专利名称：抛光液内循环系统上水密封装置的制作方法
技术领域：
本实用新型属于抛光机床技术领域，是一种抛光液内循环系统上水密封装置。
现有抛光液内循环系统上水装置中，其转动主轴与上水装置的连接，全靠橡胶密封圈密封，易老化、变形、磨损、造成漏液，需经常维修，影响生产、效率低，材辅料损耗大。
本实用新型的目的是设计一种无老化变形，低磨损，低漏液的抛光液内循环系统上水装置。
本实用新型所采取的技术方案是对现有的上水装置加以改进，采用机械密封的结构；本实用新型所采取的具体措施是分别设置下端盖、下壳体、支撑板、定位轴、弹性件，转动封头，固定封头，密封盖，下端盖与支撑板分别固定于定位轴两端，下壳体设在下端盖及支撑板之间，套装在定位轴上；弹性件设在支撑板与下壳体之间，密封盖设在下壳体上，固定封头穿设紧固安装在下壳体上，转动封头穿过密封盖与固定封头紧密连接。
本实用新型在使用时，将下端盖固定于抛光机轴承座上，下壳体套装在定位轴上，转动封头与抛光机抛光液内循环系统主轴连接，固定封头固定于下壳体上，并与转动封头连接，下壳体在弹簧性件弹力边的作用下，带动固定封头与转动封头紧密连接，转动封头与固定封头可采用球形端面配合或锥形端面配合的机械密封，因此同橡胶密封圈密封相比，不存在老化、变形、磨损小、漏液少，通过试用、抛光液的机用利率由26％提高到90％，并提高了加工的光学元件的质量和精度，与外循环系相比，抛光一盘玻璃由165分钟缩短为45分钟，同现有技术相比具有显著的优点。
结合附图
及实例进一步介绍本实用新型的结构特征。
附图表示本实用新型且于JP 350 G抛光机的结构示意图。
参见附图，本实用新型具有下端盖1、支撑板15、定位轴13、下端盖1及支撑板15由螺母4垫圈3及螺母17弹垫16固定于定位轴13两端，本实用新型还具有下壳体10弹性件采用弹簧14，下壳体10套设于定位轴13上，弹簧14套设在下壳体10与支撑板15之间的定位轴13上，本实用新型还具有密封盖8及球形端面固定封头9，密封盖8盖顶设有孔，在孔的园周上设有凹槽，在凹槽内设有毡圈6，密封盖8设在下壳体10上，由螺钉7固定，与下壳体10部分壳体构成收液仓，在仓底设置出液口，球形密端面固定封头9穿设在下壳体10上密封盖8内由螺母1 2及垫圈11固定，固定封头9为中空，一端设进水口18，转动封头5与主轴2连接，具有与固定封头9相匹配的球形端面，并与其压紧连接，转动封头5为中空。
权利要求1.一种抛光液内循环系统上水密封装置，其特征是具有下端盖、定位轴、支撑板、下壳体、密封盖、转动封头、固定封头、弹性件，下端盖及支撑板分设固定在定位轴两端，下壳体套设在定位轴上支撑板与下端盖之间，弹性件设在下壳体与支撑板之间，密封盖设在下壳体上并固定，固定封头穿设在下壳体上密封盖内并固定，转动封头穿过密封盖与固定封头紧密配合连接。
2.如权利要求1所述的抛光液内循环系统上水密封装置，其特征是固定封头，转动封头，端面为球形配合连接。
3.如权利要求1所述的抛光液内循环系统上水密封装置，其特征是固定封头，转动封头，端面为锥形配合连接。
专利摘要本实用新型为抛光机床技术领域提供了一种抛光液内循环系统上水密封装置,其主要特点将现有橡胶密封圈密封,改设有配合端面机械密封,因此无老化、无变形、磨损小、漏液少,提高了工效,降低了辅材损耗,同现有技术相比,抛光液利用率由26%提高到90%,抛光时间由165分钟,缩短为45分钟,具有显著的优点。
文档编号B24B57/00GK2384741SQ9921534
公开日2000年6月28日 申请日期1999年7月3日 优先权日1999年7月3日
发明者蔡子龙 申请人:河南中南光电仪器厂