蒸镀坩埚和蒸镀系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明的实施例涉及一种蒸镀坩祸和蒸镀系统，尤其设计一种在制造OLED显示器中使用的蒸镀坩祸和蒸镀系统。
【背景技术】
[0002]OLED(Organic Light-Emitting D1de)显示器由于具有轻薄、低功耗、高对比度、高色域、可以实现柔性显示等优点，在当前的平板显示器市场中占据了越来越重要的地位，代表下一代显示器的发展趋势。
[0003]OLED显不器包括PMOLED(Passive-matrix organic light emitting d1de，被动矩阵有机发光二极体)显不器和AMOLED(Active-matrix organic light emitting d1de，主动矩阵有机发光二极体)显示器，其中AMOLED显示的实现方式有LTPS (Low temperaturePoly-silicon，低温多晶)背板+精细金属掩膜(FMM)方式，和氧化物(Oxide)背板+白光OLED (WOLED) +彩膜的方式。前者主要应用于小尺寸面板，对应手机和移动应用；后者主要应用于大尺寸面板，对应监视器和电视等应用。现在LTPS背板+FMM Mask的方式已经初步成熟，实现了量产。
[0004]精细金属掩膜(FMM)模式，是通过蒸镀方式将OLED蒸镀材料按照预定顺序蒸镀到LTPS背板上，利用FMM上的图形，形成红绿蓝器件。蒸镀是在真空腔体中进行，量产中使用线性蒸发源，坩祸使用线性坩祸。由于传统坩祸多使用Ti材质，热量在Ti材料内部的传导性比较差，并且坩祸内部结构是中空结构，因此，坩祸整体温度均匀性差，导致坩祸内的部分蒸镀材料没有蒸发，而另一部分蒸镀材料可能会过度受热而变性。蒸发的不均匀性最终导致不能获得合格的OLED面板。
[0005]图1显示了现有技术中的一种蒸镀坩祸的结构示意图。如图1所示，用于OLED基板蒸镀的坩祸100包括例如由Ti材料形成的锅体I和位于锅体I的顶面上的多个喷嘴2。各个喷嘴2之间的间距为A。图1所示的坩祸100具有大致长方体形状，在其侧面和底面上设置有加热管3，用于对坩祸内部的有机蒸镀材料进行蒸发，从而在OLED基板上进行镀膜。
[0006]如图1所示的坩祸100在对蒸镀材料进行蒸发时，可能出现的情况是:与坩祸侧壁和底壁接触的材料最先蒸发，而中部材料蒸发速率相对较慢，从而影响了整个蒸发源的蒸发均匀性。并且，如果材料热稳定性不是特别好，那么当中部材料达到要求的蒸发速率时，边缘与坩祸侧壁接触的材料可能已经发生变性，导致材料浪费。
【发明内容】
[0007]本发明的实施例旨在提供一种蒸镀坩祸和蒸镀系统，其能够解决现有技术中的蒸镀材料蒸发不均匀的问题，从而实现OLED基板的均匀镀膜。
[0008]根据本发明的一个方面，提供一种蒸镀坩祸，包括:锅体和位于锅体顶面上的至少一个喷嘴，其中，所述锅体包括相互结合的内壁和外壁，所述内壁由第一材料形成，所述外壁由第二材料形成，所述第一材料的导热率大于所述第二材料的导热率。
[0009]根据本发明的一个实施例，所述外壁由Ti材料形成，所述内壁由Cu、Ag和Al中的一种材料或它们的组合形成。
[0010]根据本发明的一个实施例，所述蒸镀坩祸设置有一到两个喷嘴。
[0011]根据本发明的一个实施例，所述锅体的外部设有加热装置，用于加热坩祸。
[0012]根据本发明的另一个方面，提供一种蒸镀系统，包括规则排列的多个坩祸，用于对一个对象基板进行蒸镀，所述坩祸为上述实施例的蒸镀坩祸。
[0013]根据本发明的一个实施例，所述多个坩祸的喷嘴之间的间距相同。
[0014]根据本发明的一个实施例，所述多个坩祸排列为线性蒸发源。
[0015]根据本发明的一个实施例，所述多个坩祸排列为面蒸发源。
[0016]根据本发明的一个实施例，每个坩祸配备坩祸移动装置，用于独立地移动各个坩祸，以形成预定的坩祸排列。
[0017]根据本发明的一个实施例，所述坩祸移动装置包括导轨和伺服电机，所述伺服电机驱动坩祸在导轨上移动。
[0018]根据本发明的一个实施例，每个坩祸配备有加热装置。
[0019]根据本发明的一个实施例，每个坩祸配备有加热装置分离装置，用于控制每个加热装置与坩祸接近或分离。
[0020]根据本发明的一个实施例，每个坩祸配备有测温装置，用于分别测量各个坩祸的温度。
[0021]根据本发明的一个实施例，所述蒸镀系统包括一个控制装置，所述控制装置连接到所述移动装置、加热装置、分离装置和测温装置，用于控制移动装置、加热装置、分离装置和测温装置的操作。
[0022]根据本发明实施例的蒸镀坩祸，所述锅体包括相互结合的内壁和外壁，所述内壁采用第一材质，所述外壁采用第二材质，所述第一材质的导热率大于所述第二材质的导热率。从而，当对坩祸进行加热时，热量能够在内壁材料中快速传导，使得与蒸镀材料接触的内壁的温度均匀化，从而能够均匀地加热和蒸发蒸镀材料，获得均匀的镀膜。
[0023]根据本发明实施例的蒸镀系统，将多个小坩祸组成一个蒸镀系统，以代替现有技术中的大尺寸坩祸，能够避免大尺寸坩祸中部的蒸镀材料得不到充分加热导致的蒸发不足，从而改善镀膜的均匀性。
[0024]为了使本发明的目的、特征及优点能更加明显易懂，下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明。
【附图说明】
[0025]图1是现有技术中的一个蒸镀坩祸的结构示意图。
[0026]图2是根据本发明的一个实施例的由多个坩祸组成的蒸镀系统的结构示意图。
[0027]图3a是根据本发明的一个实施例的构成点蒸发源的一个蒸镀坩祸的平面示意图。
[0028]图3b是根据本发明的一个实施例的构成线性蒸发源的蒸镀系统的平面示意图。
[0029]图3c是根据本发明的一个实施例的组成面蒸发源的蒸镀系统的平面示意图。
[0030]图4a是根据本发明的一个实施例的带有移动装置和控制装置的蒸镀坩祸的立体示意图。
[0031]图4b是根据本发明的一个实施例的带有移动装置和控制装置且构成线性蒸发源的蒸镀系统的立体示意图。
[0032]图4c是根据本发明的一个实施例的带有移动装置和控制装置且构成面蒸发源的蒸镀系统的立体示意图。
[0033]图5是根据本发明的一个实施例的蒸镀系统的方块图。
【具体实施方式】
[0034]在下面的详细描述中，为便于解释，阐述了许多具体的细节以提供对本披露实施例的全面理解。然而明显地，一个或多个实施例在没有这些具体细节的情况下也可以被实施。在其他情况下，公知的结构和装置被省略以简化附图。并且，在所有附图中，相同的附图标记用于表示相同的部件。
[0035]图2是根据本发明的一个实施例的由多个坩祸组成的蒸镀系统的结构示意图。所述蒸镀系统包括多个规则排列的坩祸10，所述多个坩祸10作为一个整体，用于对一个对象基板例如OLED基板进行镀膜。所述多个坩祸10可以按照待镀膜的基板的形状进行排列。
[0036]图2所示的蒸镀系统可以用于代替对应尺寸的图1所示的一个坩祸100，用于对一个对象基板实施镀膜。与图1所示的坩祸相比，图2所示的蒸镀系统将一个大尺寸坩祸100分成多个独立的小尺寸坩祸10，每个小尺寸坩祸10通过其外部的加热装置13被独立地加热，各个坩祸10的加热程度相同，并且，整个蒸镀系统中各个坩祸的喷嘴之间的间距也为A0因而，图2所示的蒸镀系统避免了如图1所示的大尺寸坩祸100中部的蒸镀材料得不到充分加热导致的蒸发不足，从而改善了对基板镀膜的均匀性。
[0037]根据本发明的一个实施例，在图2的蒸镀系统中的每个