一种线性蒸发源及蒸镀装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型实施例公开了一种线性蒸发源及蒸镀装置。该线性蒸发源包括：包括坩埚，还包括：位于所述坩埚上的一组喷嘴、至少一组备用喷嘴和位于坩埚内可移动的挡板；其中：所述一组喷嘴由在所述坩埚上均匀分布的多个喷嘴组成；所述各组备用喷嘴由在所述一组喷嘴中各喷嘴的一侧设置的备用喷嘴组成；所述挡板上具有仅露出所述一组喷嘴中各喷嘴或者一组备用喷嘴中各备用喷嘴的多个开孔。该方案中，为一组喷嘴设置有至少一组备用喷嘴，在一组喷嘴发生堵塞时，可以通过移动挡板更换一组备用喷嘴，这样，与现有技术的方案相比，就无需中断蒸镀过程降温破真空进行清洗处理，从而提高了生产效率。
【专利说明】
一种线性蒸发源及蒸镀装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种线性蒸发源及蒸镀装置。
【背景技术】
[0002]在显示技术领域中，在显示器的制作过程中，真空镀膜是一种较成熟的成膜方式，将用于成膜的材料通过线性蒸发源加热蒸镀到基板上。但是，由于某些材料的特殊性，在蒸镀的过程中，容易对线性蒸发源中的喷嘴造成堵塞，一旦发生堵塞就需要降温破真空进行清洗处理，对设备的稼动率造成很大的影响，降低了生产效率。尤其，在有机发光二极管(Organic Light-emitting D1de，0LED)显示器的制作过程中，有机材料的成膜过程中更加容易出现喷嘴堵塞的问题，生产效率很低。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型实施例的目的是提供一种线性蒸发源及蒸镀装置，用于解决现有技术中线性蒸发源因喷嘴堵塞导致生产效率降低的问题。
[0004]本实用新型实施例的目的是通过以下技术方案实现的:
[0005]—种线性蒸发源，包括坩祸，还包括:位于所述坩祸上的一组喷嘴、至少一组备用喷嘴和位于坩祸内可移动的挡板;其中:
[0006]所述一组喷嘴由在所述坩祸上均匀分布的多个喷嘴组成；
[0007]所述各组备用喷嘴由在所述一组喷嘴中各喷嘴的一侧设置的备用喷嘴组成；
[0008]所述挡板上具有仅露出所述一组喷嘴中各喷嘴或者一组备用喷嘴中各备用喷嘴的多个开孔。
[0009]较佳地，在所述挡板的一侧设置有用于控制所述挡板移动的气缸。
[0010]较佳地，在所述挡板的一侧设置有用于控制所述挡板移动的电磁阀。
[0011]较佳地，所述开孔的大小不小于所述喷嘴或所述备用喷嘴的大小。
[0012]较佳地，所述喷嘴和所述备用喷嘴的形状为圆形，所述开孔的形状为矩形或者圆形。
[0013]较佳地，在各所述喷嘴与备用喷嘴之间的距离均相等。
[0014]较佳地，所有所述喷嘴和所述备用喷嘴在所述坩祸上均匀分布。
[0015]—种蒸镀装置，包括以上任一项所述的线性蒸发源。
[0016]本实用新型实施例的有益效果如下:
[0017]本实用新型实施例提供的一种线性蒸发源及蒸镀装置中，为一组喷嘴设置有至少一组备用喷嘴，在一组喷嘴发生堵塞时，可以通过移动挡板更换一组备用喷嘴，这样，与现有技术的方案相比，就无需中断蒸镀过程降温破真空进行清洗处理，从而提高了生产效率。
【附图说明】
[0018]图1为本实用新型实施例提供的一种线性蒸发源的结构示意图之一；
[0019]图2为本实用新型实施例提供的一种线性蒸发源的结构示意图之二；
[0020]图3为本实用新型实施例提供的一种线性蒸发源的结构示意图之三；
[0021]图4为本实用新型实施例提供的一种线性蒸发源中挡板和喷嘴的俯视示意图之 ，
[0022]图5为本实用新型实施例提供的一种线性蒸发源中挡板和备用喷嘴的俯视示意图之一；
[0023]图6为本实用新型实施例提供的一种线性蒸发源的结构示意图之四；
[0024]图7为本实用新型实施例提供的一种线性蒸发源中挡板和喷嘴的俯视示意图之-* *
[0025]图8为本实用新型实施例提供的一种线性蒸发源中挡板和备用喷嘴的俯视示意图之二；
[0026]图9为本实用新型实施例提供的一种线性蒸发源的结构示意图之五；
[0027]图10为本实用新型实施例提供的一种线性蒸发源的结构示意图之六；
[0028]图11为本实用新型实施例提供的一种线性蒸发源的结构示意图之七。
【具体实施方式】
[0029]下面结合附图和实施例对本实用新型提供的一种线性蒸发源及蒸镀装置进行更详细地说明。
[0030]本实用新型实施例提供一种线性蒸发源，包括坩祸，还包括:位于坩祸上的一组喷嘴、至少一组备用喷嘴和位于坩祸内可移动的挡板;其中:
[0031]—组喷嘴由在坩祸上均匀分布的多个喷嘴组成；
[0032]各组备用喷嘴由在一组喷嘴中各喷嘴的一侧设置的备用喷嘴组成；
[0033]挡板上具有仅露出一组喷嘴中各喷嘴或者一组备用喷嘴中各备用喷嘴的多个开孔。
[0034]本实用新型实施例中，为一组喷嘴设置有至少一组备用喷嘴，在一组喷嘴发生堵塞时，可以通过移动挡板更换一组备用喷嘴，这样，与现有技术的方案相比，就无需中断蒸镀过程降温破真空进行清洗处理，从而提高了生产效率。
[0035]其中，一组喷嘴中的喷嘴数量和一组备用喷嘴中备用喷嘴的数量相同，且喷嘴和备用喷嘴的规格(包括尺寸、材料，等等)相同。
[0036]具体实施时，为了方便控制挡板的移动，较佳地，在挡板的一侧设置有用于控制挡板移动的气缸。或者，在挡板的一侧设置有用于控制挡板移动的电磁阀。
[0037]具体实施时，为了保证所蒸镀的材料能够顺利进入喷嘴，较佳地，开孔的大小不小于喷嘴或备用喷嘴的大小。
[0038]具体实施时，较佳地，喷嘴和备用喷嘴的形状可以但不限于为圆形，开孔的形状可以但不限于为矩形或者圆形。
[0039]具体实施时，较佳地，在各喷嘴与备用喷嘴之间的距离均相等。
[0040]具体实施时，较佳地，所有喷嘴和备用喷嘴在坩祸上均匀分布。这样，可以进一步保证成膜均匀。
[0041]具体实施时，挡板上的开孔的数量可以与一组喷嘴或者一组备用喷嘴的数量相等，也可以大于一组喷嘴或者一组备用喷嘴的数量，只要保证能够仅漏出一组喷嘴或者一组备用喷嘴即可。
[0042]具体实施时，可以根据实际需要灵活设置备用喷嘴的组数，例如，若所蒸镀的材料发生堵塞的情况较多，可以设置一组或两组备用喷嘴，若所蒸镀的材料发生堵塞的情况非常多，则设置两组以上备用喷嘴，当然还可以进一步考虑其它的影响因素，进而确定所设置的备用喷嘴的组数。
[0043]下面分别以设置一组备用喷嘴和两组备用喷嘴的情况为例，对本实用新型实施例所提供的一种线性蒸发源进行更加详细地描述。
[0044]参见图1所示的线性蒸发源，为一组喷嘴设置一组备用喷嘴，该线性蒸发源包括坩祸1、位于坩祸I上的一组喷嘴、一组备用喷嘴和位于坩祸I内可移动的挡板;其中:
[0045]—组喷嘴由在坩祸I上均匀分布的多个喷嘴2A组成；
[0046]一组备用喷嘴由在一组喷嘴中各喷嘴2A的一侧设置的备用喷嘴2B组成；
[0047]挡板上具有仅露出一组喷嘴中各喷嘴2A或者一组备用喷嘴中各备用喷嘴2B的多个开孔31。
[0048]其中，喷嘴2A和备用喷嘴2B的规格相同。
[0049]其中，喷嘴2A和备用喷嘴2B的形状为圆形，开孔的形状为矩形。
[0050]其中，在各喷嘴2A与备用喷嘴2B之间的距离均相等。
[0051]基于图1所示的线性蒸发源，所有喷嘴2A和备用喷嘴2B在坩祸上均匀分布，参见图2，所有喷嘴2A均匀分布，且备用喷嘴2B位于两个喷嘴2A的间隔中部。
[0052]基于图2所示的线性蒸发源，参见图3，在挡板的一侧设置有用于控制挡板3移动的气缸4。
[0053]在蒸镀的过程中，参见图4，先使用喷嘴2A，当有喷嘴2A发生堵塞时，通过气缸4控制挡板3向右移动，更换为备用喷嘴2B，参见图5。在蒸镀完成后，再对喷嘴2A进行清洗处理。在后续的蒸镀过程中，若有喷嘴2B再发生堵塞，再通过气缸4控制挡板3向左移动，更换为喷嘴2A。
[0054]图1?图3所示的线性蒸发源中，挡板3上的开孔31的数量与喷嘴2A或备用喷嘴2B的数量相等。也可以设置挡板3上的开孔31的数量比喷嘴2A或备用喷嘴2B的数量多一个，参见图6;在仅漏出喷嘴2A时，在挡板3的最右端有一个剩余开孔31，参见图7所示的俯视图；通过气缸4控制挡板3向左移动，仅漏出备用喷嘴2B时，在挡板3的最左端有一个剩余开孔31，参见图8所示的俯视图。
[0055]参见图9所示的线性蒸发源，为一组喷嘴设置两组备用喷嘴，该线性蒸发源包括坩祸1、位于坩祸I上的一组喷嘴、两组备用喷嘴和位于坩祸I内可移动的挡板3;其中:
[0056]一组喷嘴由在坩祸I上均匀分布的多个喷嘴2A组成；
[0057]两组备用喷嘴中:一组备用喷嘴由在一组喷嘴中各喷嘴2A的一侧设置的备用喷嘴2B组成;另一组备用喷嘴由在一组喷嘴中各喷嘴2A的一侧设置的备用喷嘴2C组成；
[0058]挡板上具有仅露出一组喷嘴中各喷嘴2A，或者一组备用喷嘴中各备用喷嘴2B，或者一组备用喷嘴中各备用喷嘴2C的多个开孔31。
[0059]其中，喷嘴2A、备用喷嘴2B和备用喷嘴2C的形状为圆形，开孔的形状为矩形。
[0060]其中，在各喷嘴2A与备用喷嘴2B之间的距离均相等，各喷嘴2A与备用喷嘴2C之间的距离均相等。
[0061]其中，所有喷嘴2A、备用喷嘴2B和备用喷嘴2C在坩祸上均匀分布。从图中可以看出，所有喷嘴2A均匀分布，且两个喷嘴2A的间隔之间均匀分布有备用喷嘴2B和备用喷嘴2C。
[0062]基于图9所示的线性蒸发源，参见图10，在挡板的一侧设置有用于控制挡板3移动的气缸4。
[0063]在蒸镀的过程中，先使用喷嘴2A，当有喷嘴2A发生堵塞时，通过气缸4控制挡板3向右移动，更换为备用喷嘴2B，若在本次蒸镀过程中，备用喷嘴2B也发生堵塞，再通过气缸4控制挡板3向右移动，更换为备用喷嘴2C。在蒸镀完成后，再对喷嘴2A和备用喷嘴2B进行清洗处理。在后续的蒸镀过程中，若有备用喷嘴2C再发生堵塞，再通过气缸4控制挡板3向左移动，更换为备用喷嘴2B或者喷嘴2A。
[0064]图9和图10所示的线性蒸发源中，挡板3上的开孔31的数量与喷嘴2A或备用喷嘴2B或备用喷嘴2C的数量相等。也可以设置挡板3上的开孔31的数量比喷嘴2A或备用喷嘴2B或备用喷嘴2C的数量多一个，参见图11。
[0065]需要说明的是，在利用线性蒸发源进行蒸镀的过程中，喷嘴发生堵塞时，都可以采用本实用新型实施例所提供的方案。例如，在OLED显示器的制作过程中，某些有机材料成膜时，发生堵塞的情况较多，就可以设置至少一组备用喷嘴。
[0066]基于同样的构思，本实用新型实施例还提供一种蒸镀装置，包括以上任意实施例所述的线性蒸发源。
[0067]本实用新型实施例提供的一种线性蒸发源及蒸镀装置中，为一组喷嘴设置有至少一组备用喷嘴，在一组喷嘴发生堵塞时，可以通过移动挡板更换一组备用喷嘴，这样，与现有技术的方案相比，就无需中断蒸镀过程降温破真空进行清洗处理，从而提高了生产效率。
[0068]尽管已描述了本实用新型的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本实用新型范围的所有变更和修改。
[0069]显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
【主权项】
1.一种线性蒸发源，包括坩祸，其特征在于，还包括:位于所述坩祸上的一组喷嘴、至少一组备用喷嘴和位于坩祸内可移动的挡板;其中: 所述一组喷嘴由在所述坩祸上均匀分布的多个喷嘴组成； 所述各组备用喷嘴由在所述一组喷嘴中各喷嘴的一侧设置的备用喷嘴组成； 所述挡板上具有仅露出所述一组喷嘴中各喷嘴或者一组备用喷嘴中各备用喷嘴的多个开孔。2.根据权利要求1所述的线性蒸发源，其特征在于，在所述挡板的一侧设置有用于控制所述挡板移动的气缸。3.根据权利要求1所述的线性蒸发源，其特征在于，在所述挡板的一侧设置有用于控制所述挡板移动的电磁阀。4.根据权利要求1?3任一项所述的线性蒸发源，其特征在于，所述开孔的大小不小于所述喷嘴或所述备用喷嘴的大小。5.根据权利要求4所述的线性蒸发源，其特征在于，所述喷嘴和所述备用喷嘴的形状为圆形，所述开孔的形状为矩形或者圆形。6.根据权利要求1?3任一项所述的线性蒸发源，其特征在于，在各所述喷嘴与备用喷嘴之间的距离均相等。7.根据权利要求1?3任一项所述的线性蒸发源，其特征在于，所有所述喷嘴和所述备用喷嘴在所述坩祸上均匀分布。8.一种蒸镀装置，其特征在于，包括权利要求1?7任一项所述的线性蒸发源。
【文档编号】C23C14/24GK205616946SQ201620445036
【公开日】2016年10月5日
【申请日】2016年5月16日
【发明人】王震, 林治明, 黄俊杰
【申请人】鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司, 京东方科技集团股份有限公司