本实用新型涉及镀膜机技术领域，尤其涉及一种PVD真空离子镀膜机。
背景技术：
随着科技水平的提高，电镀已经无法满足人们的需求。取而代之的真空离子镀技术越来越受到人们的欢迎，随着真空离子镀技术的不断发展，真空离子镀的市场也越来越大。那么传统真空离子镀膜机内的工件托架已经无法满足需求。传统的托架结构复杂而且悬挂的零件少，镀膜效率低。而且传统的托架只能围绕中心转轴旋转，经常出现零件镀膜厚度不均匀的现象，严重影响真空离子镀层的质量。
技术实现要素：
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在PVD真空镀膜机镀膜不均匀的缺点，而提出的一种PVD真空离子镀膜机。
为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
设计一种PVD真空离子镀膜机，包括机壳，所述机壳的一侧设置有密封门，所述机壳的另一侧设置有抽气泵，所述机壳的顶部设置有电机，所述机壳的内腔设置有转动支架，所述转动支架上垂直设有连接轴，所述连接轴通过联轴器与电机的动力轴连接，所述转动支架上开设有一对放置槽，所述转动支架的顶部转动连接有一对第二卡槽，所述转动支架的底部转动连接有第一卡槽，所述第一卡槽上固定连接转轴，所述转轴远离第一卡槽的一端固定连接转动齿轮，所述机壳的内腔底部垂直设有立柱，所述立柱的顶部固定连接有与转动齿轮相互啮合的固定齿轮，所述机壳的内壁固定安装有等离子弧源。
优选的，所述转动支架的侧壁开设有插槽，所述插槽的底部转动设有滚轮。
优选的，所述第一卡槽、第二卡槽均为U型，并且U型内腔均设置有弧形弹片。
本实用新型提出的一种PVD真空离子镀膜机，有益效果在于：通过设置第一卡槽、第二卡槽、固定齿轮和转动齿轮，电机带动转动支架旋转的同时待镀膜板在转动齿轮的带动下自转，实现了更加均匀镀膜的目的，避免出现镀膜不均匀的现象，保证了PVD镀膜的质量。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种PVD真空离子镀膜机的结构示意图；
图2为本实用新型提出的一种PVD真空离子镀膜机的转动支架侧视图。
图中：1机壳、2密封门、3等离子弧源、4转动支架、5电机、6第一卡槽、7第二卡槽、8放置槽、9立柱、10固定齿轮、11转动齿轮、12滚轮、13插槽、14连接轴、15抽气泵。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
参照图1-2，一种PVD真空离子镀膜机，包括机壳1，机壳1的一侧设置有密封门2，机壳1的另一侧设置有抽气泵15，机壳1的顶部设置有电机5，机壳1的内腔设置有转动支架4，转动支架4上垂直设有连接轴14，连接轴14通过联轴器与电机5的动力轴连接，转动支架4上开设有一对放置槽8，转动支架4的顶部转动连接有一对第二卡槽7，转动支架4的底部转动连接有第一卡槽6，第一卡槽6上固定连接转轴16，转轴16远离第一卡槽6的一端固定连接转动齿轮11，机壳1的内腔底部垂直设有立柱9，立柱9的顶部固定连接有与转动齿轮11相互啮合的固定齿轮10，机壳1的内壁固定安装有等离子弧源3。
转动支架4的侧壁开设有插槽13，插槽13的底部转动设有滚轮12，设置第一卡槽6、第二卡槽7均为U型，并且U型内腔均设置有弧形弹片，通过设置第一卡槽6、第二卡槽7、固定齿轮10和转动齿轮11，使得该镀膜机在使用时，将待镀膜板材从插槽13插入放置槽8中，第一卡槽6、第二卡槽7夹持待镀膜板材，电机5带动转动支架4旋转的同时待镀膜板在转动齿轮11的带动下自转，抽气泵15抽出机壳1中的空气，等离子弧源3对待镀膜板材进行离子镀膜，实现了更加均匀镀膜的目的，避免出现镀膜不均匀的现象，保证了PVD镀膜的质量。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。