适用有机发光二极管蒸镀制程的光罩结构的制作方法

文档序号:11041419阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种适用有机发光二极管蒸镀制程的光罩结构,其特征在于,包含有:

一光罩本体;

一第一对位记号组,对应一影像撷取模块的一第一影像捕获设备且包含:

一第一主要记号,设置在所述光罩本体上;以及

一第一辅助记号,设置在所述光罩本体上并邻近所述第一主要记号;

一第二对位记号组,包含一第二主要记号,所述第二主要记号设置在所述光罩本体上;

一第三对位记号组,包含一第三主要记号,所述第三主要记号设置在所述光罩本体上;以及

一第四对位记号组,包含一第四主要记号,所述第四主要记号设置在所述光罩本体上;

其中,所述第一主要对位记号与所述第二主要对位记号间定义一第一侧边,所述第二主要对位记号与所述第三主要对位记号间定义一第二侧边,所述第三主要对位记号与所述第四主要对位记号间定义一第三侧边,所述第四主要对位记号与所述第一主要对位记号间定义一第四侧边,所述第一辅助对位记号与所述第一主要对位记号间定义一第一参考线,所述第一参考线与所述第四侧边间形成一第一角度,所述第一参考线的长度的公差小于一长度精度值,所述第一角度的公差小于一角度精度值。

2.如权利要求1所述的光罩结构,其特征在于,所述第一主要记号与所述第一辅助记号分别为两圆形记号,所述第一主要记号具有一第一主要圆心以及一第一主要直径,所述第一辅助记号具有一第一辅助圆心以及一第一辅助直径,所述第一参考线是由所述第一主要圆心与所述第一辅助圆心所定义,所述第一主要直径的长度的公差与所述第一辅助直径的长度的公差均小于所述长度精度值。

3.如权利要求1所述的光罩结构,其特征在于,所述第一主要记号为一圆形记号,所述第一辅助记号为一正方形记号,所述第一主要记号具有一第一主要圆心以及一第一主要直径,所述第一辅助记号具有一第一辅助中心以及一第一辅助边长,所述第一参考线是由所述第一主要圆心与所述第一辅助中心所定义,所述第一主要直径的长度的公差与所述第一辅助边长的长度的公差均小于所述长度精度值。

4.如权利要求1所述的光罩结构,其特征在于,所述第二对位记号组对应所述影像撷取模块的一第二影像撷取模块且还包含有一第二辅助记号,所述第二辅助记号设置在所述光罩本体上并邻近所述第二主要记号,所述第二辅助对位记号与所述第二主要对位记号间定义一第二参考线,所述第二参考线与所述第二侧边间形成一第二角度,所述第二参考线的长度的公差小于所述长度精度值,所述第二角度的公差小于所述角度精度值。

5.如权利要求4所述的光罩结构,其特征在于,所述第二主要记号与所述第二辅助记号分别为两圆形记号,所述第二主要记号具有一第二主要圆心以及一第二主要直径,所述第二辅助记号具有一第二辅助圆心以及一第二辅助直径,所述第二参考线是由所述第二主要圆心与所述第二辅助圆心所定义,所述第二主要直径的长度的公差与所述第二辅助直径的长度的公差均小于所述长度精度值。

6.如权利要求4所述的光罩结构,其特征在于,所述第二主要记号为一圆形记号,所述第二辅助记号为一正方形记号,所述第二主要记号具有一第二主要圆心以及一第二主要直径,所述第二辅助记号具有一第二辅助中心以及一第二辅助边长,所述第二参考线是由所述第二主要圆心与所述第二辅助中心所定义,所述第二主要直径的长度的公差与所述第二辅助边长的长度的公差均小于所述长度精度值。

7.如权利要求4所述的光罩结构,其特征在于,所述第三对位记号组对应所述影像撷取模块的一第三影像撷取模块且还包含有一第三辅助记号,所述第三辅助记号设置在所述光罩本体上并邻近所述第三主要记号,所述第三辅助对位记号与所述第三主要对位记号间定义一第三参考线,所述第三参考线与所述第二侧边间形成一第三角度,所述第三参考线的长度的公差小于所述长度精度值,所述第三角度的公差小于所述角度精度值。

8.如权利要求7所述的光罩结构,其特征在于,所述第三主要记号与所述第三辅助记号分别为两圆形记号,所述第三主要记号具有一第三主要圆心以及一第三主要直径,所述第三辅助记号具有一第三辅助圆心以及一第三辅助直径,所述第三参考线是由所述第三主要圆心与所述第三辅助圆心所定义,所述第三主要直径的长度的公差与所述第三辅助直径的长度的公差均小于所述长度精度值。

9.如权利要求7所述的光罩结构,其特征在于,所述第三主要记号为一圆形记号,所述第三辅助记号为一正方形记号,所述第三主要记号具有一第三主要圆心以及一第三主要直径,所述第三辅助记号具有一第三辅助中心以及一第三辅助边长,所述第三参考线是由所述第三主要圆心与所述第三辅助中心所定义,所述第三主要直径的长度的公差与所述第三辅助边长的长度的公差均小于所述长度精度值。

10.如权利要求7所述的光罩结构,其特征在于,所述第四对位记号组对应所述影像撷取模块的一第四影像撷取模块且还包含有一第四辅助记号,所述第四辅助记号设置在所述光罩本体上并邻近所述第四主要记号,所述第四辅助对位记号与所述第四主要对位记号间定义一第四参考线,所述第四参考线与所述第四侧边间形成一第四角度,所述第四参考线的长度的公差小于所述长度精度值,所述第四角度的公差小于所述角度精度值。

11.如权利要求10所述的光罩结构,其特征在于,所述第四主要记号与所述第四辅助记号分别为两圆形记号,所述第四主要记号具有一第四主要圆心以及一第四主要直径,所述第四辅助记号具有一第四辅助圆心以及一第四辅助直径,所述第四参考线是由所述第四主要圆心与所述第四辅助圆心所定义,所述第四主要直径的长度的公差与所述第四辅助直径的长度的公差均小于所述长度精度值。

12.如权利要求10所述的光罩结构,其特征在于,所述第四主要记号为一圆形记号,所述第四辅助记号为一正方形记号,所述第四主要记号具有一第四主要圆心以及一第四主要直径,所述第四辅助记号具有一第四辅助中心以及一第四辅助边长,所述第四参考线是由所述第四主要圆心与所述第四辅助中心所定义,所述第四主要直径的长度的公差与所述第四辅助边长的长度的公差均小于所述长度精度值。

13.如权利要求10所述的光罩结构,其特征在于,所述第一主要对位记号、所述第二主要对位记号、所述第三主要对位记号、所述第四主要对位记号、第一辅助对位记号、所述第二辅助对位记号、所述第三辅助对位记号与所述第四辅助对位记号分别以蚀刻的方式形成在所述光罩本体上。

14.如权利要求10所述的光罩结构,其特征在于,所述第一角度、所述第二角度、所述第三角度与所述第四角度均呈90度。

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