一种磁控溅射近距离中频孪生靶的制作方法

文档序号:3385816阅读:2174来源:国知局
专利名称:一种磁控溅射近距离中频孪生靶的制作方法
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜中频磁控溅射靶技术领域,特别是一种磁控溅射相距较近的中频孪生靶。
背景技术
磁控溅射靶是大面积真空镀膜设备中的主要装置之一,现代光电薄膜产品中需要大量沉积氧化物、氮化物等绝缘化合物薄膜,因此广泛应用中频反应磁控溅射技术。在中频反应溅射中,当靶上所加的电压处于负半周时,靶面被正离子溅射;而在正半周时,等离子体中的电子被加速到靶面,中和了靶面上积累的正电荷,从而抑制了打火。但在确定的工作场强下,频率越高,等离子体中正离子被加速的时间越短,正电场从外电场吸收的能量越少,轰击靶的正离子能量越低,靶的溅射速率也降低。由于溅射电压的频率范围处于 1(Γ80ΚΗζ范围,因此又叫中频溅射;现在真空镀膜设备中应用的中频溅射常用于溅射两个靶,通常为并排的两个靶,尺寸和外形全部相同,因此这两个靶常称为孪生靶。孪生靶在溅射室中悬浮安装,在溅射过程中,两个靶周期性轮流作为阴极与阳极,既抑制了打火,而且由于消除了普通直流反应磁控溅射中的阳极消失现象,从而使溅射过程得以稳定进行。为了使电子能更充分的互换到正半周的靶面上,充分中和靶面上的正电荷,要求两块孪生靶位的间距尽可能的减小,但是由于孪生靶阴极各自与门之间需要安装绝缘密封胶圈和聚四氟乙烯绝缘圈,而且两个阴极还需钻螺孔固定在靶门上,孪生靶中间还需要安装冷却水管,这样就限制了孪生靶之间的间隙。为减小孪生靶间的距离提高了很多难度要求。既要能限位固定,又要能很好的密封。常用的固定阴极的方法是在每个阴极的周围都打若干固定孔,每个孔上螺丝固定阴极和密封圈和聚四氟乙烯绝缘圈。
发明内容本实用新型为了克服以上现有技术存在的缺点提出的,其所解决的技术问题是提供一种能够使两块靶位的间距较小的磁控溅射中频孪生靶为此,本实用新型提供了一种磁控溅射近距离中频孪生靶,主要是有靶门、阴极座、密封圈、冷却水道、磁场连接块、磁场固定块、周边固定块、中间固定块、固定螺丝,其特征在于靶门上装有阴极座,阴极座周边嵌着密封圈,阴极座间装有冷却水道,磁场连接块和磁场固定块装在阴极座上,周边固定块与靶门阴极座和中间固定块相连,固定螺丝与两阴极座相连。所述周边固定块压在阴极座外边,通过固定螺丝装在靶门上。所述周边固定块是T型不锈钢块和T型绝缘层组成、中间有螺丝孔,T型绝缘层在 T型不锈钢块的下面。所述中间固定块两端压着阴极座内边,通过固定螺丝装在冷却水道上。所述中间固定块是长方形不锈钢块和长方形绝缘层组成、中间有螺丝孔,长方形绝缘层在长方形不锈钢块的下面。通过以上改进方法,去掉了现有技术中的孪生靶两侧固定阴极的螺丝,直接用周边固定块、中间固定块固定孪生靶,减小了两个孪生靶的间距。使得孪生靶在中频溅射的时作为阴极的电子更容易中和作为阳极的靶面绝缘层上的电荷,有效地消除了打火现象,溅射过程可以始终稳定地工作在设定的工作点上。本实用新型有益效果是在不改变箱体大小的情况下加大阴极座的宽度,提高溅射面积,同时提高磁控溅射效率,增大产能。
以下结合附图对本实用新型的具体实施方式
作进一步详细的说明。


图1为现有技术中磁控溅射中频孪生靶的结构示意图。图2为本实用新型的结构示意图。图3为本实用新型周边固定块的结构示意图。图4为本实用新型中间固定块的结构示意图。图中,1为靶门、2为阴极座、3为密封圈、4为冷却水道、5为磁场连接块、6为磁场固定块、7为周边固定块、8为中间固定块、9为固定螺丝、71为T型不锈钢块、72为T型绝缘层组成、73为螺丝孔、81为长方形不锈钢块、82为长方形绝缘层、83为螺丝孔。
具体实施方式

图1所示,现有技术中磁控溅射中频孪生靶,主要是有靶门1、阴极座2、密封圈 3、冷却水道4、磁场连接块5、磁场固定块6、固定螺丝9,其中阴极座2及密封圈3固定方法是在在每个阴极座2的周围都打若干固定螺丝孔、是靠固定螺丝9将其固定在靶门1,这样就增加了孪生靶之间的间隙同时减少了靶面的溅射面积。如图2所示,一种磁控溅射近距离中频孪生靶,主要是有靶门1、阴极座2、密封圈 3、冷却水道4、磁场连接块5、磁场固定块6、周边固定块7、中间固定块8、固定螺丝9,其特征在于靶门1上装有阴极座2,阴极座2周边嵌着密封圈3,阴极座2间装有冷却水道4, 磁场连接块5和磁场固定块6装在阴极座2上,周边固定块7与靶门阴极座2相连,中间固定块8与两阴极座2相连。如图3所示,所述周边固定块7压在阴极座2外边,通过固定螺丝9装在靶门1上, 可以利用螺丝9将阴极座2从外面压住固定,不需要钻孔而占用靶面的溅射面积。所述周边固定块7是T型不锈钢块71和T型绝缘层72组成、中间有螺丝孔73,T 型绝缘层72在T型不锈钢块71的下面,起着绝缘作用,T型绝缘层72用绝缘塑胶为材料, T型结构更有利用靶门1边安装、固定。如图4所示,所述中间固定块8两端压着阴极座2内边,通过固定螺丝9装在冷却水道4上。所述中间固定块8是长方形不锈钢块81和长方形绝缘层82组成、中间有螺丝孔 83,长方形绝缘层82在长方形不锈钢块81的下面起着绝缘作用,T型绝缘层72用绝缘塑胶为材料。采用本实用新型结构方法可以有效地为减小孪生靶间的距离,既能限位固定,又能很好的密封,有效地消除了打火现象,可以在不改变箱体大小的情况下加大阴极座的宽度,提高磁控溅射效率,增大产能。
权利要求1.一种磁控溅射近距离中频孪生靶,主要是有靶门、阴极座、密封圈、冷却水道、磁场连接块、磁场固定块、周边固定块、中间固定块、固定螺丝,其特征在于靶门上装有阴极座,阴极座周边嵌着密封圈,阴极座间装有冷却水道,磁场连接块和磁场固定块装在阴极座上,周边固定块与靶门阴极座和中间固定块相连,固定螺丝与两阴极座相连。
2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射近距离中频孪生靶,其特征在于所述周边固定块压在阴极座外边,通过固定螺丝装在靶门上。
3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射近距离中频孪生靶,其特征在于所述周边固定块是T型不锈钢块和T型绝缘层组成、中间有螺丝孔,T型绝缘层在T型不锈钢块的下面。
4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射近距离中频孪生靶,其特征在于所述中间固定块两端压着阴极座内边,通过固定螺丝装在冷却水道上。
5.根据权利要求1所述的一种磁控溅射近距离中频孪生靶,其特征在于所述中间固定块是长方形不锈钢块和长方形绝缘层组成、中间有螺丝孔,长方形绝缘层在长方形不锈钢块的下面。
专利摘要本实用新型公开了一种磁控溅射近距离中频孪生靶,主要是有靶门、阴极座、密封圈、冷却水道、磁场连接块、磁场固定块、周边固定块、中间固定块、固定螺丝,其特征在于靶门上装有阴极座,阴极座周边嵌着密封圈,阴极座间装有冷却水道,磁场连接块和磁场固定块装在阴极座上,周边固定块与靶门阴极座和中间固定块相连,固定螺丝与两阴极座相连。本实用新型由于采用上述结构,直接用周边固定块、中间固定块固定孪生靶,减小了两个孪生靶的间距,在不改变箱体大小的情况下加大阴极座的宽度,这样能提高溅射面积,提高磁控溅射效率,增大产能。
文档编号C23C14/35GK202297759SQ20112041593
公开日2012年7月4日 申请日期2011年10月27日 优先权日2011年10月27日
发明者周学卿, 邹定嵩 申请人:东莞市润华光电有限公司
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