本实用新型涉及试片处理技术领域，特别涉及一种试片处理模具。
背景技术：
金属试片在涂胶之前一般需要表面处理，为了使金属试片表面的氧化层处理干净，在现有的技术上经常需要用人工砂纸打磨，或通过打磨机打磨。而人工砂纸打磨需要对金属试片进行均匀的打磨，以保持试片的平整性。操作人员在处理过程中难以保持手部用力均匀，试片处理面积过大，造成试片处理的不均匀，对后续胶粘剂的检测结果造成偏差。
然而针对现有技术的不足，研发者有必要研制一种设计合理、结构简单、实用性能强、并且还能够使操作人员快速处理试片，避免试片处理不均匀，试片表面均匀的试片处理模具。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于针对现有的上述不足和缺陷，提供一种设计合理、结构简单、实用性能强、并且还能够使操作人员快速处理试片的处理模具，避免试片处理不均匀。
本实用新型所解决的技术问题可以采用以下技术方案来实现：
一种试片处理模具，其特征在于，包括试片固定体，所述试片固定体的其中一端面具有试片固定槽，所述试片固定体与所述试片固定槽相背的一面设置有手柄，所述试片固定槽的内壁设置有至少一吸附磁石和至少一贯穿所述试片固定体的脱离孔，所述试片固定槽的槽深小于待处理试片的厚度。
由于采用了如上的技术方案，本实用新型的有益效果在于：试片固定槽能够防止试片在处理过程中来回晃动，提高了试片处理的均匀性，在试片固定槽内部设有吸附磁石，对金属试片进行处理时，金属试片吸附在吸附磁石上，试片在处理过程中不会脱落，在试片固定体设有脱离孔，在试片处理结束后用于分离试片，采用此种结构的试片处理模具能够快速均匀的处理好试片，提高了处理试片的平整度。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型一种实施例的结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面进一步阐述本实用新型。
参见图1所示的一种试片处理模具，包括试片固定体100，试片固定体100的其中一端面具有试片固定槽110，试片固定体100与试片固定槽110相背的一面101设置有手柄200。试片固定槽110的内壁间隔设置有一对吸附磁石300和一对贯穿试片固定体100的脱离孔400，试片固定槽110槽深小于待处理的金属试片1的厚度。
本实用新型工作时，试片固定槽110能够防止金属试片1在处理过程中来回晃动，提高了试片处理的均匀性，在试片固定槽110内部设有吸附磁石300，对金属试片1进行处理时，金属试片1吸附在吸附磁石300上，金属试片1在处理过程中不会脱落，在金属试片1固定体设有脱离孔，在金属试片1处理结束后用于分离试片，采用此种结构的试片处理模具能够快速均匀的处理好试片，提高了处理试片的平整度。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。