平均至少=个（优选地=到六个；更优选地=到五个；最优选地四个）径基。
[0037] 本发明的化学机械抛光垫的抛光层具有适于抛光衬底的抛光表面。优选地，抛光 表面适于抛光选自W下中的至少一者的衬底：磁性衬底、光学衬底和半导体衬底。更优选 地，抛光表面适于抛光半导体衬底。
[0038] 本发明的化学机械抛光垫的抛光层优选地由包含选自W下的聚合物的聚合材料 制成：聚碳酸醋、聚讽、耐绝、聚酸、聚醋、聚苯乙締、丙締酸聚合物、聚甲基丙締酸甲醋、聚氯 乙締、聚氣乙締、聚乙締、聚丙締、聚下二締、聚乙締亚胺、聚氨基甲酸醋、聚酸讽、聚酷胺、聚 酸酷亚胺、聚酬、环氧树脂、娃酬、EPDM和其组合。优选地，抛光层包含聚氨基甲酸醋。本领 域的普通技术人员将理解选择厚度对于既定抛光操作适用于化学机械抛光垫中的抛光层。 优选地，抛光层展现20到150密耳（更优选地30到125密耳；最优选地40到120密耳） 的平均厚度。
[0039]优选地，抛光表面具有选自穿孔和凹槽中的至少一者的巨纹理。穿孔可W从抛光 表面延伸部分或全部通过抛光层的厚度。优选地，凹槽配置在抛光表面上，使得在抛光期间 旋转化学机械抛光垫后，至少一个凹槽向被抛光的衬底的表面扩展。优选地，抛光表面具有 包括至少一个选自由W下组成的群组的凹槽的巨纹理：曲面凹槽、线性凹槽和其组合。
[0040]优选地，本发明的化学机械抛光垫的抛光层具有适于抛光衬底的抛光表面，其中 抛光表面具有包含凹槽图案形成于其中的巨纹理。优选地，凹槽图案包含多个凹槽。更优 选地，凹槽图案选自凹槽设计。优选地，凹槽设计选自由W下组成的群组：同屯、凹槽（其可 W是圆形或螺旋形的）、曲面凹槽、交叉影线凹槽（例如，配置为垫表面上的X-Y网格）、其 它规则设计（例如，六角形、=角形）、轮胎面型图案、不规则设计（例如，分形图案）和其组 合。更优选地，凹槽设计选自由W下组成的群组：随机凹槽、同屯、凹槽、螺旋形凹槽、交叉影 线凹槽、X-Y网格凹槽、六角形凹槽、S角形凹槽、分形凹槽和其组合。最优选地，抛光表面 具有螺旋槽图案形成于其中。凹槽型态优选地选自具有直式侧壁的矩形或凹槽截面可W是 "V"形、"U"形、银齿和其组合。
[0041]用于形成本发明的化学机械抛光垫的端点检测窗的异氯酸醋封端的氨基甲酸醋 预聚物是具有5. 5到9. 5重量％ (优选地5. 75到9. 0重量％ )的未反应的NC0基团的异 氯酸醋封端的氨基甲酸醋预聚物，其中所述异氯酸醋封端的氨基甲酸醋预聚物是包含W下 的成分的反应产物：芳香族多官能异氯酸醋和预聚物多元醇。
[0042]用于形成本发明的化学机械抛光垫的端点检测窗的异氯酸醋封端的氨基甲酸醋 预聚物优选地每分子含有平均两个反应性异氯酸醋基（即，NC0)。
[0043]用于形成本发明的化学机械抛光垫的端点检测窗的异氯酸醋封端的氨基甲酸醋 预聚物优选地是具有小于0. 1重量％的游离甲苯二异氯酸醋（TDI)单体含量的低游离异氯 酸醋封端的氨基甲酸醋预聚物。
[0044]优选地，用于制备用于形成本发明的化学机械抛光垫的端点检测窗的异氯酸醋封 端的氨基甲酸醋预聚物的芳香族多官能异氯酸醋是芳香族二异氯酸醋。更优选地，芳香族 多官能异氯酸醋选自由W下组成的群组：2,4-甲苯二异氯酸醋；2,6-甲苯二异氯酸醋；4， 4'-二苯基甲烧二异氯酸醋；糞-1,5-二异氯酸醋；联甲苯胺二异氯酸醋；对苯二异氯酸 醋；亚二甲苯二异氯酸醋；和其混合物。最优选地，所用芳香族多官能异氯酸醋选自由W下 组成的群组：2,4-甲苯二异氯酸醋；2,6-甲苯二异氯酸醋；和其混合物。
[0045]用于制备异氯酸醋封端的氨基甲酸醋预聚物的预聚物多元醇优选地选自由W下 组成的群组：二醇、多元醇、多元醇二醇、其共聚物和其混合物。更优选地，预聚物多元醇选 自由W下组成的群组：聚酸多元醇（例如，聚（氧基四亚甲基）二醇、聚（氧丙締）二醇、 聚（氧乙締）二醇）；聚碳酸醋多元醇；聚醋多元醇；聚己内醋多元醇；其混合物；和其与一 或多种选自由W下组成的群组的低分子量多元醇的混合物：乙二醇；1,2-丙二醇；1,3-丙 二醇山2-下二醇山3-下二醇；2-甲基-1,3-丙二醇山4-下二醇；新戊二醇山5-戊二 醇；3-甲基-1,5-戊二醇；1,6-己二醇；二乙二醇；二丙二醇；和S丙二醇。更优选地，预聚 物多元醇选自由W下中的至少一者组成的群组：聚四亚甲基酸二醇（PTMEG);聚丙締酸二 醇（PPG)和聚乙締酸二醇（PEG);任选地与至少一种选自由W下组成的群组的低分子量多 元醇混合：乙二醇；1,2-丙二醇；1,3-丙二醇；1,2-下二醇；1,3-下二醇；2-甲基-1,3-丙 二醇；1,4-下二醇；新戊二醇山5-戊二醇；3-甲基-1,5-戊二醇山6-己二醇；二乙二醇； 二丙二醇；和S丙二醇。最优选地，预聚物多元醇包括与W下中的至少一者混合的PPG:乙 二醇；1,2-丙二醇山3-丙二醇山2-下二醇山3-下二醇；2-甲基-1,3-丙二醇山4-下 二醇；新戊二醇山5-戊二醇；3-甲基-1,5-戊二醇山6-己二醇；二乙二醇；二丙二醇；和 S丙二醇。
[0046] 用于形成本发明的化学机械抛光垫的端点检测窗的固化剂系统优选地含有：0到 90重量％ (优选地0到75重量％ ;更优选地0到70重量％ )的双官能固化剂；和10到 100重量％ (优选地25到100重量％ ;更优选地30到100重量％ )的胺起始的多元醇固 化剂，其每分子具有至少一个氮原子（优选地一到四个氮原子；更优选地两到四个氮原子； 最优选地两个氮原子）并且每分子具有平均至少=个（优选地=到六个；更优选地=到五 个；最优选地四个）径基。优选地，用于形成本发明的化学机械抛光垫的端点检测窗的固化 剂系统含有< 1重量％ (优选地< 0. 1重量％;更优选地< 0. 01重量％ )的高分子量多元 醇固化剂，其具有2, 000到100, 000的数量平均分子量Mw并且每分子具有平均3到10个径 基。更优选地，用于形成本发明的化学机械抛光垫的端点检测窗的固化剂系统包含：〇到90 重量％ (优选地0到75重量％ ;更优选地0到70重量％ )的双官能固化剂；10至Ij100重 量％ (优选地25至Ij100重量％ ;更优选地30至Ij100重量％ )的胺起始的多元醇固化剂，其 每分子具有至少一个氮原子（优选地一到四个氮原子；更优选地两到四个氮原子；最优选 地两个氮原子）并且每分子具有平均至少=个（优选地=到六个；更优选地=到五个；最 优选地四个）径基；和< 0. 001重量％的高分子量多元醇固化剂，其具有2, 000到100, 000 的数量平均分子量Mw并且每分子具有平均3到10个径基。最优选地，用于形成本发明的化 学机械抛光垫的端点检测窗的固化剂系统包含：〇到90重量％ (优选地0到75重量％ ;更 优选地0到70重量％ )的双官能固化剂；10至IJ100重量％ (优选地25至IJ100重量％ ;更 优选地30到100重量％ )的胺起始的多元醇固化剂，其每分子具有至少一个氮原子（优选 地一到四个氮原子；更优选地两到四个氮原子；最优选地两个氮原子）并且每分子具有平 均至少=个（优选地=到六个；更优选地=到五个；最优选地四个）径基；和<可检测量的 高分子量多元醇固化剂，其具有2, 000到100, 000的数量平均分子量Mw并且每分子具有平 均3到10个径基。
[0047] 用于形成本发明的化学机械抛光垫的端点检测窗的胺起始的多元醇固化剂每分 子含有至少一个氮原子（优选地一到四个氮原子；更优选地两到四个氮原子；最优选地两 个氮原子）并且每分子含有平均至少=个（优选地=到六个；更优选地=到五个；最优选 地四个）径基。优选地，用于形成本发明的化学机械抛光垫的端点检测窗的胺起始的多元 醇固化剂具有《700 (更优选地150到650 ;更优选地200到500 ;最优选地250到300)的 数量平均分子量Mw。
[0048] 用于形成本发明的化学机械抛光垫的端点检测窗的胺起始的多元醇固化剂优选 地具有350到1，200mgKOH/g(更优选地400到1，OOOmgKOH/g;最优选地600到850mg KOH/g)的径基数（如通过ASTM测试方法D4274-11测定）。
[0049] 可商购的胺起始的多元醇固化剂的实例包括Vbmio:隧家族的胺起始的多元 醇（获自陶氏化学公司（TheDowQie