本实用新型涉及抛光机技术领域，具体为一种等离子抛光机IGBT整流回馈变频调速系统。
背景技术：
等离子抛光是工件与抛光液中通电脱离的金属离子吸附在工件表面，工件凸起处电流冲击高而去除快，电流流动，凹凸不断变化，粗糙表面逐渐被整平，等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正电的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。溶液不参加化学反应，成本低，与传统的化学电解抛光相比，成本非常低，等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺，仅在工件表面的分子层与等离子反应，目前很多的等离子抛光机在使用的时候，当对不同物料进行加工的时候，需要将抛光机的驱动电机的转速进行调整，才能适应不同的工作要求，因此设计了一种等离子抛光机IGBT整流回馈变频调速系统。
技术实现要素：
针对以上问题，本实用新型提供了一种等离子抛光机IGBT整流回馈变频调速系统，通过应用IGBT技术，实现了对于驱动电机驱动电路的整流，通过回馈式的设计能及时的感应等离子抛光机工作状态，及时调整电机工作频率，实现了对于等离子抛光机驱动电机的调速控制，使得等离子抛光机工作效率大大提高，值得推广。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种等离子抛光机IGBT整流回馈变频调速系统，它包括PLC控制器与IGBT整流回馈模块，所述IGBT整流回馈模块与PLC控制器相连接，所述IGBT整流回馈模块内设置有高压断路器与直流隔离开关，所述高压断路器与直流隔离开关连接有整流电路，所述整流电路连接有带通滤波器，所述带通滤波器连接有逆变功率单元，所述PLC控制器连接有电机信息采集模块，所述电机信息采集模块包括转速传感器与电流电压互感器，所述电流电压互感器连接有短路保护电路与AD转换器。
作为本实用新型一种优选的技术方案，所述PLC控制器连接有报警蜂鸣器。
作为本实用新型一种优选的技术方案，所述PLC控制器连接有直流母线调节器。
作为本实用新型一种优选的技术方案，所述PLC控制器连接有电源保护电路。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
本实用新型通过应用IGBT技术，实现了对于驱动电机驱动电路的整流，通过回馈式的设计能及时的感应等离子抛光机工作状态，及时调整电机工作频率，实现了对于等离子抛光机驱动电机的调速控制，使得等离子抛光机工作效率大大提高，值得推广。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图；
图中：1-PLC控制器，2-IGBT整流回馈模块，3-高压断路器，4-直流隔离开关，5-整流电路，6-带通滤波器，7-逆变功率单元，8-电机信息采集模块，9-转速传感器，10-电流电压互感器，11-短路保护电路，12-AD转换器，13-报警蜂鸣器，14-直流母线调节器，15-电源保护电路。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
实施例：
请参阅图1，本实用新型提供一种技术方案：一种等离子抛光机IGBT整流回馈变频调速系统，它包括PLC控制器1与IGBT整流回馈模块2，IGBT整流回馈模块2与PLC控制器1相连接，IGBT整流回馈模块2内设置有高压断路器3与直流隔离开关4，高压断路器3与直流隔离开关4连接有整流电路5，整流电路5连接有带通滤波器6，带通滤波器6连接有逆变功率单元7，PLC控制器1连接有电机信息采集模块8，电机信息采集模块8包括转速传感器9与电流电压互感器10，电流电压互感器10连接有短路保护电路11与AD转换器12，PLC控制器1连接有报警蜂鸣器13，PLC控制器1连接有直流母线调节器14，PLC控制器1连接有电源保护电路15。
通过应用IGBT技术，实现了对于驱动电机驱动电路的整流，通过回馈式的设计能及时的感应等离子抛光机工作状态，及时调整电机工作频率，实现了对于等离子抛光机驱动电机的调速控制，使得等离子抛光机工作效率大大提高，值得推广。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。