专利名称：研磨平台及研磨方法
技术领域：
本发明涉及研磨清洗技术，尤其涉及一种研磨平台及研磨方法，以提升研磨效率。
背景技术：
现有技术中，玻璃、光学膜片例如偏光片等材料在使用前通常需要进行研磨清洗。 而现有的研磨平台使用聚氨酯(polyurethane)等硬质材料作为研磨垫固定在承载台上， 长时间使用后会出现磨耗，时间久了出现磨耗的地方将无法与被研磨物充分接触而导致研磨不尽。此外，在研磨的同时需要使用外界的喷水装置进行喷水以进行清洗，并需要较好的控制喷水角度，然此喷水角度较难控制。
发明内容
本发明的目的之一是提供一种研磨平台，以克服现有技术中存在的缺陷，提升研
磨效率。本发明的另一目的是提供一种研磨方法，以克服现有技术中存在的缺陷，提升研磨效率。具体地，本发明实施例提供的研磨平台包括承载台与柔性研磨垫。柔性研磨垫固定在承载台上；柔性研磨垫具有研磨表面，且研磨表面与承载台之间形成有容置空间以容置清洗流体；研磨表面上设置有多个通孔，且这些通孔与容置空间相连通。在本发明的实施例中，柔性研磨垫的材料可为硅胶(silicone)、橡胶(rubber)、 铁氟龙(teflon)和乳胶(latex)等中的至少一种。在本发明的实施例中，研磨平台还可包括安装在承载台上的流体输送管道，且流体输送管道与容置空间相连通以提供清洗流体。进一步地，流体输送管道上可设单向阀，以防止容置空间内的清洗流体回流。在本发明的实施例中，研磨平台还可包括成对设置的支撑墙，而成对设置的支撑墙安装在承载台上，且每对支撑墙设置在柔性研磨垫的相对两侧以支撑柔性研磨垫。进一步地，成对设置的支撑墙的高度可调节；甚至，成对设置的支撑墙的间距也可调节。在本发明的实施例中，柔性研磨垫的周缘固定在承载台上以与承载台共同围成容置空间。又或者，柔性研磨垫单独围成容置空间后再固定在承载台上。本发明另一实施例提供的研磨方法，适于执行在包括承载台与柔性研磨垫的研磨平台上；其中，柔性研磨垫固定在承载台上；柔性研磨垫具有研磨表面，且研磨表面与承载台之间形成有容置空间；研磨表面上设置有与容置空间相连通的多个通孔。所述研磨方法包括步骤提供清洗流体至容置空间内；提供被研磨物与研磨表面接触；以及施加特定压力在被研磨物上并使研磨平台与被研磨物作相对运动，且此特定压力使得容置空间内的清洗流体从通孔中流出以清洗被研磨物。在本发明的实施例中，研磨方法还可包括步骤在研磨平台与被研磨物作相对运动的过程中，持续提供清洗流体至容置空间内，以使清洗流体保持充满容置空间。
在本发明的实施例中，研磨平台与被研磨物作相对运动例如包括线性往复运动或旋转运动。在本发明的实施例中，提供清洗流体至容置空间内的步骤例如包括提供气态清洗流体至容置空间内；又或者，提供液态清洗流体至容置空间内，且液态清洗流体例如为纯水或清洁液。本发明实施例经由在研磨平台上使用韧性、可变形材料的柔性研磨垫，能够与被研磨物表面充分接触，可克服现有技术中因研磨平台长时间使用出现磨耗而无法与被研磨物充分接触所导致的研磨不尽；并且在研磨平台的柔性研磨垫与承载台之间设置容置空间来提供清洗流体，并在柔性研磨垫的研磨表面打孔，通过控制施加在被研磨物上的压力来控制清洗流体喷出量及研磨压力，达到边研磨边清洗的目的。因此，本发明可有效提升研磨效率。上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段， 而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。
图1绘示出相关本发明实施例的一种研磨平台的俯视图。图2绘示出图1所示研磨平台的局部剖视图。图3绘示出相关本发明实施例的再一种研磨平台的局部剖视图。图4绘示出相关本发明实施例的另一种研磨平台的局部剖视图。图5绘示出图2所示研磨平台对被研磨物进行研磨清洗的状态示意图。主要元件符号说明
权利要求
1.一种研磨平台，其特征在于，包括 承载台；柔性研磨垫，固定在所述承载台上；所述柔性研磨垫具有研磨表面，且所述研磨表面与所述承载台之间形成有容置空间以容置清洗流体；所述研磨表面上设置多个通孔，且所述通孔与所述容置空间相连通。
2.根据权利要求1所述的研磨平台，其特征在于，所述柔性研磨垫的材料选自硅胶、橡胶、铁氟龙和乳胶中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的研磨平台，其特征在于，所述研磨平台还包括安装在所述承载台上的流体输送管道，且所述流体输送管道与所述容置空间相连通以提供所述清洗流体。
4.根据权利要求3所述的研磨平台，其特征在于，所述流体输送管道上设置有单向阀， 以防止所述容置空间内的清洗流体回流。
5.根据权利要求1所述的研磨平台，其特征在于，所述研磨平台还包括成对设置的支撑墙，所述成对设置的支撑墙安装在所述承载台上，且每对支撑墙设置在所述柔性研磨垫的相对两侧以支撑所述柔性研磨垫。
6.根据权利要求5所述的研磨平台，其特征在于，所述成对设置的支撑墙的高度可调节。
7.根据权利要求5所述的研磨平台，其特征在于，所述成对设置的支撑墙的间距可调节。
8.根据权利要求1所述的研磨平台，其特征在于，所述柔性研磨垫的周缘固定在所述承载台上以与所述承载台共同围成所述容置空间。
9.根据权利要求1所述的研磨平台，其特征在于，所述柔性研磨垫单独围成所述容置空间后再固定在所述承载台上。
10.一种研磨方法，适于执行在研磨平台上，其特征在于，所述研磨平台包括承载台与固定在所述承载台上的柔性研磨垫，所述柔性研磨垫具有研磨表面且所述研磨表面与所述承载台之间形成有容置空间，所述研磨表面上设置与所述容置空间相连通的多个通孔；所述研磨方法包括步骤提供清洗流体至所述容置空间内； 提供被研磨物与所述研磨表面接触；以及施加特定压力在所述被研磨物上并使所述研磨平台与所述被研磨物作相对运动，所述特定压力使得所述容置空间内的清洗流体从所述通孔中流出以清洗所述被研磨物。
11.如权利要求10所述的研磨方法，其特征在于，还包括步骤在所述研磨平台与所述被研磨物作相对运动的过程中，持续提供清洗流体至所述容置空间内，以使所述清洗流体保持充满所述容置空间。
12.如权利要求10所述的研磨方法，其特征在于，所述研磨平台与所述被研磨物作相对运动包括线性往复运动或旋转运动。
13.如权利要求10所述的研磨方法，其特征在于，所述提供清洗流体至所述容置空间内的步骤包括提供气态清洗流体至所述容置空间内。
14.如权利要求10所述的研磨方法，其特征在于，所述提供清洗流体至所述容置空间内的步骤包括提供液态清洗流体至所述容置空间内，且所述液态清洗流体选自纯水或清洁液。
全文摘要
本发明涉及的研磨平台包括承载台与固定在承载台上的柔性研磨垫；柔性研磨垫具有研磨表面，且研磨表面与承载台之间形成有容置空间以容置清洗流体；研磨表面上设置有与容置空间相连通的多个通孔。此外，执行于上述研磨平台的研磨方法包括步骤提供清洗流体至容置空间内；提供被研磨物与研磨表面接触；以及施加特定压力在被研磨物上并使研磨平台与被研磨物作相对运动，且此特定压力使得容置空间内的清洗流体从通孔中流出以清洗被研磨物。本发明经由在研磨平台上使用柔性研磨垫，能够与被研磨物表面充分接触，可克服现有技术中研磨不尽的问题；并且在柔性研磨垫的研磨表面形成与提供清洗流体之容置空间相连通的通孔，可达到边研磨边清洗的目的。
文档编号B24D13/00GK102275124SQ20111014720
公开日2011年12月14日 申请日期2011年6月2日 优先权日2011年6月2日
发明者周洁, 梁双, 牛雯雯, 王磊 申请人:友达光电(苏州)有限公司, 友达光电股份有限公司