一种用于高真空镀膜机专用的水冷探头座的制作方法

本实用新型是一种用于高真空镀膜机专用的水冷探头座，属于高真空镀膜机用探头座领域。

背景技术：

国内传统的镀膜机镀膜时都是靠把高压电源的功率恒定在一定值后，通过秒表时间来计算镀膜的厚度，这种传统的膜厚测量办法很难检测到速率过冲的问题，一旦速率过冲时，不仅膜厚不准确，而且还会因为功率过大造成的材料飞溅，对镀膜产品的表面质量带来一定的伤害，功率过冲时会把大颗粒的材料直接蒸镀到产品的表面,目前都是靠购买美国inficon或者日本品牌的水冷探头座，水冷探头座的作用在于真空系统中膜厚传感器长时间工作后，由于热量的辐射导致了膜厚侦测的不安定性，故障率较带水冷的探头座要高很多。

技术实现要素：

针对现有技术存在的不足，本实用新型目的是提供一种用于高真空镀膜机专用的水冷探头座，以解决现有技术真空腔体内热辐射对膜厚侦测造成影响的问题。

为了实现上述目的，本实用新型是通过如下的技术方案来实现：一种用于高真空镀膜机专用的水冷探头座，包括接头、弯管和探头座，所述接头底部与弯管进行垂直焊接，所述弯管底部与探头座进行螺纹连接。

进一步地，所述接头和弯管均设置有两个。

进一步地，所述接头、弯管和探头座内部均为中空状。

进一步地，所述接头、弯管和探头座使用的材料均为不锈钢。

本实用新型的一种用于高真空镀膜机专用的水冷探头座，设计的探头为双探头，当第一探头出现故障时或者正常工作寿命结束时，可以在不用外界干预的情况下，自动切换到第二探头进行工作，从而连续性地完成全部镀膜过程；水冷探头座内部是中空的，用的是不锈钢件，加了水冷后（水温控制在19度到26度）通过冷却水的不断循环，有效地把镀膜时产生的热量源源不断带走，因而有效地保证了镀膜时热辐射对膜厚侦测的稳定性和准确性。

附图说明

通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本实用新型的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型探头座C视图的结构示意图；

图3为本实用新型探头座主视图的结构示意图；

图4为本实用新型探头座A视图的结构示意图；

图5为本实用新型探头座左视图的结构示意图。

图中：接头-1、弯管-2、探头座-3。

具体实施方式

为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。

请参阅图1、图2、图3、图4与图5，本实用新型提供一种用于高真空镀膜机专用的水冷探头座：包括接头1、弯管2和探头座3，所述接头1底部与弯管2进行垂直焊接，所述弯管2底部与探头座3进行螺纹连接。

其中，所述接头1和弯管2均设置有两个。

其中，所述接头1、弯管2和探头座3内部均为中空状。

其中，所述接头1、弯管2和探头座3使用的材料均为不锈钢。

当使用者想使用本专利的时候，首先将膜厚侦测用探头（膜厚传感器）安装在接头1上，然后将探头座3与水冷系统进行安装，对本设计进行使用；当镀膜时产生的热量时，探头座3内部的水冷循环将热量源源不断带走，从而使膜厚侦测的稳定性和准确性提高；本实用新型的一种用于高真空镀膜机专用的水冷探头座，设计的探头为双探头，当第一探头出现故障时或者正常工作寿命结束时，可以在不用外界干预的情况下，自动切换到第二探头进行工作，从而连续性地完成全部镀膜过程；水冷探头座内部是中空的，用的是不锈钢件，加了水冷后（水温控制在19度到26度）通过冷却水的不断循环，有效地把镀膜时产生的热量源源不断带走，因而有效地保证了镀膜时热辐射对膜厚侦测的稳定性和准确性。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点,对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。