一种光学镀膜铜治具表面镀层去除处理工艺的制作方法

文档序号:15747979发布日期:2018-10-23 23:48阅读:676来源:国知局

本发明涉具体涉及一种光学镀膜铜治具表面镀层去除处理工艺。



背景技术:

铜材质相对效软易机械加工、耐高温、不易变形等特性,广泛用于装载光学镀膜产品的治具。然而在不断使用铜治具装载产品镀膜的同时,铜治具表面同样会不断沉积光学镀膜材料,当达到一定厚度后表面膜层易脱落造成光学产品成膜时产生亮点,以及遮档光学产品成膜,因此需要对铜治具表面镀膜层去除处理。目前采用对铜治具表面进行喷砂处理,喷砂机喷出的砂需要对铜治具表面形成7-8公斤的压力,才能将铜治具表面镀膜层去除干净。巨大的冲击力,容易造成铜治具形变,当使用时间越长(特别是相对效薄的铜治具)形变越大,铜治具的使用寿命因此大打折扣。



技术实现要素:

为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:一种光学镀膜铜治具表面镀层去除处理工艺,包括以下步骤:1、将需要进行表面镀层去除处理的光学镀膜铜治具放入氟化氢铵溶液中浸泡一断时间,使其表面镀膜层脆化脱落;2、取出光学镀膜铜治具清洗后风干;3、风干后的光学镀膜铜治具利用喷砂工艺进行处理,去除残留在光学镀膜铜治具上的表面镀膜层。

作为上述方案的优选,所述氟化氢铵溶液中氟化氢铵与水的重量比为1:1-1:1.5。

作为上述方案的优选,所述光学镀膜铜治具在氟化氢铵溶液中浸泡的时间为5-10分钟。

本发明的工作原理是:光学镀膜铜治具在氟化氢铵中浸泡,其表面镀膜层在氟化氢铵的作用下脆化脱落,再利用喷砂工艺对残留在铜治具表面的镀膜层进行喷砂处理,从而去除光学镀膜铜治具上的表面镀膜层。由于氟化氢铵的作用,光学镀膜铜治具上的表面镀膜层已经脆化,喷砂机只需要使用较小的功率,便可以将未脱落的表面镀膜层去除干净,从而减少喷砂过程对光学镀膜铜治具的破坏,提高光学镀膜铜治具的使用寿命。

本发明的有益效果是:本发明的光学镀膜铜治具表面镀层去除处理工艺,能够有效的去除光学镀膜铜治具表面的镀膜层,同时减少对光学镀膜铜治具的破坏,提高了光学镀膜铜治具的使用寿命。

具体实施方式

一种光学镀膜铜治具表面镀层去除处理工艺,首先将需要进行表面镀层去除处理的光学镀膜铜治具放入氟化氢铵溶液中浸泡10分钟,使光学镀膜铜治具表面的镀膜层脆化脱落;然后取出光学镀膜铜治具清洗后风干;再将风干后的光学镀膜铜治具利用喷砂工艺进行处理,去除残留在光学镀膜铜治具上的表面镀膜层。氟化氢铵溶液中氟化氢铵与水的重量比为1:1。

以上详细描述了本发明的较佳具体实施例,应当理解,本领域的普通技术人员无需创造性劳动就可以根据本发明的构思做出诸多修改和变化,因此,凡本技术领域中技术人员依本发明的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案,皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。

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