本实用新型属于一种抛光机，尤其是涉及一种方管抛光机。
背景技术：
现有的抛光机对金属方管进行抛光时，各抛光轮对方管依次进行抛光，抛光后，方管的表面留有光亮的条纹。同时，抛光轮的各工序均采用同一方向抛光，因此，当方管上有凹点时，经过各工序抛光后会使凹点增大，从而经过抛光后的方管需要人工对凹点处进行打磨处理，降低生产效率。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提供一种方管抛光机，能够解决上述问题中的至少一个。
根据本实用新型的一个方面，提供了一种方管抛光机，包括机架、输送机构、砂轮、麻轮、布轮和驱动装置，输送机构、砂轮、麻轮、布轮和驱动装置均设于机架上，砂轮、麻轮和布轮沿着输送机构依次排列，砂轮、麻轮和布轮均与驱动装置连接，砂轮相对于输送机构输送的方管倾斜设置。
本实用新型的有益效果是：通过砂轮相对于输送机构输送的方管倾斜设置，使得砂轮在对方管进行抛光时，对方管进行倾斜抛光，避免了方管抛光后太过光亮，减少了条纹的形成；同时，由于砂轮与麻轮、布轮的抛光方向不一致，从而，使得方管上的凹点可以经不同方向的抛光实现磨平，提高加工效率。
在一些实施方式中，砂轮、麻轮和布轮均设有两组，其中一组水平设置，另一组竖直设置，两组分别与方管的水平边和竖直边相对应。由此，便于对方便四个周边的加工。
在一些实施方式中，两组砂轮与方管的夹角均为15～30°。由此，可以方便砂轮对方管的抛光打磨，有效防止长条纹的形成。
在一些实施方式中，驱动装置包括第一伺服电机和第二伺服电机，第一伺服电机与其中一组砂轮连接，第二伺服电机与另一组砂轮连接。由此，设有第一伺服电机和第二伺服电机可以方便两组砂轮位置的调节，方便该方管抛光机加工不同尺寸的方管。
在一些实施方式中，驱动装置还包括第三伺服电机和第四伺服电机，第三伺服电机与其中一组麻轮连接，第四伺服电机与另一组麻轮连接。由此，设有第三伺服电机和第四伺服电机可以方便两组麻轮位置的调节，方便该方管抛光机加工不同尺寸的方管。
在一些实施方式中，驱动装置还包括第五伺服电机和第六伺服电机，第五伺服电机与其中一组布轮连接，第六伺服电机与另一组布轮连接。由此，设有第五伺服电机和第六伺服电机可以方便两组布轮位置的调节，方便该方管抛光机加工不同尺寸的方管。
在一些实施方式中，输送机构包括送料夹和出料夹，送料夹和出料夹分别设于机架的首尾两端。由此，方便方管在加工时进行输送。
附图说明
图1是本实用新型方管抛光机的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。
参照图1：方管抛光机，包括机架、输送机构1、砂轮2、麻轮3、布轮4和驱动装置5，输送机构1、砂轮2、麻轮3、布轮4和驱动装置5均设于机架上，砂轮2、麻轮3和布轮4沿着输送机构1依次排列，砂轮2、麻轮3和布轮4均与驱动装置5连接，砂轮2相对于输送机构1输送的方管倾斜设置。
在实际使用过程中，方管经输送机构1进行输送，依次经过砂轮2、麻轮3和布轮4的抛光，然后输出。通过砂轮2的倾斜设置，可以实现对方管的粗抛，使得方管表面初始的条纹与粗抛的条纹具有一定角度，避免金属方管反光较大。
其中，输送机构1包括送料夹11和出料夹12，送料夹11和出料夹12 分别设于机架的首尾两端。送料夹11的两侧设有夹板，夹板通过气缸将方管夹紧，通过输送机构1使得方管从送料夹11一端输送至出料夹12一端。出料夹12两端也通过气缸将方管夹紧，再输出。
砂轮2、麻轮3和布轮4均设有两组，其中一组水平设置，另一组竖直设置，两组分别与方管的水平边和竖直边相对应。从而，可以实现对方管各侧边的加工，提高抛光效率。
两组砂轮2与方管的夹角均为15～30°。从而，经过砂轮2对方管进行倾斜抛光，然后再经过麻轮3和布轮4的抛光，可以对方管表面的小凸点或凹点瑕疵进行抛光磨平，防止凹点进一步增大。
驱动装置5包括第一伺服电机51和第二伺服电机52，第一伺服电机51与其中一组砂轮连接，第二伺服电机52与另一组砂轮连接。通过第一伺服电机51，可以调节其中一组砂轮之间的距离；伺服电机可以准确控制砂轮的移动距离，从而，在砂轮调节过程中，无需手动调节砂轮的位置，实现了该方管抛光机可以适用不同尺寸的方管抛光，提高适用性。第二伺服电机52可以调节另一组砂轮之间的距离，以便满足不同尺寸的方管加工。
驱动装置5还包括第三伺服电机53和第四伺服电机54，第三伺服电机53与其中一组麻轮3连接，第四伺服电机54与另一组麻轮3连接。由此，通过第三伺服电机53和第四伺服电机54可以调节两组麻轮之间的相对距离，满足不同尺寸方管的加工。
驱动装置5还包括第五伺服电机55和第六伺服电机56，第五伺服电机 55与其中一组布轮4连接，第六伺服电机56与另一组布轮4连接。由此，通过第五伺服电机55和第六伺服电机56可以调节两组麻轮之间的相对距离，满足不同尺寸方管的加工。
以上的仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。