专利名称：一种柱状磁控溅射源蚌形双室真空镀膜机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种柱状磁控溅射源真空镀膜机，适用于表面等离子体气相沉积领域。具有镀膜机结构简单、成本低廉、生产效率高、镀膜均匀区大等优点。适用于镀纯金属膜、化合物膜。
蚌形双室真空镀膜机结构简单。省去一套真空机组和一套电控系统，成本低廉，生产效率高。因此被广泛应用。当前蚌形双室真空镀膜机主要是采用电阻蒸发源的蒸发型镀膜机，尚未见到安装柱状磁控溅射源的镀膜机。
目前，安装柱状磁控溅射源的真空膜机多是单室镀膜机，双室镀膜机也多是一个真空机组与两个独立的立式或卧式镀膜室相连，虽然节省了一套真空机组、一套控制电源，但仍需加工出两个完整的镀膜室。
本实用新型的目的是提供一种柱状磁控溅射源蚌形双室真空镀膜机。其特征是镀膜机的两个镀膜室是由两部分组成的，一部分是固定不动的共用体。它与真空机组相联，另一部分是可以开合移动的主体。也叫前门。两个镀膜室的中央分别安装旋转磁控柱状磁控溅射源和工件转架。
图1．是本实用新型的实施例简图，
图1-a是正视图。
图1-b是顶视图。下面结合实施例图，对本实用新型做进一步说明。
柱状磁控溅射蚌形双室真空镀膜机的两个镀膜室由两部分组成，一部分是固定不动的共用体(1)，它与真空机组(2)相联，另一部分是可以开合移动的前门(3)、(4)，在前门的顶部分别安装旋转磁控柱状磁控溅射源(5)、(6)，前门内分别安装工件转架(7)、(8)，进气系统(9)、(10)等。
利用柱状磁控溅射源蚌形双室真空镀膜机进行镀膜时，先将已经装好工件的前门(3)与固定体(1)扣合好以后进行镀膜。另一个前门可以进行工件的拆卸和安装，待第一炉镀膜完成后，打开前门(3)，关上前门(4)进行新的镀膜过程。
本实用新型与其它安装柱状磁控溅射源的真空镀膜机相比较，镀膜室的结构更简单、成本更低廉。是一种新型磁控溅射镀膜机。
权利要求1．一种柱状磁控溅射源蚌形双室真空镀膜机，镀膜机的两个镀膜室由两部分组成，一部分是固定不动的公用体，它与真空机组相联，另一部分是可以开合移动的前门，两个镀膜室中央分别安装旋转磁控溅射柱状源和工件。
2．根据权利要求1．所述的一种柱状磁控溅射源蚌形双室真空镀膜机，其特征是镀膜机是蚌形结构，有一固定不动的共用体，与真空机组相联，有两个可以开合移动的前门。
3．根据权利要求1．所述的一种柱状磁控溅射源蚌形双室真空镀膜机，其特征是在两个镀膜室中央安装的是旋转磁控溅柱状射源。
专利摘要本实用新型公开了一种柱状磁控溅射蚌形双室真空镀膜机,两个镀膜室由两部分组成,一部分是固定不动的共用体,它与真空机组相联,另一部分是可以开合移动的前门,在两个镀膜室的中央分别安装旋转磁控溅射柱状源和工件。属于表面等离子体气相沉积领域,镀膜机结构简单、成本低廉、生产效率高,是一种新型磁控溅射镀膜机。
文档编号C23C14/35GK2324162SQ98200970
公开日1999年6月16日 申请日期1998年2月9日 优先权日1998年2月9日
发明者王福贞 申请人:王福贞