本实用新型涉及显示技术领域，具体涉及在显示领域制造过程中的一种研磨装置及研磨系统。
背景技术：
在显示技术领域，平板显示装置具有完全平面化、轻、薄、省电等特点，符合未来图像显示装置发展的必然趋势。现有技术中，平板显示装置主要包括:PDP(Plasma display panel)、LCD(Liquid crystal displays)、FED(Field emission displays)、OLED(Organic light-emittingdiode displays)等，特别是LCD、OLED具有体积小、功耗低、制造成本低和无辐射等特点，在当前的平板显示装置市场已经占据了主导地位。
基板的表面精度决定了平板显示装置的光学性能以及加载在基板上的元件的性能与质量。然而，在平板显示装置生产过程中，例如在搬运基板时，基板的表面容易被划伤，从而影响装置性能。
为了改善显示装置的画面显示质量，现有技术中，一般采用平面旋转研磨装置，对基板表面进行研磨、抛光。该研磨装置工作时，通过喷嘴将研磨液喷洒到旋转抛光棉的一侧，研磨液渗入抛光棉内，再利用抛光棉对基板进行旋转研磨。
然而，上述技术方案中，由于喷嘴是固定不动的，在抛光棉的不断旋转过程中就会导致研磨液的分布不均匀，从而影响基板的抛光效果。
技术实现要素：
本实用新型要解决的技术问题在于克服现有技术中的基板研磨时研磨液分布不均导致的研磨效果不佳的缺陷。
鉴于此，本实用新型提供一种研磨装置，包括：
研磨组件；
配液组件，包括配液主管以及与所述配液主管连接的若干配液支管，其中所述若干配液支管与所述研磨组件固定连接并在研磨组件上均匀分布。
可选地，所述研磨组件包括研磨件、以及设置在所述研磨件外壁，用于支承所述研磨件的连接件。
可选地，所述连接件上开设有若干通孔，所述配液支管嵌入所述通孔与所述研磨组件固定连接。
可选地，所述配液支管靠近所述研磨组件一端端部的喷嘴。
本实用新型还提供一种研磨系统，包括上述任一项所述的研磨装置。
可选地，还包括：
槽体，以及设置在所述槽体上方的固定装置，所述固定装置用于固定待研磨件；
第一支路，与所述槽体连接；
所述第一支路包括第一容器，输送装置以及第一阀门，所述第一容器通过所述输送装置与所述配液组件远离所述研磨组件的一端连接；所述槽体通过所述第一阀门与所述第一容器连接。
可选地，还包括：与所述槽体连接的第二支路；
所述第二支路包括第二容器和第二阀门；所述第二容器通过第二阀门与所述槽体连接。
可选地，还包括三通阀；所述槽体通过所述三通阀分别与所述第一支路和第二支路连接。
可选地，还包括：驱动装置，用于驱动所述研磨装置往返运动。
本实用新型技术方案，具有如下优点：
1.本实用新型提供的研磨装置，通过固定连接的研磨组件与配液组件，即研磨组件与配液组件之间的位置相对固定，并通过配液组件中的若干配液支管在研磨组件上的均匀分布，使得配液组件向研磨组件提供的研磨液能够均匀分布在研磨组件上，达到研磨组件能够较好地研磨待研磨件的目的，从而使得待研磨件具有较好的抛光效果。
2.本实用新型提供的研磨装置，通过在配液支管靠近研磨组件一端端部设置的喷嘴，能够增大研磨液的输送半径，提高研磨效率。
3.本实用新型提供的研磨系统，通过设置与槽体连接的第一支路，用于实现研磨液的循环使用，达到节约资源的目的。
4.本实用新型提供的研磨系统，通过设置于槽体连接的第二支路，用于实现废弃研磨液的回收，防止废弃研磨液污染环境。
5.本实用新型提供的研磨系统，通过设置驱动研磨装置往返运动的驱动装置，提高研磨系统的研磨效率。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例1中研磨装置的一个具体示意的结构示意图；
图2为本实用新型实施例1中研磨组件的一个具体示意的结构示意图；
图3为本实用新型实施例2中研磨系统的一个具体示意的结构示意图；
附图标记：10-配液组件；11-配液主管；12-配液支管；13-喷嘴；20-研磨组件；21-连接件；22-研磨件；23-通孔；30-待研磨件；40-固定装置；50-槽体；60-第一支路；61-第一容器；62-输送装置；63-第一阀门；70-第二支路；71-第二容器；72-第二阀门；80-三通阀。
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
此外，下面所描述的本实用新型不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
实施例1
本实用新型实施例提供一种研磨装置，如图1所示，包括固定连接的研磨组件20和配液组件10。研磨组件20用于待研磨件的研磨；配液组件10包括配液主管11以及与配液主管连接的若干配液支管12，用于向研磨组件20提供研磨液，其中，若干配液支管与研磨组件20固定连接，并在研磨组件上均匀分布。
通过固定连接的研磨组件20与配液组件10，即研磨组件20与配液组件10之间的位置相对固定，并通过配液组件中的若干配液支管在研磨组件上的均匀分布，使得配液组件10向研磨组件20提供的研磨液能够均匀分布在研磨组件20上，达到研磨组件20能够较好地研磨待研磨件的目的，从而使得待研磨件具有较好的抛光效果。
如图1所示，配液支管12与配液主管11的轴向垂直连接。配液主管11从外界获取研磨液，经配液主管12输送至研磨组件20中。通过将配液支管12与配液主管11垂直设置，能够有利于研磨液直接进入研磨组件20，防止研磨液流量过猛所带来的研磨组件对待研磨件研磨造成的阻碍，影响研磨效果。
如图2所示，配液组件10还包括设置在配液支管12靠近研磨组件20一端端部的喷嘴13。通过喷嘴12的设置能够增大研磨液的输送半径，提高研磨效率。
如图1所示，研磨组件20包括研磨件22、以及设置在研磨件22外壁，用于支承研磨件22的连接件21。其中，研磨件22为抛光棉，连接件21为设置在抛光棉上表面的铝层。
连接件21上开设有若干通孔23，配液支管12嵌入通孔23中，与研磨组件20固定连接。通过设置通孔23实现配液组件10与研磨组件20的连接，在实现输送研磨液的同时，能够保证配液组件10与研磨组件20的固定连接。
作为配液支管12与配液主管11位置关系的可替换实施方式，配液支管12与配液主管11的轴向(研磨液流动方向)的夹角小于90°；即研磨液以一定的角度输送至研磨组件20，能够增大研磨液与研磨组件20的接触面积，提高研磨液的输送速度，从而提高研磨装置的研磨效率。优选地，配液支管12与配液主管11的轴向(研磨液流动方向)的夹角为75°至85°。
作为连接件21的可替换实施方式，连接件21可以为其他任意形状的支承件，也可以为任意其他刚性材料，只需保证配液组件10与研磨组件20的固定可靠连接即可。
作为研磨件22的可替换实施方式，研磨件22可以为海绵、羊毛轮等其他磨料，只需保证研磨件22在工作时，不会对待研磨物件造成二次损伤。
作为本实施例的一种可选实施方式，该研磨装置包括若干平行设置的配液组件10，即设置多个配液组件20与研磨组件20固定连接，可以提高向研磨组件20输送研磨液的效率；此外，能够保证研磨液均匀分布在研磨组件20内，达到提高该研磨装置的研磨质量的目的，进而提高待研磨件的抛光效果。
作为本实施例的另一种可选实施方式，研磨组件20可以只包括有研磨件22，且该研磨件22包覆配液支管12设置且配液支管12设置在研磨件22的内部。只需保证配液支管在工作过程中，不会对待研磨件造成损伤。
实施例2
本实用新型实施例提供一种研磨系统，如图3所示，该系统包括实施例1中的研磨装置，用于在有机电致发光装置的制备过程中，对基板的研磨。其中，关于研磨装置的具体结构细节，请参照实施例1，在此不再赘述。
如图3所示，基板30放置在固定装置40上，该固定装置40为吸附垫。即基板30放置在吸附垫上，将基板30与吸附垫之间抽真空，使得基板30能够固定在吸附垫上，并不会对基板30造成损伤。
在固定装置40的下方设置有槽体50，用于收集研磨液，以防止研磨液外泄污染环境。其中，在槽体50的底部开设有回流孔，用于回收研磨液进行再次利用，节省资源。
如图3所示，该研磨系统包括与槽体50连接的第一支路60和第二支路70，该系统通过三通阀80使得槽体50分别与第一支路60和第二支路70连接。该三通阀80有一个进口，两个出口，其中，进口与槽体50连接，出口分别与第一支路60和第二支路70连接。其中，第一支路60用于回收研磨液再次利用；第二支路70，包括第二容器71，用于在研磨液最后一次使用之后，回收废弃研磨液。当三通阀80与第一支路60连接的出口打开，与第二支路70连接的出口关闭时，槽体50中的研磨液经第一支路60实现回收再利用；当三通阀80与第一支路60连接的出口关闭，与第二支路70连接的出口打开时，槽体50中的研磨液经第二支路60实现废弃回收。
第一支路60包括第一容器61，用于存储研磨液；输送装置62，用于将第一容器61中的研磨液输送至配液组件10。其中，输送装置62为水泵，即该系统工作时，水泵62将第一容器61中的研磨液输送至配液组件10，研磨后的研磨液经槽体50收集后，回流至第一容器61中，以实现研磨液的循环使用。
其中，与第一支路60连接的配液主管11为可伸缩的配液主管11，使得该研磨系统中的驱动装置(图中未示出)驱动研磨装置往返运动，实现对基板30的研磨。
该研磨系统的工作过程如下：打开第一支路60上的第一阀门63，关闭第二支路70上的第二阀门72，使得第一支路60工作，第二支路70断开。基板30放置在固定装置40后，固定装置40的抽真空装置开始工作，将基板30与固定装置40之间的空气抽走，使得基板30与固定装置40之间为真空，基板30固定在固定装置40上。水泵62将研磨液从第一容器61中取出，经研磨装置的配液组件10输送至研磨组件20中；驱动装置驱动研磨装置往返运动，实现对基板30的研磨。槽体50收集研磨过程中从固定装置流下的研磨液，经三通阀80，回流至第一容器61中。水泵62不断从第一容器61中取出研磨液，实现研磨液的循环使用。
在研磨液的最后一次使用时，关闭第一阀门62，开启第二阀门72，使得废弃研磨液从槽体50回流至第二容器71中，实习废弃研磨液的回收。
作为固定装置40的可选实施方式，固定装置40可以为卡槽，即基板10放置在固定装置40后，卡槽将基板10卡紧，使得基板10的位置固定。固定装置40也可以为其他装置，只需保证基板10的位置固定即可。
作为第一支路60、第二支路70与槽体50之间可替换连接方式，在槽体50的底部或侧壁分别开设有两个回流孔，分别与第一支路60和第二支路70连接，即三通阀80可以省略。
作为输送装置的可选实施方式，输送装置62可以为自吸泵等，只需保证该输送装置62能够将研磨液从第一容器61中输送至研磨装置即可。
显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型创造的保护范围之中。