一种新型卷绕式真空内纠偏装置的制作方法

本公开一般涉及真空镀膜装置，具体涉及一种新型卷绕式真空内纠偏装置。

背景技术：

在需要对长条器件进行真空镀膜时，在真空室内配置有以下构建的溅射装置，原料卷，成膜辊，靶材，气体供给机构和卷取辊等，经该溅射装置溅射处理后的长条膜基材通过卷取辊收集。但是在溅射过程中，由于真空室内的高温环境，卷绕基材在成膜辊上卷绕时，基材会发生位置偏移，进而影响基材内部的张力，使传输系统出现故障。而现在使用较多的纠偏装置是在位置发生偏移后，才进行纠正，这时基材内部的张力已经失去平衡，长此以往，传输系统磨损速度较快。

技术实现要素：

鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种新型卷绕式真空内纠偏装置。

第一方面，能在一定程度上防止基材发生位置偏移。

根据本申请实施例提供的技术方案，一种新型卷绕式真空内纠偏装置，包括真空腔、真空泵、供气机构、放料辊、收料辊、纠偏辊和靶材，所述真空泵和所述供气机构均与所述真空腔连通，所述放料辊、所述收料辊、所述纠偏辊和所述靶材均放置在所述真空腔内，所述放料辊、所述收料辊、所述纠偏辊通过轴心穿过所述真空腔的后端面，所述放料辊、所述收料辊、所述纠偏辊与所述真空腔内后端面的连接处设有密封圈，所述靶材位于所述真空腔内的中心轴线上，所述靶材固定在所述真空腔内的上端面上，还包括滑轨、调整架，所述滑轨的数量为四个，其中两个所述滑轨位于所述真空腔内侧的左端部位，另外两个所述滑轨位于所述真空腔内侧的右端部位，位于所述真空腔内侧左端部位的两个所述滑轨位于同一条直线上，位于所述真空腔内侧右端部位的两个所述滑轨位于同一条直线上，所述调整架位于所述放料辊和所述收料辊之间，所述调整架包括竖直调整板和水平调整板，所述调整架的侧视为″″形，所述竖直调整板的数量为两个，两个所述竖直调整板上均设有通孔，所述纠偏辊能穿过所述通孔，所述水平调整板的数量为一个，两个所述竖直调整板的上端面与一个所述水平调整板焊接为一体成型结构，所述调整架上设有滑轮、通孔、旋转底座和凹槽，所述滑轮通过螺钉固定在所述调整架的下端面上，所述调整架通过所述滑轮与所述滑轨连接，所述通孔、所述旋转底座和所述凹槽位于所述调整架的上端面上，所述通孔位于所述水平调整板的中心部位，所述凹槽的数量为两个，两个所述凹槽分别位于所述水平调整板的左端部位和右端部位，所述旋转底座通过螺钉固定在所述凹槽内，所述旋转底座上固定连接一凸轮。

本申请中，所述真空腔为长方体形状，所述真空腔的前侧端面设有开合门，开合门上设有把手。

本申请中，所述供气机构与所述真空腔之间安装有闸式调整阀。

本申请中，所述靶材通过电缆管穿过所述通孔，所述靶材连接直流脉冲电源，所述靶材位于所述真空腔内侧的中心部位。

本申请中，所述滑轮的数量为四个，分别固定在所述竖直调整板下端面的拐角处。

本申请中，所述凸轮的上端面与电机轴固定连接。

本申请中，所述纠偏辊为带附加积分效果的比例型纠偏辊，所述纠偏辊与纠偏电机连接。

本申请中，两个所述竖直调整板之间的距离大于所述纠偏辊辊身的长度。

本申请中，所述滑轨位于所述放料辊和所述收料辊之间。

综上所述，本申请的上述技术方案通过在纠偏辊的缠绕基材的部位设置调整架，调整架的前后运动，能实时纠正基材的运输线路，进而在一定程度上达到防止基材在卷绕过程中的位置偏移。

附图说明

通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1为本申请整体装置的正视结构示意图；

图2为本申请整体装置的正视剖面结构示意图；

图3为本申请装置纠偏辊正视结构示意图；

图4为本申请装置调整架侧视结构示意图；

图5为本申请装置调整架俯视结构示意图。

图中标号：1、真空腔；2、真空泵；3、供气机构；4、放料辊；5、收料辊；6、纠偏辊；7、靶材；8、滑轨；9、调整架；10、竖直调整板；11、水平调整板；12、滑轮；13、通孔；14、旋转底座；15、凹槽；16、凸轮。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。

请参考图1、图2、图3、图4和图5，一种新型卷绕式真空内纠偏装置，包括真空腔1、真空泵2、供气机构3、放料辊4、收料辊5、纠偏辊6和靶材7，所述真空泵2和所述供气机构3均与所述真空腔1连通，所述放料辊4、所述收料辊5、所述纠偏辊6和所述靶材7均放置在所述真空腔1内，所述放料辊4、所述收料辊5、所述纠偏辊6通过轴心穿过所述真空腔1的后端面，所述放料辊4、所述收料辊5、所述纠偏辊6与所述真空腔1内后端面的连接处设有密封圈，所述靶材7位于所述真空腔1内的中心轴线上，所述靶材7固定在所述真空腔1内的上端面上，还包括滑轨8、调整架9，所述滑轨8的数量为四个，其中两个所述滑轨8位于所述真空腔1内侧的左端部位，另外两个所述滑轨8位于所述真空腔1内侧的右端部位，位于所述真空腔1内侧左端部位的两个所述滑轨8位于同一条直线上，位于所述真空腔1内侧右端部位的两个所述滑轨8位于同一条直线上，所述调整架9位于所述放料辊4和所述收料辊5之间，所述调整架9包括竖直调整板10和水平调整板11，所述调整架9的侧视为″″形，所述竖直调整板10的数量为两个，两个所述竖直调整板10上均设有通孔，所述纠偏辊6能穿过所述通孔，所述水平调整板11的数量为一个，两个所述竖直调整板10的上端面与一个所述水平调整板11焊接为一体成型结构，所述调整架9上设有滑轮12、通孔13、旋转底座14和凹槽15，所述滑轮12通过螺钉固定在所述调整架9的下端面上，所述调整架9通过所述滑轮12与所述滑轨8连接，所述通孔13、所述旋转底座14和所述凹槽15位于所述调整架9的上端面上，所述通孔13位于所述水平调整板11的中心部位，所述凹槽15的数量为两个，两个所述凹槽15分别位于所述水平调整板11的左端部位和右端部位，所述旋转底座14通过螺钉固定在所述凹槽15内，所述旋转底座14上固定连接一凸轮16。所述真空腔1为长方体形状，所述真空腔1的前侧端面设有开合门，开合门上设有把手。所述供气机构3与所述真空腔1之间安装有闸式调整阀。所述靶材7通过电缆管穿过所述通孔13，所述靶材7连接直流脉冲电源，所述靶材7位于所述真空腔1内侧的中心部位。所述滑轮12的数量为四个，分别固定在所述竖直调整板10下端面的拐角处。所述凸轮16的上端面与电机轴固定连接。所述纠偏辊6为带附加积分效果的比例型纠偏辊，所述纠偏辊6与纠偏电机连接。两个所述竖直调整板10之间的距离大于所述纠偏辊6辊身的长度。所述滑轨8位于所述放料辊4和所述收料辊5之间。

安装方法：所述放料辊4、所述收料辊5、所述纠偏辊6穿过所述真空腔1内部的后端面与电机轴连接，所述靶材7的上端面通过悬挂绳悬挂在所述真空腔1内侧的上端面上，所述靶材7的悬挂绳被电缆管包裹，所述滑轨8通过螺钉固定安装在所述真空腔1内部的底表面上，所述调整架9通过所述滑轮12与所述滑轨8连接，所述旋转底座14通过螺钉固定在所述水平调整板11的所述凹槽15内，所述凸轮16通过螺钉固定在所述旋转底座14上，所述凸轮16的轴心与电机轴连接。

在安装时，需要精确需要镀膜基材的宽度，然后根据需要镀膜基材的宽度，调整所述调整架9的前后位置，使得所述竖直调整板10的后端面往前移动时，能刚好接触到需要镀膜基材的后侧边缘，使得所述竖直调整板10往后移动时，能刚好接触到需要镀膜基材的前侧边缘。

使用方法：使用时，先将基材装置在所述放料辊4上，然后打开所述真空泵2，使所述真空腔1内的真空度达到一定值，然后打开所述供气机构3，使所述真空腔1内充满气体，然后再打开连接所述靶材7的支流脉冲电源，此时所述真空腔1内充满等离子体，这时打开连接所述放料辊4、所述收料辊5、所述纠偏辊6的电机，这时所述靶材7上的原子将会被轰击到基材的表面，这时再打开连接所述凸轮16的电机，所述凸轮16的转动将会带动所述调整架9的前后移动，所述调整架9的前后移动能实时规范基材的运行角度，防止基材发生偏斜。

图2和图3上的箭头方向指示的是基材运输方向。

本技术还可以在滑轨上标注刻度，方便所述调整架9的调节。

溅射镀膜技术是用离子轰击靶材表面，把靶材的原子被击出的现象称为溅射。溅射产生的原子沉积在基体表面成膜称为溅射镀膜。通常是利用气体放电产生气体电离，其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶体，击出阴极靶体原子或分子，飞向被镀基体表面沉积成薄膜。目前人们开发出了溅射速率较高的射频溅射、三极溅射和磁控溅射技术。

提高溅射镀膜的速率，关键是提高靶材的溅射率，这就必须提高等离子体的电离度，即在相同的放电功率下，获得更多的离子，从离子轰击靶面的溅射产物看，除了击出原子或分子外，还击出二次电子，这些电子被电场加速后与气体原子或分子发生碰撞又引起气体电离。充分利用二次电子的能量是提高等离子体电离度的有效途径。

以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。