专利名称：真空蒸镀装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及薄膜的真空蒸镀装置。
背景技术：
如专利文献I那样，提出了用于制造防污性、疏油性、疏水性的薄膜的蒸镀装置。专利文献1:日本特开2010— 090454号公报在如专利文献I所述的用于制造防污性、疏油性、疏水性的薄膜的蒸镀装置中，使用有机化合物作为具有防污性、疏油性、疏水性的疏油性膜的成膜材料。防污性、疏油性、疏水性的成膜材料与无机材料蒸镀相比，施加于对真空容器内进行排气的真空泵的负载较大。例如，在使用扩散泵作为真空泵的情况下，防污性、疏油性、疏水性的成膜材料被供给至扩散泵后，加速了扩散泵的油劣化，其结果为，因扩散泵的排气性劣化而导致扩散泵维护周期缩短。
实用新型内容本使用新型是鉴于上述课题而完成的，本实用新型的目的在于提供一种真空蒸镀装置，即使在使用防污性、疏油性、疏水性的成膜材料等的情况下，也能够降低施加于对真空容器内进行排气的泵的负载。所述课题根据技术方案I的真空蒸镀装置通过如下方式解决:其在真空容器内使蒸镀物质蒸镀至基板，其中，该真空蒸镀装置构成为具备:拱顶型的基板保持构件，其配设在所述真空容器内，用于保持多个所述基板；旋转构件，其用于使该基板保持构件旋转；蒸镀构件，其以与所述基板对置的方式设置；排气构件，其用于将所述真空容器内的气体分子排出；以及排气口，其由设于所述真空容器的侧壁的开口构成，能够供由所述排气构件排出到所述真空容器外的所述气体分子通过，所述基板保持构件的下端部配置在比所述排气口的上端部靠下方的位置。由于如上所述的构成，所以能够减少真空容器内的蒸镀物质通过排气口被排放至排气构件侧的比率，能够降低施加于对真空容器内进行排气的真空泵等排气构件的负载，并能够抑制真空泵等排气构件的维护周期缩短的情况。特别地，使用有机化合物或防污性、疏油性、疏水性的成膜材料等作为蒸镀物质的情况，比使用无机材料的情况施加更大的负载，但在本实用新型中，由于减少了通过排气口向排气构件供给的蒸镀物质的量本身，所以能够通过简单的结构降低施加于真空泵等排气构件的负载。此时，如技术方案2所述，也可以形成为，所述基板保持构件的下端部配置于比将包含所述蒸镀构件的上端的水平面和包含所述排气口的下端的水平面之间二等分的高度靠上方的位置。由于如上所述的构成，所以形成如下配置:在蒸镀构件和排气口之间存在基板保持构件，从蒸镀构件侧观察，排气口的至少一部分隐藏在基板保持构件的后方，从蒸镀构件朝向排气口的蒸镀物质的路径的中途被基板保持构件遮蔽。其结果为，能够降低经由排气口供给至真空泵等排气构件的蒸镀物质的量，并能够通过简单的结构，降低施加于真空泵等排气构件的负载。而且，基板保持构件的形状可以是半球状拱顶型、圆锥台状拱顶型、棱锥台状拱顶型中的任意一种。基板保持构件为这些形状中的任意一种形状，由此能够高效地保持基板，进行成膜。根据本实用新型涉及的真空蒸镀装置，能够降低真空容器内的蒸镀物质通过排气口被排放至排气构件侧的比率，能够降低施加于对真空容器内进行排气的真空泵等排气构件的负载，并能够抑制真空泵等排气构件的维护周期缩短的情况。特别地，在使用有机化合物或防污性、疏油性、疏水性的成膜材料等作为蒸镀物质的情况下，比使用无机材料的情况施加更大的负载，但在本实用新型中，由于减少了通过排气口向排气构件供给的蒸镀物质的量本身，所以能够通过简单的结构降低施加于真空泵等排气构件的负载。
图1是本实用新型的一个实施方式的真空蒸镀装置的概念图。图2是示出本实用新型的一个实施方式的基板保持器和排气口的位置关系的示 意图。
图3是示出本实用新型的一个实施方式的基板保持器和排气口的位置关系的示 意图。
图4是示出本实用新型的另一实施方式的基板保持器和排气口的位置关系的示 意图。标号说明 1:真空蒸镀装置 10:真空容器12,12 ;:基板保持器(基板保持构件) 12a、12a ':下端部 14:基板 34:蒸镀源(蒸镀构件) 34a、38a:闸板34b:上端部 38:尚子源40:中和器44:连接件 H:高度 Gl:排气口Gla:上立而部 Glb:下端部 P1、P2:水平面具体实施方式
以下，参照附图对本实用新型的实施方式进行说明。而且，以下说明的部件、配置等是将实用新型具体化的一个例子，并不用于限定本实用新型，当然可以按照本实用新型的宗旨进行各种改变，而且等同物也包含于权利范围内。图1是本实用新型的一个实施方式的真空蒸镀装置I的概要剖视图。真空蒸镀装置I是能够一边从离子源38向基板照射离子束一边进行成膜处理的离子辅助蒸镀装置，在纵向放置的圆筒状的真空容器10的内部的上方保持有作为基板保持构件的基板保持器12。而且，在真空容器10的内部的下方配设有作为蒸镀构件的蒸镀源34。另外，离子源38及中和器40配设于真空容器10内部的侧面侧。作为基板保持构件的基板保持器12是以能够绕垂直轴线旋转的方式保持在真空容器10内的上侧的、形成为拱顶状的不锈钢制的部件。基板保持器12的旋转构件与未图示的马达的输出轴连结。在基板保持器12的下表面，以成膜面朝向下方的方式支承有多个作为基板的基板14。此外，在本实施方式中，基板保持器12的形状为大致半球状的拱顶，但也可以形成为圆锥拱顶、棱锥拱顶等任何形状的拱顶。基板14是在表面通过成膜附着电介质膜或吸收膜的树脂(例如聚酰亚胺)、石英、强化玻璃等具有透光性的部件。在本实施方式中，使用圆板状的部件作为基板14，但形状不限于此，也可以是例如透镜形状、圆筒状、圆环状、矩形板状之类的其他形状。真空容器10是在公知的成膜装置中通常使用的具有大致圆筒的外形状的不锈钢制的容器，为接地电位。在真空容器10中形成有用于向内部导入气体的气体导入管(未图示)。如图1 图3所示，在真空容器10的侧壁面设有开口，该开口构成用于将真空容器10内的气体排出的排气口 Gl。在排气口 Gl连接有作为排气构件的未图示的真空泵，通过运转未图示的真空泵，真空容器10内部排气至预定的压力(例如大约3X10_2Pa 10_4Pa)。在本实施方式中，使用扩散泵作为排气构件。扩散泵在具备气体的排出口、吸入口的容器内形成为沿竖直方向延伸的圆筒状，由在末端配置有具备喷嘴的烟囱的结构构成，在内部贮存有油。利用扩散泵汲出气体的原理如下所述。使装置内的油蒸发后，已蒸发的油在中心部的烟囱上升，并从烟囱的末端的喷嘴向下猛烈地喷出。周围的气体分子被油分子击飞，被向下方压缩。从设于装置侧壁的下方的排气口通过旋转泵排放至装置外。壁面上的油蒸气冷却后变回液体，再次返回底面。通过重复这一连串的动作，扩散泵将从真空容器10通过排气口 Gl流入的气体分子排出至外部。而且，真空泵由未图示的控制器控制，可以对真空容器10内的压力进行调节。如图2所示，基板保持器12的下端部12a配置于比排气口 Gl的上端部Gla靠下方的位置。[0052]基板保持器12与排气口 Gl以如上所述的位置关系配置，因此，从蒸镀源34至排气口 Gl的蒸镀物质的路径的至少一部分被基板保持器12遮挡，并且，排气口 Gl距离蒸镀源34较远。与基板保持器12配置为比排气口 Gl离蒸镀源34远的情况不同，能够减少通过排气口 Gl流入真空泵侧的蒸镀物质的量。而且，为了排气效率，基板保持器12配设为与真空容器10的侧壁及在该侧壁的表面开口形成的排气口 Gl具有预定的间隙。另外，如图3所示，基板保持器12的下端部12a配置于比高度H靠上方的位置，高度H是将包含蒸镀源34的上端部34b的水平面P2和包含排气口 Gl的下端部Glb的水平面Pl之间二等分的高度。基板保持器12与排气口 Gl以如上所述的位置关系配置，因此，从蒸镀源34侧观察，排气口 Gl不会整体被基板保持器12遮挡。其结果为，蒸镀物质从蒸镀源34通过排出口 Gl排出的直接路径狭窄，能够减少吸入到未图示的真空泵的蒸镀物质的量，能够降低施加于真空泵的负载。例如，在使用作为真空泵的一个例子的扩散泵作为排气构件的情况下，一般采用有机化合物作为防污性、疏油性、疏水性的成膜材料的情况较多，因此与蒸镀无机材料的情况相比，加速了扩散泵的油的劣化，促进了扩散泵的排气性劣化，从而导致扩散泵的维护周期缩短，但在本实施方式中，能够降低供给至扩散泵的蒸镀物质的量本身，因此防止扩散泵的油的劣化，从而能够减少扩散泵的维护周期缩短的情况。此外，也可以在排气口 Gl的真空容器10内侧，沿排气口 Gl另外设置未图示的公知的挡板，用于减少从排气口 Gl向连接于未图示的真空泵的排气通路侧排出的蒸镀物质的量。蒸镀源34是配设于真空容器10内的下侧，对防污性，疏油性、疏水性的成膜材料、高折射率物质或低折射率物质等进行加热并朝向基板14放出的蒸发构件。作为蒸镀源34，可以使用电子束加热方式、电阻加热方式等任意方式的蒸镀源。在蒸镀源34的上方安装有能够开闭操作的闸板34a。闸板34a由未图示的控制器适宜地进行开闭控制。离子源38具备:照射离子的离子源主体；用于将离子源主体设置于真空容器10的连接件44 ;和用于将作为所照射的离子的原料的气体导入真空容器10内的气体配管。离子源38是朝向基板14放出离子束的装置，由反应气体(例如O2)或稀有气体(例如Ar)的等离子体诱导出带电的离子(02+、Ar+)并通过加速电压加速射出。另外，在离子源38的上方安装有能够利用未图示的控制器进行适宜地开闭控制的闸板38a。中和器40是朝向基板14放出电子(e_)的装置，由Ar等稀有气体的等离子体诱导出电子，并利用加速电压进行加速来放出电子。利用从这里射出的电子来中和附着于基板14表面的离子。在图4中，示出了在具备圆锥拱顶形状的其他的实施方式的基板保持器12 ’的真空蒸镀装置I中的、基板保持器12丨和排气口 Gl的位置关系。在具备圆锥拱顶形状的基板保持器12丨的情况下，基板保持器12丨的下端部12a'也配置于比排气口 Gl的上端部Gla靠下方的位置，并且，基板保持器12 '的下端部12a '也配置于比将包含蒸镀源34的上端部34b的水平面P2和包含排气口 Gl的下端部Glb的水平面Pl之间二等分的高度H靠上方的位置。
权利要求1.一种真空蒸镀装置，其在真空容器内使蒸镀物质蒸镀至基板，所述真空蒸镀装置的特征在于， 该蒸镀装置构成为具备: 拱顶型的基板保持构件，其配设在所述真空容器内，用于保持多个所述基板； 旋转构件，其用于使该基板保持构件旋转； 蒸镀构件，其以与所述基板对置的方式设置； 排气构件，其用于将所述真空容器内的气体分子排出；以及 排气口，其由设于所述真空容器的侧壁的开口构成，能够供由所述排气构件排出到所述真空容器外的所述气体分子通过， 所述基板保持构件的下端部配置在比所述排气口的上端部靠下方的位置。
2.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于， 所述基板保持构件的下端部配置于比将包含所述蒸镀构件的上端的水平面和包含所述排气口的下端的水平面之间二等分的高度靠上方的位置。
3.根据权利要求1或2所述的真空蒸镀装置，其特征在于， 所述基板保持构件的形状为半球状拱顶型。
4.根据权利要求1或2所述的真空蒸镀装置，其特征在于， 所述基板保持构件的形状为圆锥台状拱顶型。
5.根据权利要求1或2所述的真空蒸镀装置，其特征在于， 所述基板保持构件的形状为棱锥台状拱顶型。
专利摘要本实用新型提供一种真空蒸镀装置，即使在使用防污性、疏油性、疏水性的成膜材料等的情况下，也能够降低施加于对真空容器内进行排气的泵的负载。本实用新型涉及在真空容器内使蒸镀物质蒸镀至基板的真空蒸镀装置(1)。真空蒸镀装置(1)构成为具备拱顶型的基板保持构件(12)，其用于保持多个基板(14)；旋转构件，其用于使基板保持构件(12)旋转；蒸镀构件(34)；排气构件，其用于将真空容器(10)内的气体分子排出；以及排气口(G1)，其由设于真空容器(10)的侧壁的开口构成，并能够供由排气构件排出到真空容器(10)外的气体分子通过，基板保持构件(12)的下端部配置在比排气口(G1)的上端部(G1a)靠下方的位置。
文档编号C23C14/24GK202968675SQ20122069417
公开日2013年6月5日 申请日期2012年12月14日 优先权日2012年12月14日
发明者盐野一郎, 林达也, 姜友松, 宫内充祐, 冈田胜久, 长江亦周 申请人:株式会社新柯隆