技术总结
一种磁控溅射镀膜方法装置，其包括同轴设置的定齿轮、可旋转的公转支撑盘和可旋转的加热盘，所述公转支撑盘沿周向均布有多个可旋转的自转样片盘，所述自转样片盘的轴线在与所述定齿轮的轴线为中心的一个圆周上，所述自转样片盘设置有与所述定齿轮啮合的自转齿轮，所述加热盘在所述自转样片盘上方，所述加热盘设置有至少一个加工口，所述加工口设置在所述自转样片盘的轴线所在的圆周上方，所述加工口的面积大于所述圆形样片的面积。本发明所提供的一种用于真空腔室的加热装置，大大提高了加热效率，此外，可以一次放入多个样品，做多次不同工艺参数的实验，从而大大提高实验效率。
技术研发人员：王长梗;关江敏
受保护的技术使用者：北京创世威纳科技有限公司
文档号码：201710098425
技术研发日：2017.02.23
技术公布日：2017.06.30