一种真空磁控溅射镀膜机的制作方法

本实用新型涉及真空镀膜机的技术领域，尤其是涉及一种真空磁控溅射镀膜机。

背景技术：

真空镀膜机根据镀膜工艺原理大概分为以下几种：真空蒸发镀膜机，真空磁控溅射镀膜机，多弧离子镀镀膜机等。其中真空磁控溅射镀膜机主要利用辉光放电将氩气离子撞击靶材表面，电浆中的阳离子会加速冲向基片的负极表面，这个冲击将使靶材的原子被弹出而沉积在基片上形成薄膜。

现有的授权公告号为cn206692724u公开的一种中国专利公开了一种真空磁控溅射镀膜机，包括抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中用于放置镀膜基片的工件转架以及设置在真空室中的磁控溅射装置，其中该磁控溅射装置包含与真空室固定连接的磁控靶法兰。真空室上开设有抽气口，抽气系统与抽气口相连。

工作的时候，抽气系统将真空室内的气体抽走，从而使得真空室内持续处于负压真空状态，从而保证了基片镀膜的质量。当工作结束后，工作人员需要将真空室门打开，将基片从真空室内取出；真空室内长期处于负压状态，所以真空室门打开困难。

技术实现要素：

针对上述现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于是提供一种真空磁控溅射镀膜机，通过设置助开组件，当镀膜工作完成需要将基片取出的时候，工作人员打开锁定组件后，只需要通过按压助开杆，即可将门体从真空室推开来，继而方便将门体打开。

本实用新型的上述发明目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种真空磁控溅射镀膜机，包括真空室，所述真空室上设置有门体，所述真空室上开设有抽气口，所述真空室外设置有与所述抽气口连通的抽气系统，所述门体转动连接在所述真空室上，所述真空室上设置有助开组件，所述助开组件包括助开杆，所述助开杆转动设置在所述真空室外，且所述助开杆的一端抵紧在所述门体上，另一端朝向远离所述真空室的一侧延伸。

通过采用上述技术方案，当基片被镀膜完成后需要将基片从真空室取出的时候，使得抽气系统与真空室外的抽气口断开连接；接着将锁定组件打开，然后工作人员按压助开杆远离门体的一端，并且朝向远离门体的方向按压助开杆，在按压助开杆远离门体的一端的过程中，助开杆靠近门体的一端产生推开门体的作用力，最终将门体推开。通过设置助开组件，当镀膜工作完成需要将基片取出的时候，工作人员打开锁定组件后，只需要通过按压助开杆，即可将门体从真空室推开来，继而方便将门体打开。

本实用新型进一步设置为：所述助开杆靠近所述真空室的一端转动设置有滚轮，所述门体上开设有供所述滚轮滑动的滑动槽。

通过采用上述技术方案，当工作人员朝向背对门体方向按压助开杆远离门体端部的时候，助开杆靠近门体的端部在门体上滑移，此时滚轮在滑动槽内滑移，一方面减小了助开杆在门体上的摩擦力，从而节约了按压助开杆时所需要的力气，另一方面减小了助开杆自身的摩擦，使得助开杆的使用寿命增长。

本实用新型进一步设置为：所述助开杆上套设有连接杆，所述助开杆上设置有将所述连接杆固定在所述助开杆上的定位件。

通过采用上述技术方案，通过设置连接杆，使得工作人员的施力点距离助开杆与真空室的转动连接点更远，从而节约了工作人员打开门体时的力气。

本实用新型进一步设置为：所述定位件包括设置于所述助开杆上的弹簧跳豆、以及开设于所述连接杆上且供所述弹簧跳豆穿过的定位孔。

通过采用上述技术方案，真空室开始进行镀膜工作的时候，可以将连接杆从助开杆上拆卸下来，使得在真空室工作的过程中不会对周围的工作人员造成干扰，同时在需要连接杆的时候，安装方便。

本实用新型进一步设置为：所述真空室上还设置有锁定组件，所述锁定组件包括固定设置于所述真空室上的固定片、固定设置于所述门体上的定位片、以及锁定螺栓，所述锁定螺栓的头部抵紧在所述定位片远离所述固定片的一侧，所述锁定螺栓穿过所述定位片且与所述固定片螺纹连接。

通过采用上述技术方案，工作前，将基片放置在真空室后，将门体盖合在真空室上后，将锁定螺栓穿过定位片，并且拧动锁定螺栓，使得锁定螺栓螺纹连接在固定片上，从而防止门体在工作的时候意外打开。

本实用新型进一步设置为：所述真空室与所述门体之间设置有橡胶圈，所述橡胶圈与所述真空室固定连接。

通过采用上述技术方案，在工作的时候，由于抽气系统持续将真空室内的气体抽出，真空室内形成负压，继而对门体产生朝向真空室内的作用力，而此时，橡胶圈位于门体与真空室之间，从而使得门体对橡胶圈产生作用力，而橡胶圈本身具有弹性，橡胶圈产生形变，最终使得门体与真空室之间的密封性增加。

本实用新型进一步设置为：所述真空室上设置有真空计。

通过采用上述技术方案，工作人员通过读出真空计上数值，从而方便控制抽气系统，从而使得真空室内的真空度控制的更加精确。

本实用新型进一步设置为：所述真空室上设置有磁控溅射装置；所述真空室的外侧壁上设置有控制器，所述控制器与所述真空计电连接，所述控制器与所述磁控溅射装置电连接。

通过采用上述技术方案，当真空计上的读数在设定范围之外时如（2.0×10^-1—4.0×10^-1pa），控制器接收到真空计的信号，然后控制器控制磁控溅射装置停止工作，从而防止设备不会由于真空度不够而使得设备损坏。

综上所述，本实用新型的有益技术效果为：

1、通过设置助开组件，当镀膜工作完成需要将基片取出的时候，工作人员打开锁定组件后，只需要通过按压助开杆，即可将门体从真空室推开来，继而方便将门体打开；

2、当工作人员朝向背对门体方向按压助开杆远离门体端部的时候，助开杆靠近门体的端部在门体上滑移，此时滚轮在滑动槽内滑移，一方面减小了助开杆在门体上的摩擦力，从而节约了按压助开杆时所需要的力气，另一方面减小了助开杆自身的摩擦，使得助开杆的使用寿命增长。

附图说明

图1为本实用新型一种真空磁控溅射镀膜机的结构示意图；

图2为图1中a部分的局部放大示意图，用于表示出件口的结构；

图3为出件口处的剖视结构示意图，用于表示锁定组件的结构；

图4为图3中b部分的局部放大示意图，用于表示滚轮与滑动槽的结构。

附图标记：1、真空室；2、抽气口；3、抽气系统；4、机械真空泵；5、油扩散泵；6、磁控溅射装置；7、出件口；8、定位件；81、弹簧跳豆；82、定位孔；9、锁定组件；91、固定片；92、定位片；93、锁定螺栓；10、门体；11、连接片；12、滚轮；13、滑动槽；14、连接杆；15、助开组件；17、真空计；18、控制器；19、抵紧片。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型作进一步详细描述。

参照图1，本实用新型公开了一种真空磁控溅射镀膜机，包括真空室1，真空室1的一侧开设有抽气口2。真空室1位于抽气口2处连接有抽气系统3，抽气系统3包括机械真空泵4以及油扩散泵5。机械真空泵4与抽气口2连接，油扩散泵5与机械真空泵4连接。真空室1内设置有磁控溅射装置6，磁控溅射装置6的具体结构与前文中提到的对比文件相同，此处不再赘述。

参照图2和图4，真空室1的另一侧开设有出件口7，出件口7一侧的真空室1上通过销轴铰接有用于堵住出件口7的门体10。真空室1上设置有助开组件15，助开组件15包括助开杆。真空室1靠近出件口7的外侧壁上焊接有两块互相平行的连接片11，两块连接片11互相间隔设置，并且两块连接片11均位于真空室1与门体10的铰接点相对的一侧。助开杆通过销轴转动连接在两块连接片11之间；助开杆的一端通过销轴转动连接有一个橡胶的滚轮12。助开杆含有滚轮12的一端朝向真空室1的外侧壁。门体10靠近滚轮12的侧壁上焊接有抵紧片19，抵紧片19朝向滚轮12的一侧开设有滑动槽13。助开杆远离滚轮12的一端朝向远离真空室1的一侧延伸。通过转动助开杆远离滚轮12的一端，滚轮12抵接在滑动槽13内，并且能够在滑动槽13内滑动。

参照图4，助开杆远离滚轮12的一端套设有连接杆14，并且助开杆上设置有定位件8。定位件8包括弹簧跳豆81和定位孔82。弹簧跳豆81设置在助开杆内，位于远离滚轮12的一端，并且凸出的部分穿过助开杆。定位孔82开设在连接杆14上，弹簧跳豆81的凸出部分穿过定位孔82，从而将连接杆14固定在助开杆上。

参照图3，真空室1外设置有锁定组件9，锁定组件9包括固定片91、定位片92和锁定螺栓93。定位片92焊接在门体10的侧壁上；固定片91焊接在真空室1的外侧壁上，且位于靠近出件口7的部位；同时位于定位片92相对的部位。锁定螺栓93穿过定位片92，然后与固定片91螺纹连接；锁定螺栓93的头部与定位片92远离固定片91的侧壁抵紧。门体10与真空室1之间设置有橡胶圈，橡胶圈通过厌氧胶粘接在真空室1的出件口7处。

参照图1，真空室1的外侧设置有真空计17，真空计17与真空室1的内侧连通。真空室1的外壁上设置有控制器18，控制器18与真空计17电连接，并且控制器18与磁控溅射装置6电连接。

实施原理：

工作的时候，先将需要镀膜的基片通过出件口7、放置在真空室1内，然后工作人员转动门体10，使得门体10盖合在出件口7处。接着将锁定螺栓93穿过定位片92，然后与固定片91螺纹连接，通过转动锁定螺栓93，使得锁定螺栓93的头部与定位片92抵紧，最后开始对基片进行镀膜工作。

当基片镀膜完成后，先关闭抽气系统3，并且使得抽气系统3与抽气口2断开连接。然后拧动锁定螺栓93，使得锁定螺栓93与固定片91脱开。然后工作人员朝向背对门体10的方向按压连接杆14，带动助开杆靠近真空室1的一端朝向门体10的方向转动，使得滚轮12在滑动槽13内滑移，随着工作人员持续的按压连接杆14，最终门体10在助开杆的推动下打开，从而方便将门体10打开。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。