量与可移动遮罩130的数量相同，而镀膜区A3的数量则大于可移动遮罩130的数量。在本实施例中，镀膜区A3的数量例如是6个，而可移动蒸镀源120 的数量与可移动遮罩130的数量例如皆为1个，但不以此为限。为了使基板SUB上所有的镀膜区A3的蒸镀顺利进行，可移动蒸镀源120与可移动遮罩130需于基板SUB下方同步移动。详言之，可移动蒸镀源120会沿着移动路径Pl移动多次并且依序停留在各个镀膜区A3下方，而可移动遮罩130会沿着移动路径P2移动多次并且依序停留在各个镀膜区A3下方，且可移动遮罩130始终维持在可移动蒸镀源120上方以利蒸镀的进行。换言之，每当可移动蒸镀源120与可移动遮罩130移动至一个镀膜区A3 的下方时，可移动蒸镀源120与可移动遮罩130会暂时停止移动，并对此镀膜区A3进行蒸镀。在某个镀膜区A3完成蒸镀之后，可移动蒸镀源120与可移动遮罩130会分别沿着移动路径Pl与移动路径P2再次移动至下一个镀膜区A3的下方，并对下一个镀膜区A3进行蒸镀。承上述，由于基板SUB上的不同镀膜区A3不会在同一时间点进行蒸镀，而是在多个时间点分别进行蒸镀，因此可移动蒸镀源120与可移动遮罩130的尺寸无须与基板Sra 的尺寸相当。举例而言，可移动遮罩130的尺寸仅需与各个镀膜区A3的面积相当(相等或略大)。由于本实施例中所使用的可移动蒸镀源120与可移动遮罩130的尺寸可以小于基板SUB的尺寸，因此本实施例不会面临公知大尺寸遮罩所遭遇到的问题(如结构强度不足、 因重力作用而下垂等问题)。从图IA可清楚得知，可移动蒸镀源120与可移动遮罩130是沿着一 U形路径(P1、 P2)于基板SUB下方同步移动。然而，本发明并不限定可移动蒸镀源120与可移动遮罩130的移动路径必须为U 形路径，此领域具有通常知识者亦可将可移动蒸镀源120与可移动遮罩130的移动路径修改为迂回形路径(P3、P4)，如图IB所示。接着请参照图IC与图1D，本实施例的蒸镀设备100亦可以同时采用多个可移动蒸镀源120以及多个可移动遮罩130，且可移动蒸镀源120的数量仍须与可移动遮罩130的数量相同。如图IC所示，可移动蒸镀源120的数量与可移动遮罩130的数量皆为2个，且可移动蒸镀源120与可移动遮罩130是沿着一直线路径(P5、P5’、P6、P6’ )于基板SUB下方同步移动。如图ID所示，可移动蒸镀源120的数量与可移动遮罩130的数量皆为2个，且可移动蒸镀源120与可移动遮罩130是沿着一 L形路径(P7、P7’、P8、P8’ )于基板SUB下方同步移动。值得注意的是，前述的可移动蒸镀源120与可移动遮罩130的移动路径仅是用以举例说明，其并非用以限定本发明，此领域具有通常知识者可根据基板SUB的尺寸以及其他的设计需求，适度地更动可移动蒸镀源120与可移动遮罩130的移动路径。当选用多个可移动蒸镀源120以及多个可移动遮罩130对基板SUB上的镀膜区A3 进行蒸镀时，可以缩短蒸镀加工所需的时间，进而提升产能(throughput)。第二实施例图3A至图;3B为本发明第二实施例的蒸镀设备的示意图，而图4为本发明第二实施例的蒸镀设备的侧视示意图。请参照图3A与图4，本实施例的蒸镀设备100’包括一基板载具110、至少一可移动蒸镀源120以及多个遮罩130’。基板载具110适于承载一基板 SUB，而可移动蒸镀源120位于基板SUB下方，且可移动蒸镀源120在基板SUB上的蒸镀范围A2小于基板SUB的尺寸。遮罩130’配置于可移动蒸镀源120与基板SUB之间，其中各遮罩130’具有一图案化开孔130a，且各遮罩130’的遮蔽范围Al大于或等于可移动蒸镀源 120在基板SUB上的蒸镀范围A2。值得注意的是，遮蔽范围Al的形状与蒸镀范围A2的形状相似，举例而言，遮蔽范围Al与蒸镀范围A2皆为矩形范围。在本实施例中，基板SUB上可区分为多个呈阵列排列的镀膜区A3，而各个遮罩130’分别具有一对应于各个镀膜区A3的有效区130b以及一环绕有效区130b的周边区 130c，且周边区130b的外缘定义出各个遮罩130’的遮蔽范围Al。从图4可清楚得知，基板 SUB上的各个镀膜区A3是彼此分离，但不以此为限。换言之，各个镀膜区A3亦可彼此相邻 (未绘示)，可移动蒸镀源120的数量少于遮罩130’的数量，而镀膜区A3的数量则与遮罩 130’的数量相同。在本实施例中，可移动蒸镀源120的数量例如为1个，而镀膜区A3与遮罩130’的数量例如皆为6个。为了使基板SUB上所有的镀膜区A3的蒸镀顺利进行，可移动蒸镀源120需于基板 SUB下方移动。详言之，可移动蒸镀源120会沿着移动路径P9移动多次并且依序停留在各个镀膜区A3(即不同遮罩130’)的下方以利蒸镀的进行。换言之，每当可移动蒸镀源120 移动至一个镀膜区A3的下方时，可移动蒸镀源120会暂时停止移动，并对此镀膜区A3进行蒸镀。在某个镀膜区A3完成蒸镀之后，可移动蒸镀源120会沿着移动路径P9再次移动至下一个镀膜区A3的下方，并对下一个镀膜区A3进行蒸镀。承上述，由于基板SUB上的不同镀膜区A3不会在同一时间点进行蒸镀，而是在多个时间点分别进行蒸镀，因此可移动蒸镀源120与遮罩130’的尺寸无须与基板SUB的尺寸相当。举例而言，可移动蒸镀源120与遮罩130’的尺寸仅需与各个镀膜区A3的面积相当 (相等或略大)。由于本实施例中所使用的可移动蒸镀源120与遮罩130’的尺寸可以小于基板SUB的尺寸，因此本实施例不会面临公知大尺寸遮罩所遭遇到的问题(如结构强度不足、因重力作用而下垂等问题)。从图3A可清楚得知，可移动蒸镀源120是沿着一 U形路径P9于基板SUB下方移动。然而，本发明并不限定可移动蒸镀源120的移动路径必须为U形路径，此领域具有通常知识者亦可将可移动蒸镀源120的移动路径修改为迂回形路径(PlO)，如图;3B所示。图3A与图;3B中所揭露的实施例是采用单一可移动蒸镀源120，然而，本实施例并不限定所采用的可移动蒸镀源120的数量。举例而言，可移动蒸镀源120的数量为多个(例如2个或更多个)。当选用多个可移动蒸镀源120以及多个遮罩130’对基板SUB上的镀膜区A3进行蒸镀时，可以缩短蒸镀加工所需的时间，进而提升产能。本发明利用可移动蒸镀源与可移动遮罩的搭配，或者利用与可移动蒸镀源与多个遮罩的搭配，以于基板的不同区域上分别进行蒸镀，由于可移动遮罩与各个遮罩的尺寸无须与基板相当，因此本发明可以有效降低可移动遮罩与遮罩的制作困难度。当然，本发明还可有其它多种实施例，在不背离本发明精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本发明作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。
权利要求
1.一种蒸镀设备，其特征在于，包括一基板载具，适于承载一基板；至少一可移动蒸镀源，位于该基板下方，该可移动蒸镀源在该基板上的蒸镀范围小于该基板的尺寸；以及至少一可移动遮罩，配置于该可移动蒸镀源与该基板之间，其中该可移动遮罩具有一图案化开孔，且该可移动遮罩的一遮蔽范围大于或等于该可移动蒸镀源在该基板上的蒸镀范围。
2.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，该可移动蒸镀源的数量与该可移动遮罩的数量相同，且该可移动蒸镀源与该可移动遮罩于该基板下方同步移动。
3.如权利要求2所述的蒸镀设备，其特征在于，该可移动蒸镀源与该可移动遮罩沿着一 U形路径于该基板下方同步移动。
4.如权利要求2所述的蒸镀设备，其特征在于，该可移动蒸镀源与该可移动遮罩沿着一迂回形路径于该基板下方同步移动。
5.如权利要求2所述的蒸镀设备，其特征在于，该可移动蒸镀源的数量与该可移动遮罩的数量皆为多个。
6.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，该基板上具有多个呈阵列排列的镀膜区，而该可移动遮罩具有一对应于各该镀膜区的有效区以及一环绕该有效区的周边区，且该周边区的外缘定义出该可移动遮罩的该遮蔽范围。
7.如权利要求6所述的蒸镀设备，其特征在于，该可移动蒸镀源与该可移动遮罩同步移动于该些镀膜区之间，以于各该镀膜区上分别进行蒸镀。
8.一种蒸镀设备，其特征在于，包括一基板载具，适于承载一基板；至少一可移动蒸镀源，位于该基板下方，该可移动蒸镀源在该基板上的蒸镀范围小于该基板的尺寸；以及多个遮罩，配置于该可移动蒸镀源与该基板之间，其中各该遮罩具有一图案化开孔，且各该遮罩的一遮蔽范围大于或等于该可移动蒸镀源在该基板上的蒸镀范围。
9.如权利要求8所述的蒸镀设备，其特征在于，该可移动蒸镀源的数量少于该遮罩的数量。
10.如权利要求9所述的蒸镀设备，其特征在于，该可移动蒸镀源沿着一U形路径于该些遮罩下方移动。
11.如权利要求9所述的蒸镀设备，其特征在于，该可移动蒸镀源沿着一迂回形路径于该些遮罩下方移动。
12.如权利要求9所述的蒸镀设备，其特征在于，该可移动蒸镀源的数量为多个。
13.如权利要求8所述的蒸镀设备，其特征在于，该基板上具有多个呈阵列排列的镀膜区，而各该遮罩具有一对应于各该镀膜区的有效区以及一环绕该有效区的周边区，且该周边区的外缘定义出各该遮罩的该遮蔽范围。
14.如权利要求13所述的蒸镀设备，其特征在于，该些镀膜区的数量与该些遮罩的数量相同，而该可移动蒸镀源移动于该些镀膜区之间，以于各该镀膜区上分别进行蒸镀。
全文摘要
一种蒸镀设备，其包括一基板载具、至少一可移动蒸镀源以及至少一可移动遮罩。基板载具适于承载一基板，可移动蒸镀源位于基板下方，且可移动蒸镀源在基板上的蒸镀范围小于基板的尺寸。可移动遮罩配置于可移动蒸镀源与基板之间，其中可移动遮罩具有一图案化开孔，且可移动遮罩的遮蔽范围大于或等于可移动蒸镀源在基板上的蒸镀范围。由于可移动遮罩的尺寸无须与基板相当，因此本发明可以有效降低可移动遮罩的制作困难度。
文档编号C23C14/04GK102212785SQ20111013096
公开日2011年10月12日 申请日期2011年5月16日 优先权日2011年3月22日
发明者吴文豪, 林进志, 蔡纶, 陈佳榆 申请人:友达光电股份有限公司