掩膜条及掩膜板的制作方法

本实用新型涉及显示器制备技术领域，特别是涉及掩膜条及掩膜板。

背景技术：

目前的显示类型主要包括液晶显示(Liquid Crystal Display,LCD)、有机发光二极管显示(Organic Light—Emitting Diode,OLED)、等离子显示(Plasma Display Panel,PDP)和电子墨水显示等多种。其中，OLED显示器以其轻薄、主动发光、快响应速度、广视角、色彩丰富及高亮度、低功耗、耐高低温等众多优点而被业界公认为是继LCD显示器之后的第三代显示技术，可以广泛用于智能手机、平板电脑、电视等终端产品。

精细金属掩膜(FMM Mask)模式，是通过蒸镀方式将有机发光材料按照预定程序蒸镀到低温多晶硅背板上，利用精细掩模板上的图形，蒸镀红绿蓝有机物到规定位置上。目前的精细掩模板结构通常包括多个平行排列的掩模条以及支撑框架，将每一掩膜条张紧固定于支撑框架上，并且每一掩模条上设置有蒸镀区，蒸镀区内开设有多个用于蒸镀像素材料的像素开口。

在实际生产中，发明人发现，采用现有技术中的精细掩膜板，蒸镀的有机材料与背板上设计的像素位置出现偏差，影响产品的性能。

技术实现要素：

基于此，本实用新型提供了一种掩膜条，解决了蒸镀的有机材料与背板上设计的像素位置出现偏出的问题，提高了产品性能。

为实现以上目的，本实用新型提供了一种掩膜条。

一种掩膜条，包括：

本体，所述本体具有第一中心线和第二中心线，所述第一中心线和所述第二中心线均为所述本体的中线，且所述第一中心线与所述本体的延伸方向平行，所述第二中心线与所述第一中心线垂直；

设置于所述本体上的蒸镀区及两组过渡区，两组所述过渡区分别沿所述本体延伸方向相对设置，所述蒸镀区位于两组所述过渡区之间；

其中，每组所述过渡区内均设置有多个刻蚀图形，且每组所述过渡区内的所述刻蚀图形关于第一中心线轴对称分布，两组所述过渡区内的所述刻蚀图形关于所述第二中心线对称分布；所述刻蚀图形包括应力分散部，所述应力分散部具有向远离所述第二中心线方向凸起的弧形边。

上述掩膜条中每组过渡区内的刻蚀图形关于第一中心线轴对称分布，并且两组过渡区内的刻蚀图形关于与第一中心线垂直的第二中心线轴对称分布，保证过渡区在整个本体的对称性，避免因为过渡区的不对称而使掩膜条受力不均而褶皱。

并且，每个过渡区内设置有多个刻蚀图形，每个刻蚀图形包括应力分散部且位于拉伸方向上，通过多个应力分散部分解本体被拉伸时产生的内力，进而可以减小掩膜条张紧时因为拉伸方向受力较大而在拉伸线周围产生褶皱的现象。

当掩膜条受到由第二中心线指向端部的拉力时，掩膜条为了抵抗变形产生会在拉伸方向上产生较大的应力，该应力传递至弧形边处被分散减弱，进而使拉伸方向的应力与其他区域应力之间的差距减小，使掩膜条整体的应力较为均匀，进而减弱张紧掩膜条时产生褶皱的现象，避免蒸镀区内的像素开口伸展程度不同而使像素位置异位，防止蒸镀的有机材料与背板上设计的像素位置出现偏差，提高产品性能。

在其中一个实施例中，所述本体延伸方向的两端分别包括第一拉伸作用点和第二拉伸作用点，所述第一拉伸作用点和所述第二拉伸作用点关于所述第二中心线对称分布，且所述第一拉伸作用点和所述第二拉伸作用点之间形成拉伸作用带，每组所述过渡区内的至少一个所述刻蚀图形分布于所述拉伸作用带上。

在其中一个实施例中，所述刻蚀图形还包括应力整合部，所述应力整合部和所述应力分散部沿所述本体的延伸方向顺序设置，且所述应力整合部位于所述应力分散部靠近所述第二中心线的一侧。

在其中一个实施例中，所述应力整合部与所述应力分散部连通，或者所述应力整合部与所述应力分散部之间设有间隔。

在其中一个实施例中，所述应力分散部和所述应力整合部均为轴对称图形，且所述应力分散部的对称轴与所述第一中心线平行，所述应力整合部的对称轴与所述应力分散部的对称轴重合。

在其中一个实施例中，所述应力分散部为圆弧形刻蚀区，所述应力整合部为矩形刻蚀区；或者所述应力分散部为波浪形刻蚀区，所述应力整合部为矩形刻蚀区。

在其中一个实施例中，所述应力分散部在所述第二中心线方向上的最大宽度大于所述应力整合部在所述第二中心线方向上的最大宽度。

在其中一个实施例中，所述应力分散部的刻蚀深度等于或小于所述本体的厚度，所述应力整合部的刻蚀深度等于所述本体的厚度。在其中一个实施例中，所述过渡区内的所述刻蚀图形设置为多排，其中奇数排的所述刻蚀图形的对称轴重合，偶数排的所述刻蚀图形的对称轴重合，且奇数排的所述刻蚀图形的对称轴与所述偶数排的所述刻蚀图形的对称轴，在所述第二中心线的方向上相互错开。

本实用新型实施例还提供了一种掩膜板结构，包括支撑框架及上述掩膜条，所述掩膜条拉伸张紧于所述支撑框架上。

附图说明

图1为本实用新型一实施例中掩膜条的结构示意图；

图2为本实用新型另一实施例中掩膜条的结构示意图；

图3为图1所示掩膜条中过渡区的一种结构示意图；

图4为图1所示掩膜条中过渡区的另一结构示意图；

图5为图1所示掩膜条中过渡区的又一结构示意图；

图6为图1所示掩膜条中过渡区的作用原理图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

正如背景技术所述，采用现有技术中的掩膜板，会出现蒸镀的有机材料与背板上设计的像素位置出现偏出的问题，发明人研究发现，出现这种问题的根本原因在于，通常由夹爪夹持掩膜条进行拉伸使其张紧于支撑框架上时，掩膜条在拉伸线上的受力较大，与其他区域的受力不同，使掩膜条在拉伸线上产生不均匀的应力，容易产生褶皱。从而导致掩膜条上的各个像素开口的伸展程度不同，出现掩膜条上的像素开口与背板玻璃上设计的像素位置异位、在蒸镀工艺中使蒸镀的有机材料偏位的现象。

如图1-3所示，基于以上原因，本实用新型一实施例中公开了一种掩膜条100。掩膜条100包括本体10，本体10具有第一中心线a和第二中心线b，第一中心线a和第二中心线b均为本体10的中线，且第一中心线a与本体的延伸方向平行，第二中心线b与第一中心线a垂直。

本体10上设置有蒸镀区12及两组过渡区14，两组过渡区14分别沿本体10的延伸方向相对设置，蒸镀区12位于两组过渡区14之间，每组过渡区14内均设置有多个刻蚀图形30，每组过渡区14内的刻蚀图30形关于第一中心线a轴对称分布，两组过渡区14内的刻蚀图形30关于与第一中心线a垂直的第二中心线b轴对称分布，且每个刻蚀图形30均包括应力分散部32，应力分散部32具有向远离第二中心线b方向凸出的弧形边321。

上述掩膜条100用于蒸镀时，通过夹爪拉伸张紧于支撑框架上。其中，蒸镀区12内开设有蒸镀开口，将蒸镀开口对应形状的有机材料蒸镀于基板上，两组过渡区14分别设于本体10延伸方向的相对两端，用于平衡掩膜条100被拉伸时拉伸方向上产生的应力。

每组过渡区14内的刻蚀图形30关于第一中心线a轴对称分布，并且两组过渡区14内的刻蚀图形30关于与第一中心线a垂直的第二中心线b轴对称分布，保证过渡区14在整个本体10的对称性，避免因为过渡区14的不对称而使掩膜条100受力不均而褶皱。进一步地，每个过渡区14内设置有多个刻蚀图形30，每个刻蚀图形30包括应力分散部32且位于拉伸方向上，通过多个应力分散部32分解本体10被拉伸时产生的内力，进而可以减小掩膜条100张紧时因为拉伸方向受力较大而在拉伸线周围产生褶皱的现象。

具体地，应力分散部32的弧形边321向远离第二中心线b的方向凸起，弧形边321相对两端之间的开口朝向第二中心线b。如图4所示，当掩膜条100受到由第二中心线b指向端部的拉力时，掩膜条100为了抵抗变形产生会在拉伸方向上产生较大的应力，该应力传递至弧形边321处被分散减弱，进而使拉伸方向的应力与其他区域应力之间的差距减小，使掩膜条100整体的应力较为均匀，进而减弱掩膜条100张紧时的褶皱，避免蒸镀区12内的像素开口伸展程度不同而使像素位置异位，防止蒸镀的有机材料与背板上设计的像素位置出现偏差，提高产品性能。

在一个实施例中，本体10延伸方向的两端分别包括第一拉伸作用点c和第二拉伸作用点d，第一拉伸作用点c和第二拉伸作用点d关于第二中心线b对称分布，且第一拉伸作用点c和第二拉伸作用点d之间形成拉伸作用带，每组过渡区14内的至少一个刻蚀图形30分布于拉伸作用带上。在拉伸张紧掩膜条100的过程中，在本体10延伸方向的两端分别设置夹爪拉紧本体10，在夹爪夹持本体10一端的位置形成第一拉伸作用点c，在夹爪夹持本体10另一端的位置形成第二拉伸作用点d，并且关于第二中心线b对称分布的第一拉伸作用点c和第二拉伸作用点d之间形成应力较为集中的拉伸作用带。下面将第一拉伸作用点c和第二拉伸作用点d作为一个拉伸作用点组，以第一拉伸作用点c和第二拉伸作用点d之间的条形区域假想为拉伸作用带，对不同情形下每个过渡区14内刻蚀图形30与拉伸作用带的分布关系进行详细介绍。

在其中一个实施例中，本体10上分布有一个上述拉伸作用点组，其中的第一拉伸作用点c和第二拉伸作用点d之间形成覆盖第一中心线a的一条拉伸作用带，每个过渡区14内设置有至少一个位于上述拉伸作用线上的刻蚀图形30，该刻蚀图形30覆盖第一中心线a。

在另一个实施例中，本体10上分布有多个上述拉伸作用点组，关于第二中心线b对称分布的第一拉伸作用点c和第二拉伸作用点d之间形成一条与第一中心线a平行的拉伸作用带。其中，如图2所示，当多个拉伸作用点组的个数为偶数时，形成偶数条关于第一中心线a相互对称的拉伸作用带；此时，每个过渡区14内设置有至少一个位于每条拉伸作用带上的刻蚀图形30；当多个拉伸作用点c的个数为奇数时，形成的奇数条拉伸作用带中的一条覆盖第一中心线a，剩余的拉伸作用带关于第一中心线a对称设置；此时，每个过渡区14内设置有至少一个位于每条拉伸作用带上的刻蚀图形30。

可以理解地是，拉伸作用带的数量根据本体10的实际宽度而定，例如单个或多个，只需要保证每种情况下的拉伸作用带上均分布有刻蚀图形30，以减弱拉伸作用带上较强的应力，平均本体10整体的应力即可，在此不作限定。

在一个实施例中，刻蚀图形30还包括应力整合部34，应力整合部34和应力分散部32沿本体10的延伸方向顺序设置，且应力整合部34位于应力分散部32靠近第二中心线b的一侧。如图6所示，拉伸掩膜条100时，掩膜条100产生与拉力F方向相反并用于抵抗变形的内力，该内力由掩膜条100的端部指向第二中心线b。而将刻蚀图形30的应力整合部34靠近第二中心线b设置，相当于沿上述内力的传递方向上，依次设置应力分散部32和应力整合部34，内力在通过应力分散部32被分散后传递至应力整合部34，并在应力整合部34整合为平行本体10延伸方向的力，让分散过后的力沿直线传输一段距离，减少分散之后力与力之间的干扰，进而避免分散之间多个方向的力相互影响而产生褶皱，进一步提高掩膜条100整体的抗皱效果。

在一个实施例中，应力分散部32为轴对称图形，且应力分散部32的对称轴与第一中心线平行设置，也就是将多个应力分散部32沿平行掩膜条100的拉伸方向刻蚀，用于分散拉伸方向的内力。并且，应力整合部34为轴对称图形，应力整合部34的对称轴与应力分散部32的对称轴重合设置，使应力整合部34和应力分散部32的对称轴重合，使刻蚀图形30整体受力均匀。

进一步地，过度区14内的刻蚀图形30设置为多排，其中奇数排的刻蚀图形30的对称轴重合，偶数排的刻蚀图形30的对称轴重合，且奇数排的刻蚀图形的对称轴与偶数排的刻蚀图形30的对称轴，在第二中心线b的方向上相互错开。如此过渡区14内多个刻蚀图形30排列为交错的多排，使多排刻蚀图形30之间相互补充强度，本体10整体的强度及应力在第二中心线b的方向上更加均匀，掩膜条100张网时的应力更加均匀，进一步防止掩膜条100褶皱。

在一个实施例中，如图3-4所示，应力分散部32为圆弧形刻蚀区，应力分散部的弧形边321为圆弧形，应力整合部34为矩形刻蚀区。在过渡区14内设置的刻蚀图形30通过刻蚀工艺进行加工，而刻蚀图形30内的应力分散部32为圆弧形刻蚀区，具体覆盖圆弧形区域刻蚀得到；应力整合部34为矩形刻蚀区，具体覆盖矩形区域刻蚀得到。

可以理解地，在其他一些实施例中，如图5所示，应力分散部32为波浪形刻蚀区，应力分散部32的弧形边321为波浪形，应力整合部34位矩形刻蚀区。波浪形的弧形边321整体向远离第二中心线b的方向凸起，在张网时分散减弱指向第二中心线b的应力。进一步地，应力分散部32还包括直线边323，直线边323连接于弧形边321相对的两端之间，直线边323和弧形边321围合界定应力分散部32。

在一个实施例中，应力分散部32在第二中心线b方向上的最大宽度L1，大于应力整合部34在第二中心线b方向上的最大宽度L2，宽度较窄的应力整合部34可以接收到更多宽度较宽的应力分散部32传递过来的应力，提高应力整合效果。

在一个实施例中，弧形刻蚀区的刻蚀深度等于本体10的厚度(即全刻蚀)，或者刻蚀深度小于本体10的厚度(即半刻蚀)，使应力分散部32处的强度小于其周围未经刻蚀区域的强度，平衡拉伸时产生的应力；矩形刻蚀区的刻蚀深度等于本体10的厚度(即全刻蚀)，使应力整合部34处的强度小于其周围未经刻蚀区域的强度，平衡拉伸时产生的应力。在另一实施例中，弧形刻蚀区周围区域半刻蚀，并且弧形刻蚀区周围区域的刻蚀深度小于弧形刻蚀区的刻蚀深度，使弧形刻蚀区的强度低于其周围区域的强度，通过弧形刻蚀区分散并减弱拉伸方向的应力。同样地，矩形刻蚀区周围区域半刻蚀，全刻蚀的矩形刻蚀区强度小于其周围区域，用于整合并减弱拉伸方向的应力。

如图3和图4所示，应力整合部34与应力分散部32连通，或者应力整合部34与应力分散部32之间设有间隔。在本体10的过渡区14内，可以刻蚀得到相互连通的应力整合部34和应力分散部32(如图3所示)，也可以刻蚀相互间隔的应力整合部34和应力分散部32，两者之间预留少量距离(如图4所示)，能够平衡拉伸时产生的应力即可。

本实用新型还提供一种掩膜板，该掩膜板包括掩膜条100及支撑框架，掩膜条100拉伸张紧于支撑框架上，用于后续精细蒸镀有机材料。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。