专利名称：壳体及其制备方法
技术领域：
本发明涉及一种壳体及其制备方法。
背景技术：
类金刚石(Diamond-like Carbon, DLC)膜是一种非晶碳膜,碳原子主要以金刚石相(碳的键结形式为SP3)和石墨相(碳的键结形式为SP2)存在。当金刚石相多于石墨相时，DLC膜具有优异的耐磨性、高硬度及耐腐蚀性能，可被广泛应用于刀具及模具等领域。然而，目前应用在刀具及模具领域的DLC膜多采用多弧离子镀或者化学气相沉积(ChemicalVapor Deposition, CVD)方法形成，采用该类方法制得的DLC膜层表面往往不够光滑致密；且化学气相沉积工艺需采用60(Tl00(rC的沉积温度，容易造成基材性能的改变及尺寸的变形，限制了其进一步应用。
发明内容
有鉴于此，提供一种具有光滑致密的DLC膜的壳体。另外，还提供一种具有光滑致密的DLC膜的壳体的制备方法。一种壳体，包括基材及形成于基材表面的类金刚石层，该类金刚石层中碳-碳以SP3杂化键的方式键合的比例为80%以上。一种壳体的制备方法，其包括如下步骤
提供基材；
采用离子束辅助磁控溅射法在该基材的表面形成类金刚石层，使用石墨靶，以甲烷为离子源反应气体，该类金刚石层中碳-碳以sp3杂化键的方式键合的比例为80%以上。本发明所述DLC层光亮致密，具有良好的外观装饰效果且其耐刮伤、抗磨损性能及耐腐蚀效果优异，可有效改善壳体的外观效果并延长壳体的使用寿命。本发明所述壳体的制备方法在形成DLC层时，采用离子束辅助磁控溅射技术，并通过选取石墨靶和离子源反应气体甲烷作为两种不同的碳源，从而在基材上制备获得稳定的DLC层。所述制备方法可采用较低的镀膜温度，工艺简单且绿色环保。
图I为本发明一较佳实施例壳体的剖视 图2为本发明一较佳实施例真空镀膜机的俯视示意图。主要元件符号说明
权利要求
1.一种壳体，包括基材及形成于基材表面的类金刚石层，其特征在于该类金刚石层中碳-碳以SP3杂化键的方式键合的比例为80%以上。
2.如权利要求I所述的壳体，其特征在于该类金刚石层中含有碳-氢键。
3.如权利要求I所述的壳体，其特征在于该基材的材质为不锈钢、铝合金或钛合金。
4.如权利要求I所述的壳体，其特征在于该类金刚石层的厚度为2.3 2. 8 y m。
5.一种壳体的制备方法，其包括如下步骤 提供基材； 采用离子束辅助磁控溅射法在该基材的表面形成类金刚石层，使用石墨靶，以甲烷为离子源反应气体，该类金刚石层中的碳-碳以Sp3杂化键的方式键合的比例为80%以上。
6.如权利要求5所述的壳体的制备方法，其特征在于所述基材的材质为不锈钢、铝合金或钛合金。
7.如权利要求5所述的壳体的制备方法，其特征在于形成所述类金刚石层的步骤的具体工艺参数为镀膜温度为15(T200°C ;以氩气为溅射气体，氩气的流量为12(Tl50sCCm，石墨靶的功率为15 18kw，施加于基材的偏压为15(T200V，甲烷的流量为5(T60sCCm，离子源包括低能离子源及中能离子源，低能离子束流为6(T80mA，中能离子束流为l(T20mA ;沉积时间为42(T480min。
8.如权利要求5所述的壳体的制备方法，其特征在于所述类金刚石层的厚度为2.3 2. 8 u m。
9.如权利要求5所述的壳体的制备方法,其特征在于该类金刚石层中含有碳-氢键。
全文摘要
本发明提供一种壳体，包括基材及形成于基材表面的类金刚石层，该类金刚石层中碳-碳以sp3杂化键的方式键合的比例为80%以上。本发明所述类金刚石层光亮致密，具有良好的外观装饰效果且其耐刮伤、抗磨损及耐腐蚀性能优异。本发明还提供一种上述壳体的制备方法。
文档编号C23C14/35GK102808160SQ20111014746
公开日2012年12月5日 申请日期2011年6月2日 优先权日2011年6月2日
发明者曹达华, 刘旭 申请人:深圳富泰宏精密工业有限公司