一种红外光学镀膜用钼舟的制作方法

本实用新型涉及镀膜设备领域，特别涉及一种红外光学镀膜用钼舟。

背景技术：

镀膜技术广泛应用于各种工件上，镀膜不仅能保护工件，防止工件磨损、氧化从而使得工件表面光滑，装饰性强，在薄膜制备的过程中，需要很强的功率才能使金属原料从固体状态蒸发气化，但是现有的钼舟结构设计不合理，制造成本高，在加热过程中，金属原料容易溅出舟舱外，浪费原材料，除此，当钼舟持续在高温下使用时，其会随着时间的延长而发生变形，严重时会造成舟体扭曲。

技术实现要素：

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种红外光学镀膜用钼舟，以解决现有技术中导致的上述多项缺陷。

为实现上述目的，本实用新型提供以下的技术方案：一种红外光学镀膜用钼舟，包括舟舱和设置在舟舱两端的舟翼，所述舟翼通过转折弧和连片与舟舱连接，所述舟舱包括四棱锥形的槽体和矩形舱框，所述矩形舱框设置在槽体的上端，所述矩形舱框的开口面积小于槽体的开口面积，所述矩形舱框上沿舟翼方向设有对称的滑轨，所述滑轨上设有与滑轨滑动连接的盖板，所述盖板的两端均向下设有折边，所述盖板上设有注料孔和镀膜孔。

优选的，所述注料孔为上大下小的锥形孔。

优选的，所述连片上设有三棱柱，所述三棱柱的两个侧面均设有防滑纹。

优选的，所述槽体的外壁上设有加强筋。

优选的，所述加强筋为网格状结构。

采用以上技术方案的有益效果是：本实用新型的红外光学镀膜用钼舟，结构设计合理，舟翼通过转折弧和连片与舟舱连接，转折弧的效果可以使得节省很多原材料，在用量巨大的情况下，更是能节省非常多的材料，舟舱包括四棱锥形的槽体和矩形舱框，四棱锥形的槽体使得舟舱的结构更加稳固，钼舟持续在高温下使用时，不易变形，且原料集中，矩形舱框设置在槽体的上端，矩形舱框的开口面积小于槽体的开口面积，矩形舱框可以将槽体边缘的原料挡住，不会外漏，矩形舱框的开口处滑动安装盖板，盖板将矩形舱框的开口密封，避免金属原料从矩形舱框的开口处溅出，盖板的两端均向下带有折边，折边刚好与矩形舱框接触，实现对舟舱的密封，盖板加工带有注料孔和镀膜孔，便于加料和镀膜；

注料孔为上大下小的锥形孔，便于加料，且原料不易从注料孔中溢出，

连片上焊接三棱柱，三棱柱起到加强连片的作用，且三棱柱的两个侧面均带有防滑纹，便于通过三棱柱拿起钼舟，槽体的外壁上带有加强筋，加强筋为网格状结构，增强钼舟的强度，使得钼舟持续在高温下使用时，不易发生扭曲。

附图说明

图1是本实用新型的示意图；

图2是本实用新型盖板的仰视图；

图3是本实用新型舟舱的侧视图。

其中，1-舟舱，101-槽体，102-矩形舟舱，2-舟翼，3-转折弧，4-连片，5-注料孔，6-镀膜孔，7-滑轨，8-盖板，9-三棱柱，901-防滑纹，10-折边，11-加强筋。

具体实施方式

下面结合附图详细说明本实用新型的优选实施方式。

图1-图3出示本实用新型的具体实施方式：一种红外光学镀膜用钼舟，包括舟舱1和设置在舟舱1两端的舟翼2，所述舟翼2通过转折弧3和连片4与舟舱1连接，所述舟舱1包括四棱锥形的槽体101和矩形舱框102，所述矩形舱框102设置在槽体101的上端，所述矩形舱框102的开口面积小于槽体101的开口面积，所述矩形舱框102上沿舟翼2方向设有对称的滑轨7，所述滑轨7上设有与滑轨7滑动连接的盖板8，所述盖板8的两端均向下设有折边10，所述盖板8上设有注料孔5和镀膜孔6。

本实施例中，注料孔5为上大下小的锥形孔，便于加料，且原料不易从注料孔5中溢出。

本实施例中，连片4上焊接三棱柱9，三棱柱9起到加强连片4的作用，且三棱柱9的两个侧面均带有防滑纹901，便于通过三棱柱9拿起钼舟。

本实施例中，槽体101的外壁上带有加强筋11，加强筋11为网格状结构，增强钼舟的强度，使得钼舟持续在高温下使用时，不易发生扭曲。

基于上述，本实用新型的红外光学镀膜用钼舟，结构设计合理，舟翼2通过转折弧3和连片4与舟舱1连接，转折弧3的效果可以使得节省很多原材料，在用量巨大的情况下，更是能节省非常多的材料，舟舱1包括四棱锥形的槽体101和矩形舱框102，四棱锥形的槽体101使得舟舱1的结构更加稳固，钼舟持续在高温下使用时，不易变形，且原料集中，矩形舱框102设置在槽体101的上端，矩形舱框102的开口面积小于槽体101的开口面积，矩形舱框102可以将槽体101边缘的原料挡住，不会外漏，矩形舱框102的开口处滑动安装盖板8，盖板8将矩形舱框102的开口密封，避免金属原料从矩形舱框102的开口处溅出，盖板8的两端均向下带有折边10，折边10刚好与矩形舱框102接触，实现对舟舱1的密封，盖板8加工带有注料孔5和镀膜孔6，便于加料和镀膜，此设计，结构合理，结构稳固，高温时不易变形，原料不易溅出，且节约原料，降低生产成本。

以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。