技术总结
本发明提供一种涂布系统，其包括真空室和涂布组件。所述涂布系统具有涂布组件，其包括气相源，基片保持器，其用于保持待涂布的基片从而使得所述基片被安置于所述气相源的前方，主阴极真空电弧组件，电耦合到所述阴极靶的远程阳极，所述阴极靶和主阳极之间的主电源，和连接在所述阴极靶和所述远程阳极之间的次电源。所述主阴极真空电弧组件包括阴极室组件，阴极靶，可选主阳极和屏蔽，该屏蔽把所述阴极靶与所述真空室隔离开。所述屏蔽定义用于把电子发射电流或金属气相等离子体从所述阴极靶传输到所述真空室的开口。所述气相源被安置在所述阴极室组件和所述远程阳极之间。
技术研发人员：V·戈罗霍夫斯基;D·胡梅尼克;S·特鲁伯;帕特里克·A·沙利文;尼古拉斯·皮特森;E·泰勒;G·沃兰
受保护的技术使用者：蒸汽技术公司
文档号码：201610301098
技术研发日：2016.05.09
技术公布日：2016.11.16