专利名称：坩埚及真空蒸镀系统的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种坩埚及使用该坩埚的真空蒸镀系统。
背景技术：
真空蒸镀是在真空室中，加热坩埚中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表 面气化逸出，形成蒸汽流，入射到待镀膜底板表面，凝结形成固态薄膜的方法。以电子枪蒸镀配合离子助镀法(Ion Assistance Deposition, IAD)的制程中，是 以电子枪轰击膜料蒸发至待镀膜底板上成膜。而放入坩埚中的膜料可以区分为块状和颗粒 状，而块状膜料相对于颗粒状膜料价格昂贵，且受限于坩埚的形状，必需重新设计块状膜料 的形状，从而增加了生产成本。为了节省成本生产过程中往往使用颗粒状膜料，但由于膜料 的颗粒之间的间隙以及颗粒的晶体之间的孔隙，使得膜料内残余有一定量的水气，而这些 水气会导致后续镀膜的喷发面积不均，从而影响膜层表面品质。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种可对颗粒状膜料进行烘干的坩埚及使用该坩埚的真空 蒸镀系统。一种坩埚，用于放置颗粒状膜料；所述坩埚包括一底板、一侧壁及多个通风管道； 所述底板上设置有一载料区，用于承载颗粒状膜料；所述侧壁垂直固设于底板边缘，并与所 述底板形成一容置空间；所述每个通风管道包括一进气端和一出气端；多个通风管道容置 于所述容置空间内，且其进气端固设于侧壁上且与侧壁上的通风口相连通，出气端朝向于 底板并围绕所述载料区分布。一种真空蒸镀系统，其包括一蒸镀腔、一底座、一坩埚及一热风源；所述底座设置 于蒸镀腔内；所述坩埚设置于底座上，用于放置颗粒状膜料；所述热风源位于底座下方，该 热风源与坩埚相连通；所述坩埚包括一底板、一侧壁及多个通风管道；所述底板上设置有 一载料区，用于承载颗粒状膜料；所述侧壁垂直固设于底板边缘，并与所述底板形成一容 置空间；所述每个通风管道包括一进气端和一出气端；多个通风管道容置于所述容置空间 内，且其进气端固设于侧壁上且与侧壁上的通风口相连通，出气端朝向于底板并围绕所述 载料区分布。本发明提供的坩埚及真空蒸镀系统通过通风管道对放置于载料区中的颗粒状膜 料进行加热，去除膜料间所含有的水气，从而有效保证了镀膜质量。
图1是本发明实施方式提供的坩埚的立体示意图。图2使用图1中所提供的坩埚的真空蒸镀系统剖示图。
具体实施例方式以下将结合附图对本发明作进一步的详细说明。如图1所示，为本发明实施方式提供的一种坩埚10，用于放置颗粒状膜料；其采用 钨、钼或钽等高温耐热金属材料制成。所述坩埚10采用一体成型。所述坩埚10包括一底板11、一侧壁12及多个通风管道13。所述底板11为圆形 结构，该底板11上靠近中心的位置处设置有一载料区111，用于承载颗粒状膜料。所述侧 壁12由所述底板11边缘垂直延伸而成，并与所述底板11形成一半封闭的容置空间14。所 述侧壁12上间隔均勻的开设有多个圆形通风口 122。所述每一通风管道13包括一进气端 131和一出气端132，多个通风管道13容置于所述容置空间14内，且每一通风管道13的进 气端131固设于侧壁12上且与侧壁12上的通风口 122相连通。所述多个通风管道13的 出气端132朝向于底板11，且围绕所述载料区111分布。所述通风管道13与底板11形成 一朝向于侧壁12的锐角。本实施方式中，所述坩埚10包括五个通风管道13，所述侧壁12上对应所述通风管 道13设有五个通风口 122。所述五个通风管道13的出气端132两两相互邻接将所述载料 区111环绕。如图2所示，本发明还提供一种使用所述坩埚10的真空蒸镀系统100，所述真空 蒸镀系统100还包括一蒸镀腔20、一底座30及一热风源40 ；所述底座30设置于蒸镀腔20 内；所述坩埚10设置于底座30上；所述热风源40位于底座30下方，该热风源40与坩埚 10的通风管道13相连通。在镀膜开始前，使用者将颗粒状膜料放入到载料区111，然后打开热风源40。由所述 热风源40产生的热风经过通风管道13通入到坩埚10的载料区111，所述热风通过对所述颗 粒状膜料进行烘烤，将位于颗粒之间的间隙以及颗粒的晶体之间的孔隙内的水气蒸发带走。在镀膜过程中，在电子枪的轰击作用下，位于载料区111内的颗粒状膜料部分变 成融熔状态，由于所述通风管道13与底板11之间保持一定的倾角，使得颗粒状膜料以及融 熔状态膜料不会进入到通风管道13中，防下残余膜料对下次镀膜的影响。本发明实施方式提供的坩埚及真空蒸镀系统通过通风管道对放置于载料区中的 颗粒状膜料进行加热，去除膜料间所含有的水气，从而有效保证了镀膜质量。可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术构思做 出其它各种像应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范 围。
权利要求
一种坩埚，用于放置颗粒状膜料；其特征在于所述坩埚包括一底板、一侧壁及多个通风管道；所述底板上设置有一载料区，用于承载颗粒状膜料；所述侧壁垂直固设于底板边缘，并与所述底板形成一容置空间；所述每个通风管道包括一进气端和一出气端；多个通风管道容置于所述容置空间内，且其进气端固设于侧壁上且与侧壁上的通风口相连通，出气端朝向于底板并围绕所述载料区分布。
2.如权利要求1所述的坩埚，其特征在于所述多个通风管道的出气端两两相互邻接 将所述载料区环绕。
3.如权利要求1所述的坩埚，其特征在于所述底板为圆形结构。
4.如权利要求1所述的坩埚，其特征在于所述多个通风口均勻间隔开设于侧壁。
5.如权利要求1所述的坩埚，其特征在于所述坩埚采用一体成型。
6.如权利要求1所述的坩埚，其特征在于所述坩埚采用高温耐热金属材料制成。
7.如权利要求6所述的坩埚，其特征在于所述高温耐热金属材料为钨、钼或钽中的一种。
8.一种真空蒸镀系统，其包括一蒸镀腔、一底座、一坩埚及一热风源；所述底座设置于 蒸镀腔内；所述坩埚设置于底座上，用于放置颗粒状膜料；所述热风源位于底座下方，该热 风源与坩埚相连通；其特征在于所述坩埚包括一底板、一侧壁及多个通风管道；所述底板 上设置有一载料区，用于承载颗粒状膜料；所述侧壁垂直固设于底板边缘，并与所述底板形 成一容置空间；所述每个通风管道包括一进气端和一出气端；多个通风管道容置于所述容 置空间内，且其进气端固设于侧壁上且与侧壁上的通风口相连通，出气端朝向于底板并围 绕所述载料区分布。
全文摘要
本发明提供一种坩埚，用于放置颗粒状膜料；所述坩埚包括一底板、一侧壁及多个通风管道；所述底板上设置有一载料区，用于承载颗粒状膜料；所述侧壁垂直固设于底板边缘，并与所述底板形成一容置空间；所述每个通风管道包括一进气端和一出气端；多个通风管道容置于所述容置空间内，且其进气端固设于侧壁上且与侧壁上的通风口相连通，出气端朝向于底板并围绕所述载料区分布。本发明通过通风管道对放置于载料区的颗粒状膜料进行加热，去除膜料间所含有的水气，从而有效保证了镀膜质量。本发明还提供一种真空蒸镀系统。
文档编号C23C14/24GK101906610SQ20091030289
公开日2010年12月8日 申请日期2009年6月3日 优先权日2009年6月3日
发明者裴绍凯 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司