真空多弧镀膜机的制作方法

本实用新型涉及一种镀膜机，尤其涉及一种真空多弧镀膜机。

背景技术：

目前，真空多弧镀膜机是对金属表面进行镀膜的专用设备，其可适用于镀制耐磨损的涂层。现有技术的真空多弧镀膜机，包括真空抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中的工件转架以及设置在真空室体上的多个弧源装置，可利用物理气相沉积(以下简称“PVD”)技术在工件表面沉积一层几个微米薄的金属层。随着生活水平的提高，人们对于具有更加广泛用途和性能的涂层需求也越来越大。

因此，需要提供一种可制作具有高硬度、良好的耐磨损性能以及可包含多种其它性能的涂层的镀膜设备。

技术实现要素：

本实用新型的目的之一在于提供真空多弧镀膜机，其可制作具有经纳米功能粒子改性的PVD功能涂层的工件。

本实用新型的一实施例提供一真空多弧镀膜机，其包括：真空抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中用于放置镀膜产品的工件转架以及设置在真空室中的弧源装置，其中该弧源装置包含与真空室固定连接的法兰，其中该真空多弧镀膜机还包括设置于该弧源装置附近的纳米粉末导入装置。

在本实用新型的另一实施例中，该纳米粉末导入装置具有200至500微米的导管直径。在本实用新型的又一实施例中，该真空抽气系统包括低真空抽气装置和高真空抽气装置。在本实用新型的另一实施例中，该低真空抽气装置包括罗茨真空泵和机械真空泵。在本实用新型的又一实施例中，该高真空抽气装置包括维持真空泵和磁悬浮分子泵。

本实用新型实施例提供的真空多弧镀膜机不仅能够制造出具有多种性能的经纳米功能粒子改性的PVD功能涂层，还具有易于操作及制程简单的优点。

附图说明

图1是根据本实用新型一实施例的真空多弧镀膜机的立式结构示意图

图2是图1所示的根据本实用新型一实施例的真空多弧镀膜机的左视图

具体实施方式

为更好的理解本实用新型的精神，以下结合本实用新型的部分优选实施例对其作进一步说明。

图1是根据本实用新型一实施例的真空多弧镀膜机100的结构示意图。图2是图1所示的根据本实用新型一实施例的真空多弧镀膜机100的左视图。

如图1所示，根据本实用新型一实施例的真空多弧镀膜机100包括：真空抽气系统10、真空室20、真空室门30、设置在真空室20中用于放置镀膜产品的工件转架40以及设置在真空室20中的弧源装置50，其中该弧源装置50包含与真空室20固定连接的法兰52。请注意，图1所展示的是立式结构的真空多弧镀膜机100，即，工件转架40以垂直于地面的方式设置于该真空多弧镀膜机100中。而本领域技术人员知晓，真空多弧镀膜机100也可以设计为卧式结构(未示出)，即，工件转架40以平行于地面的方式设置于该真空多弧镀膜机100中。该弧源装置50的数量可以根据所需处理的工件数量以及大小进行配置，并不受到附图所展示的实施例的限制。

该弧源装置50的附近设置有纳米粉末导入装置54，该纳米粉末导入装置54具有200微米至500微米的导管直径。该纳米粉末导入装置54可将具有直径约50微米的纳米级的纳米功能粉末导入至真空室20中，以在工件的表面形成经纳米功能粒子改性的PVD功能涂层。因此，使得具有一般PVD涂层的工件表面上增加了具有多种性能的经纳米功能粒子改性的PVD功能涂层。

该真空抽气系统10还包括低真空抽气装置和高真空抽气装置。该低真空抽气装置包括罗茨真空泵60和机械真空泵62。该高真空抽气装置包括维持真空泵70和磁悬浮分子泵72。

本实用新型的技术内容及技术特点已揭示如上，然而熟悉本领域的技术人员仍可能基于本实用新型的教示及揭示而作种种不背离本实用新型精神的替换及修饰。因此，本实用新型的保护范围应不限于实施例所揭示的内容，而应包括各种不背离本实用新型的替换及修饰，并为本专利申请权利要求书所涵盖。