专利名称：多功能连续式磁控溅射镀膜装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及磁控溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种多功能连续式磁控溅射镀膜装置。
背景技术：
磁控溅射镀膜技术是当前广泛应用的真空镀膜技术方法，被普遍应用于光学、微电子、耐磨、耐蚀、装饰等产业领域，用以提供可靠而稳定的薄膜镀层，可为被镀膜产品提供某方面特定性能。比如在玻璃表面镀一层ITO薄膜，可以形成透明导电玻璃，用以生产LCD显示器、触摸屏等。磁控溅射技术主要通过在溅射靶上的电场在稀薄气体状态下激发等离子体，通过磁场和电场的联合控制下使正离子轰击安装在祀上的被派射祀材，使祀材物质以原子、分子状态被溅射到衬底上，进而形成需要的功能薄膜。连续式磁控溅射镀膜设备是通过多个真空腔室串联连接，分成大气向粗真空过渡室，粗真空向高真空过渡室，镀膜室等不同功能区，各个区真空系统独立，之间可以进行密封的传送。通过这一设计可以有效的减少抽真空时间，可以一片接一片连续的进行磁控溅射镀膜。其主要应用于大面积的平板基材表面镀膜，如玻璃。当前的连续式磁控溅射镀膜设备按镀膜基材摆放的角度主要分为三类:1、立式:立式设备与水平面垂直，镀膜基材是垂直通过设备，镀膜过程也是垂直的，例如，中国专利文献CN102181839A公开一种“同端进出式连续溅射镀膜设备”，其包括真空腔体和真空抽气装置，所述真空抽气装置与真空腔体相连通，其特征在于所述真空腔体由相邻且相通的预抽室和溅射室两个真空室构成，两个真空室之间设有隔离阀，腔体的末端和前端分别设有盲法兰和真空锁阀，所述真空锁阀外侧设有一个装卸片台，在溅射室内设置有工件架传输装置，在预抽室内装有复合传输装置，所述溅射室内装有至少三对相对布置的磁控溅射靶，所述工件架传输装置能够与工件架相配合，并能将工件架从装卸片台依次输送到预抽室、溅射室，并从原路输送回到装卸片台。对于此镀膜设备，其镀膜过程受真空腔体内跌落的颗粒等污物的污染最小，最适宜于对洁净度要求高的镀膜产品，如ITO玻璃镀膜等。但是此镀膜方式具有以下缺陷:a、采用立式设备时，镀膜基材的固定装夹比较困难，采用夹具固定会在固定位置处留下夹具印，导致边缘存在无效区，镀膜工艺较难控制，同时也不便于镀多种大小规格的基材；b、此镀膜方式是采用同端进出镀膜室镀膜，这样的镀膜辅助用时间较长，生产效率不高，浪费能源。2、卧式:卧式设备与水平面平行，镀膜基材是水平通过设备，镀膜过程也是水平的，对于卧式设备，其镀膜过程不需要夹具，不存在无效区，也可以同时镀各种大小规格基材，效率高，应用方便。但是其主要的问题是，腔体跌落的颗粒等污物会掉在基材上，其只能应用于对基材洁净度要求不高的领域。3、倾斜式:倾斜式设备与水平面成一定角度斜立摆放，镀膜基材是斜立着通过设备，镀膜过程也是斜立的，对于倾斜式设备，综合了两种设备的优点，但由于设备整体倾斜，其安装加工都较困难。
实用新型内容本实用新型的一个目的，在于提供一种多功能连续式磁控溅射镀膜装置，其既可立式也可倾斜安装镀膜基材，不仅能满足不同基材镀膜的需要，还能有效防止腔体内跌落的颗粒等污物掉在基材上，保证基材不被污染，进而提闻锻I吴质量。为达上述目的，本实用新型采用以下技术方案:一种多功能连续式磁控溅射镀膜装置，包括至少一个镀膜室，其特征在于，所述镀膜室内壁上具有用于磁控溅射镀膜的可交替使用的立式靶和倾斜靶，对应所述立式靶在所述镀膜室内设置移动式的立式基材承载架，对应所述倾斜靶在所述镀膜室内设置移动式的倾斜式基材承载架。作为多功能连续式磁控溅射镀膜装置的一种优选方案，所述镀膜室的第一侧面开有靶位口，所述靶位口的一侧转动设置第一靶位门板，所述靶位口的另一侧转动设置第二靶位门板，以使所述第一靶位门板与所述第二靶位门板能交替的关闭在所述靶位口处。作为多功能连续式磁控溅射镀膜装置的一种优选方案，所述第一靶位门板上至少设置一个立式靶座，在所述立式靶座上拆卸式安装有所述立式靶，所述第二靶位门板上至少设置一个倾斜靶座，在所述倾斜靶座上拆卸式安装有所述倾斜靶。作为多功能连续式磁控溅射镀膜装置的一种优选方案，所述立式基材承载架的一端设置有第一滑行凹槽，另一端设置第一传动摩擦部，所述镀膜室内侧顶部对应所述第一滑行凹槽设置直立导向轮，所述镀膜室内侧底部对应所述第一传动摩擦部设置摩擦传动轮，所述摩擦传动轮通过传动转轴与所述镀膜室外部的动力装置连接，所述传动转轴与所述镀膜室接触处设置用于密封的磁流体密封件；在所述直立导向轮的一侧设置倾斜导向轮，对应所述倾斜导向轮在所述倾斜式基材承载架端部设置第二滑行凹槽，在所述倾斜式基材承载架远离所述第二滑行凹槽的一端设置与所述摩擦传动轮相匹配的第二传动摩擦部。优选的，所述摩擦传动轮为圆形轮，其与传动摩擦部接触处设置有容纳所述传动摩擦部的环形凹槽，以使所述传动摩擦部能刚好嵌入到摩擦传动轮的环形凹槽内，并能有效的实现导向，同时保证基材承载架在运动过程中不会左右摇摆甚至偏倒。作为多功能连续式磁控溅射镀膜装置的一种优选方案，所述立式靶座的座面与地面呈垂直设置，对应的立式靶的靶面、直立基材承载架的架面也均与地面呈垂直设置，所述倾斜靶座的座面与地面呈夹角α设置，对应的倾斜靶的靶面、倾斜式基材承载架的架面也均与地面呈夹角α设置。作为多功能连续式磁控溅射镀膜装置的一种优选方案，所述第一靶位门板上平行设置两个所述立式靶座，所述第二靶位门板上平行设置两个所述倾斜靶座。作为多功能连续式磁控溅射镀膜装置的一种优选方案，还包括分别设置在所述镀膜室两侧的第一镀膜缓冲室和第二镀膜缓冲室，所述第一镀膜缓冲室远离镀膜室的一侧设置第一过渡室，所述第二镀膜缓冲室远离镀膜室的一侧设置第二过渡室，所述第一过渡室远离第一镀膜缓冲室的一侧设置进片室，所述第二过渡室远离第二镀膜缓冲室的一侧设置出片室，所述进片室与第一过渡室之间、所述第一过渡室与第一镀膜缓冲室之间、所述第二镀膜缓冲室与第二过渡室之间、所述第二过渡室与出片室之间均设置用于隔绝各个腔室的隔离阀门，所述第一镀膜缓冲室、镀膜室、第二镀膜缓冲室之间呈贯通设置。通过在各个腔室之间设置隔离阀门，使得各个腔室在使用过程中保持独立状态，并且对应各个腔室均设置真空泵机组，可以独立的对各个腔室进行抽取真空，这样可以在连续送入和送出产品过程中不破坏镀膜室内的真空状态，保证镀膜工作的正常运行。作为多功能连续式磁控溅射镀膜装置的一种优选方案，所述倾斜靶座的座面、倾斜靶的靶面、倾斜式基材承载架的架面与地面的夹角α为锐角。优选的，所述夹角α为83°。作为多功能连续式磁控溅射镀膜装置的一种优选方案，所述进片室、第一过渡室、第一镀膜缓冲室、镀膜室、第二镀膜缓冲室、第二过渡室以及出片室上分别独立设置真空泵机组，使各个腔室能独立抽取真空。优选的，所述进片室、第一过渡室、第一镀膜缓冲室、第二镀膜缓冲室、第二过渡室、出片室内均设置有与镀膜室内部相同设置的直立导向轮、倾斜导向轮、摩擦传动轮、传动转轴、磁流体密封件，且均在各腔室外部对应位置设置控制摩擦传动轮匀速转动的电机，使得基材承载架能连续的由进片室、第一过渡室、第一镀膜缓冲室进入镀膜室镀膜，镀膜完成后由第二镀膜缓冲室、第二过渡室、出片室送出，使得整个生产可连续性，提高生产效率，减少生产辅助工序。作为多功能连续式磁控溅射镀膜装置的一种优选方案，所述第一靶位门板周边设置用于与所述靶位口密封连接的密封圈，所述第二靶位门板周边设置用于与所述靶位口密封连接的密封圈。优选的，所述第一靶位门板周边至少设置一圈密封圈，所述第二靶位门板周边至少设置一圈密封圈。更加优选的，所述第一靶位门板周边设置两圈密封圈，所述第二靶位门板周边设置两圈密封圈。优选的，在所述靶位口处对应第一靶位门板或第二靶位门板至少开设有一圈环形的密封用凹槽，在所述凹槽内设置密封圈。更加优选的，所述靶位口处开设有两圈环形的密封用凹槽，在每个所述凹槽内均设置密封圈。对比现有技术，本实用新型的有益效果为:通过在镀膜室的靶位口处设置可交替使用的立式靶和倾斜靶，并对应立式靶和倾斜靶在镀膜室内设置立式基材承载架和倾斜式基材承载架，使得产品在镀膜要求不高时可以使用立式靶进行镀膜，当产品镀膜要求高时可以使用倾斜靶进行镀膜，并利用倾斜式基材承载架装配产品，可以有效的避免装夹时的夹痕，防止出现无效区，并且立式靶和倾斜靶的可交替使用，使得镀膜室能适应更多规格的产品镀膜，提高镀膜装置的通用性。
图1为实用新型所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置的结构示意图；图2为图1中镀膜室的结构示意图；图3为图2中镀膜室使用立式靶时的剖视示意图；[0034]图4为图2中镀膜室使用倾斜靶时的剖视示意图。图中:1、镀膜室；101、连接口 ;102、靶位口 ; 103、第一靶位门板；104、第二靶位门板;105、立式靶;106、倾斜革巴;107、立式靶座;108、倾斜靶座;109、直立导向轮;110、倾斜导向轮；111、立式基材承载架；112、倾斜基材承载架；113、第一传动摩擦部；114、第二传动摩擦部；115、第一滑行凹槽；116、第二滑行凹槽；117、摩擦传动轮；118、传动转轴；119、磁流体S封件；2、进片室；3、第一过渡室；4、第一镀膜缓冲室；5、第二镀膜缓冲室；6、第二过渡室；7、出片室；8、隔离阀门；9、上料工位；10、下料工位；11、真空泵机组。
具体实施方式
如图1所示，此实施例中所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置，包括依次设置的进片室2、第一过渡室3、第一镀膜缓冲室4、镀膜室1、第二镀膜缓冲室5、第二过渡室6、出片室7,在进片室2远离第一过渡室3的一侧设置上料工位9,在出片室7远离第二过渡室6的一侧设置下料工位10，进片室2和第一过渡室3之间设置隔离阀门8，第一过渡室3和第一镀膜缓冲室4之间设置隔离阀门8，第二镀膜缓冲室5与第二过渡室6之间设置隔离阀门8，第二过渡室6和出片室7之间设置隔离阀门8，且第一镀膜缓冲室4、镀膜室1、第二镀膜缓冲室5呈连通设置，其内部的真空状态一致。在进片室2、第一过渡室3、第一镀膜缓冲室4、镀膜室1、第二镀膜缓冲室5、第二过渡室6、出片室7上均设置一套独立的真空泵机组，用于进行独立的抽取真空工作，这样可以在连续送入和送出产品过程中不破坏镀膜室I内的真空状态，保证镀膜工作的正常运行。如图2 4所示，镀膜室I为长方体箱体，其包括四个与地面垂直的侧面，分别为第一侧面、第二侧面、第三侧面和第四侧面，在第一侧面上设置靶位口 102，在靶位口 102的左侧转动设置第一靶位门板103，在靶位口 102的右侧转动设置第二靶位门板104，第一靶位门板103和第二靶位门板104的外形尺寸均与靶位口 102的尺寸相匹配，使得第一靶位门板103和第二靶位门板104均能交替的关闭在靶位口 102处。第一靶位门板103外围设置两圈环形密封圈，使其在关闭到靶位口 102处时能与靶位口 102密封连接，第二靶位门板104外围设置两圈环形密封圈，使其在关闭到靶位口102处时能与靶位口 102密封连接。在第一靶位门板103上平行设置两块矩形立式靶座107，每个立式靶座107上拆卸式设置一块立式靶105，在第二靶位门板104上平行设置两块矩形倾斜靶座108，每个倾斜靶座108上拆卸式设置一块倾斜靶106，立式靶座107的座面与地面呈垂直状态，安装在立式靶座107座面的立式靶105为长方体形状，因此立式靶105的靶面与地面也呈垂直状态，而倾斜靶座108的座面与地面呈83°夹角设置，安装在倾斜靶座108座面的倾斜靶106为长方体形状，因此倾斜靶106的靶面与地面也呈83°夹角设置。在镀膜室I内部顶端平行设置两排导向轮，分别为直立导向轮109和倾斜导向轮110，在直立导向轮109正下方、镀膜室I内设置摩擦传动轮117，此摩擦传动轮117通过传动转轴118与镀膜室I外部设置的电机连接，使得电机能带动摩擦传动轮117匀速的转动，在传动转轴118与镀膜室I接触处设置用于对传动转轴118进行真空密封的磁流体密封件119，以实现可靠的动态密封。在直立导向轮109与摩擦传动轮117之间可以安放立式基材承载架111，此立式基材承载架111的外表面与立式靶105的靶面呈平行状态，这样可以使得安放在立式基材承载架111表面的镀膜基材与立式靶105平行，进一步使得镀膜基材表面镀膜均匀，保证膜层
稳定可靠。在倾斜导向轮110与摩擦传动轮117之间可以安放倾斜式基材承载架112，此倾斜式基材承载架112的外表面与倾斜靶106的靶面呈平行状态，且均与地面呈83°夹角设置，这样可以使得安放在倾斜式基材承载架112表面的镀膜基材与倾斜靶106平行，进而保证安放在倾斜式基材承载架112表面的镀膜基材与倾斜靶106平行，使得镀膜基材表面镀膜均匀，保证膜层稳定可靠，并且当镀膜基材对膜层质量要求较高时，可以使用此倾斜式基材承载架112，因为倾斜式基材承载架112与地面呈83度夹角设置，因此在安放镀膜基材时可以不适用夹具，这样就可以避免镀膜无效区。立式基材承载架111的上端设置有与直立导向轮109相匹配的第一滑行凹槽115，立式基材承载架111的下端设置有与摩擦传动轮117相匹配的第一传动摩擦部113，使得立式基材承载架111能在镀膜室I内均匀的移动。倾斜式基材承载架112的上端设置有与倾斜导向轮110相匹配的第二滑行凹槽116，倾斜式基材承载架112的下端设置有与摩擦传动轮117相匹配的第二传动摩擦部114，使得倾斜式基材承载架112能在镀膜室I内均匀的移动。摩擦传动轮117为圆形轮，其与传动摩擦部接触处设置有容纳传动摩擦部的环形凹槽，以使传动摩擦部能刚好嵌入到摩擦传动轮117的环形凹槽内，并能有效的实现导向，同时保证基材承载架在运动过程中不会左右摇摆甚至偏倒。在与镀膜室I的第一侧面连接的第二侧面、第三侧面分别设置与第一镀膜缓冲室
4、第二镀膜缓冲室5连通的连接口 101，在进片室2上正对连接口 101设置进片门，在出片室7上正对连接口 101设置出片门，进片门和出片门处均设置密封结构，使得进片室2和出片室7内能保持真空密封状态。进片室2、第一过渡室3、第一镀膜缓冲室4、第二镀膜缓冲室5、第二过渡室6、出片室7内部均设置与镀膜室I内部相同设置的直立导向轮109、倾斜导向轮110、摩擦传动轮117、传动转轴118、磁流体密封件119，且均在各腔室外部对应位置设置控制摩擦传动轮117匀速转动的电机，使得基材承载架能连续的由进片室2、第一过渡室3、第一镀膜缓冲室4进入镀膜室I镀膜，镀膜完成后由第二镀膜缓冲室5、第二过渡室6、出片室7送出，使得整个生产可连续性,提高生产效率,减少生产辅助工序。如图2所示，选择采用立式基材承载架111装载镀膜基材:第一步、将镀膜室I上的靶位口 102处的第一靶位门板103关闭并密封，然后将各个隔离阀门8关闭；第二步、由于第一镀膜缓冲室4、镀膜室I以及第二镀膜缓冲室5是呈贯通设置的，因此第一镀膜缓冲室4、镀膜室I以及第二镀膜缓冲室5统称为镀膜室组，开启镀膜室组上的真空泵机组11，对镀膜室组内抽取真空，直至镀膜室组内的气压为镀膜时需要的气压，开启第一过渡室3和第二过渡室6上的真空泵机组，分别对第一过渡室3和第二过渡室6内部抽取真空，直至其内部的气压为1/2镀膜室组内的气压，进片室2和出片室7暂不抽取真空；第三步、在上料工位9处将镀膜基材固定在立式基材承载架111上，开启进片室2的进片门，将带有镀膜基材的立式基材承载架111放入到进片室2内的直立导向轮和摩擦传动轮之间，然后关闭进片门，并通过进片室2上设置真空泵机11组对进片室2抽取真空，使其内部的真空压力与第一过渡室3内的真空压力值一致；第四步、通过外部控制装置打开进片室2与第一过渡室3之间的隔离阀门8，并利用直立导向轮和摩擦传动轮将立式基材承载架111送入到第一过渡室3内，关闭进片室2与第一过渡室3之间的隔离阀门8 ；第五步、利用第一过渡室3上设置的真空泵机组11对第一过渡室3抽取真空，使其内部的气压值与镀膜室组内的气压值一致，然后通过外部控制装置打开第一过渡室3与镀膜室组之间的隔离阀门8，并利用直立导向轮和摩擦传动轮将立式基材承载架111送入到镀膜室组内的直立导向轮与摩擦传动轮之间，关闭隔离阀门8，待立式基材承载架111从第一镀膜缓冲室4进入到镀膜室I内后，再进行磁控溅射镀膜；第六步、镀膜完成后，开启第二过渡室6上的真空泵机组，对第二过渡室6内进行抽取真空，使第二过渡室6内的压力值与镀膜室组的保持一致，然后将镀膜室组与第二过渡室6之间的隔离阀门8开启，将立式基材承载架111送入到第二过渡室6内的直立导向轮和摩擦传动轮上；第七步、开启第二过渡室6与出片室7之间的隔离阀门8，将立式基材承载架111送入到出片室7内，并关闭第二过渡室6与出片室7之间的隔离阀门8 ；第八步、开启出片室7上的大气阀门，使空气进入出片室7内，待出片室7内的气压值与大气压一致，开启出片室7的出门口，将立式基材承载架111从出片室7送出至下料工位10处，然后进行卸料；第九步、重复第一步至第八步，进行连续的重复的镀膜工序。如图3所示，选择采用倾斜式基材承载架112装载镀膜基材时，操作步骤与上述步骤完全一致，只需要将倾斜式基材承载架112安放到倾斜式导向轮和摩擦传动轮117之间，并且将靶位口 102处的第二靶位门板104关闭即可。以上结合具体实施例描述了本实用新型的技术原理。这些描述只是为了解释本实用新型的原理，而不能以任何方式解释为对本实用新型保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本实用新型的其它具体实施方式
，这些方式都将落入本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种多功能连续式磁控溅射镀膜装置，包括至少一个镀膜室，其特征在于，所述镀膜室内壁上具有用于磁控溅射镀膜的可交替使用的立式靶和倾斜靶，对应所述立式靶在所述镀膜室内设置移动式的立式基材承载架，对应所述倾斜靶在所述镀膜室内设置移动式的倾斜式基材承载架。
2.根据权利要求1所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室的第一侧面开有靶位口，所述靶位口的一侧转动设置第一靶位门板，所述靶位口的另一侧转动设置第二靶位门板，以使所述第一靶位门板与所述第二靶位门板能交替的关闭在所述靶位口处。
3.根据权利要求2所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述第一靶位门板上至少设置一个立式靶座，在所述立式靶座上拆卸式安装有所述立式靶，所述第二靶位门板上至少设置一个倾斜靶座，在所述倾斜靶座上拆卸式安装有所述倾斜靶。
4.根据权利要求2所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述立式基材承载架的一端设置有第一滑行凹槽，另一端设置第一传动摩擦部，所述镀膜室内侧顶部对应所述第一滑行凹槽设置直立导向轮，所述镀膜室内侧底部对应所述第一传动摩擦部设置摩擦传动轮，所述摩擦传动轮通过传动转轴与所述镀膜室外部的动力装置连接，所述传动转轴与所述镀膜室接触处设置用于密封的磁流体密封件； 在所述直立导向轮的一侧设置倾斜导向轮，对应所述倾斜导向轮在所述倾斜式基材承载架端部设置第二滑行凹槽，在所述倾斜式基材承载架远离所述第二滑行凹槽的一端设置与所述摩擦传动轮相匹配的第二传动摩擦部。
5.根据权利要求4所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述立式靶座的座面与地面呈垂直设置，对应的立式靶的靶面、直立基材承载架的架面也均与地面呈垂直设置，所述倾斜靶座的座面与地面呈夹角α设置，对应的倾斜靶的靶面、倾斜式基材承载架的架面也均与地面呈夹角α设置。
6.根据权利 要求3所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述第一靶位门板上平行设置两个所述立式靶座，所述第二靶位门板上平行设置两个所述倾斜靶座。
7.根据权利要求2所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，还包括分别设置在所述镀膜室两侧的第一镀膜缓冲室和第二镀膜缓冲室，所述第一镀膜缓冲室远离镀膜室的一侧设置第一过渡室，所述第二镀膜缓冲室远离镀膜室的一侧设置第二过渡室，所述第一过渡室远离第一镀膜缓冲室的一侧设置进片室，所述第二过渡室远离第二镀膜缓冲室的一侧设置出片室，所述进片室与第一过渡室之间、所述第一过渡室与第一镀膜缓冲室之间、所述第二镀膜缓冲室与第二过渡室之间、所述第二过渡室与出片室之间均设置用于隔绝各个腔室的隔离阀门，所述第一镀膜缓冲室、镀膜室、第二镀膜缓冲室之间呈贯通设置。
8.根据权利要求5所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述倾斜靶座的座面、倾斜靶的靶面、倾斜式基材承载架的架面与地面的夹角α为锐角。
9.根据权利要求1 8任一所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述进片室、第一过渡室、第一镀膜缓冲室、镀膜室、第二镀膜缓冲室、第二过渡室以及出片室上分别独立设置真空泵机组，使各个腔室能独立抽取真空。
10.根据权利要求2 8任一所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述第一靶位门板周边设置用于与所述靶位口密封连接的密封圈，所述第二靶位门板周边设置用于与所述靶位口密封 连接的密封圈。
专利摘要本实用新型公开一种多功能连续式磁控溅射镀膜装置，包括至少一个镀膜室，镀膜室内壁上具有用于磁控溅射镀膜的可交替使用的立式靶和倾斜靶，对应立式靶在镀膜室内设置移动式的立式基材承载架，对应倾斜靶在镀膜室内设置移动式的倾斜式基材承载架。通过在镀膜室的靶位口处设置可交替使用的立式靶和倾斜靶，并对应设置立式基材承载架和倾斜式基材承载架，使得镀膜基材在不同要求时可以选用不同的靶材进行镀膜，并且立式靶和倾斜靶的可交替使用，还可以使得镀膜室能适应更多规格的产品镀膜，提高镀膜装置的通用性。
文档编号C23C14/35GK202968682SQ20122069419
公开日2013年6月5日 申请日期2012年12月14日 优先权日2012年12月14日
发明者陈宇 申请人:广东志成冠军集团有限公司