1.一种高精度OLED器件的制备装置，其特征在于：包括蒸发源阵列、基板、传动装置，蒸发源阵列由若干个蒸发源排列而成，蒸发源中的材料受热形成分子流垂直向上蒸发至基板，通过传动装置带动基板或蒸发源阵列的移动，完成基板的蒸镀，进而形成OLED器件。
2.根据权利要求1所述的一种高精度OLED器件的制备装置，其特征在于：所述蒸发源阵列中每个蒸发源中只装一种子像素蒸发材料，三个蒸发源为一个基础单位，且三个蒸发源分别放置红绿蓝三种颜色的子像素蒸发材料，一个基础单位中放置红绿蓝三种颜色发子像素材料的蒸发源位置是可调的。
3.根据权利要求1所述的一种高精度OLED器件的制备装置，其特征在于：所述蒸发源阵列中的各蒸发源相互之间单独进行控制。
4.根据权利要求1至3任一所述的一种高精度OLED器件的制备装置，其特征在于：所述蒸发源的蒸发头直径为1μm ~200μm，蒸发头间距为5μm ~400μm。
5.根据权利要求4所述的一种高精度OLED器件的制备装置，其特征在于：所述蒸发源内放置的子像素蒸发材料垂直向上蒸发；所述掩膜板置于基板前方，掩膜版与基板的距离为0~500μm，蒸发头到基板的距离为10μm~10cm。
6.根据权利要求1所述的一种高精度OLED器件的制备装置，其特征在于：所述蒸发源阵列中每个蒸发源均只放置一种蒸发材料；所述蒸发材料包括阴极材料、阳极材料、电子注入层材料、电子传输层材料、空穴注入层材料、空穴传输层材料、发光层材料。
7.根据权利要求1、2、3、6任一所述的一种高精度OLED器件的制备装置，其特征在于：所述蒸发源的蒸发头直径为1μm ~200μm，蒸发头间距为5μm ~400μm。
8.根据权利要求7所述的一种高精度OLED器件的制备装置，其特征在于：所述蒸发源内放置的蒸发材料垂直向上蒸发；所述掩膜板置于基板前方，掩膜版与基板的距离为0~500μm，蒸发头到基板的距离为10μm~10cm。
9.一种基于权利要求1装置的高精度OLED器件制备方法，其特征在于：包括如下步骤，
S1、处理基板：将基板清洗后，烘干或吹干；
S2、蒸镀各功能层：将步骤S1处理后的基板置于真空腔内，通过加热使得蒸发源中的材料受热形成分子流垂直向上蒸发，并通过传动装置带动基板或蒸发源阵列的移动，依次完成各功能层的蒸镀，从而形成OLED器件。