专利名称：超高纯过氧化氢连续生产的装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种超净高纯化学试剂的生产装置，尤其是涉及一种 超高纯过氧化氢连续生产的装置。超高纯过氧化氢主要适用于微电子工业 制造大规模集成电路半导体器件行业中作为清洗和腐蚀之用。
背景技术：
超净高纯化学试剂又称微电子化学品，是微电子行业加工制造中关键
性的基础材料，主要用于集成电路(ic)微加工过程中的清洗和蚀刻。其
纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性有着十分重大的影响。
随着ic存储含量的不断提高，容量也在不断地增大，因而氧化膜变得更薄。
但是微电子化学品中的碱金属杂质，像钠、钙等杂质，会溶进氧化膜中去， 从而导致了耐绝缘电压的下降，重金属杂质像铜、铁、铬、银等，如果附
着在硅晶片的表面上，将会使P-N结的耐电压降低。因此，对微电子化学 试剂的颗粒含量和金属杂质含量的要求也越来越高。
超高纯过氧化氢是一种十分重要的微电子化学试剂，通常是以工业级 过氧化氢为原料纯化精制而成。目前绝大部分工业过氧化氢生产技术采用 蒽醌法。工业级过氧化氢含有有机物、各种金属和非金属杂质，主要有重 芳烃、磷酸三辛酯和蒽醌及其衍生物等。目前，工业化提纯过氧化氢的方法有两种 一是采用有机碳吸附阴离子交换法。它是将原料通过泵输入吸 附树脂进行离子交换，最后过滤除去颗粒杂质，从而得到超高纯过氧化氢 产品，其生产原料过氧化氢利用率低，生产成本高，分离效果差，产品纯 度只能符合国际半导体设备与材料组织的SEMI-C1标准。二是采用单个阴
阳离子交换加阴阳离子交换法。它是将工业级过氧化氢溶液连续通过阴离 子、阳离子、阴阳离子交换树脂，制备得高纯过氧化氢产品。其在生产过
程中原料过氧化氢利用率低，分离效果差，纯度只能达到SEMI-C7标准的 要求。
发明内容
本实用新型的目的在于克服上述不足，提供一种工艺连续强、分离效 果好、纯度高、杂质含量低的超高纯过氧化氢连续生产的装置。
本实用新型的目的是这样实现的 一种超高纯过氧化氢连续生产的装 置，其特征在于所述装置由原料槽、活性炭预混器、微滤超滤过滤器、多 塔串联精馏塔、反渗透器、纳滤器、成品接受器、泵和阀组成，
所述原料槽出口通过管路与活性炭预混器迸口相连通，活性炭预混器 出口通过管路与微滤超滤过滤器进口相连通，微滤超滤过滤器出口通过管 路与泵进口相连通，泵出口通过管路与多塔串联精馏塔进口相连通，多塔 串联精馏塔出口通过管路与反渗透器进口相连通，反渗透器出口通过管路 与阀进口相连通，阀出口通过管路与纳滤器进口相连通，纳滤器出口通过 管路与成品接受器相连通，
所述微滤超滤过滤器中微滤膜的孔径为0.9 um，超滤膜的孔径为0.06um，纳滤器的纳滤膜的孔径为2nm，
所述微滤膜、超滤膜、反渗透器的反渗透膜和纳滤膜均采用均苯四酸 二酐材料制成。
本实用新型装置制作较为简单，成本低，工艺连续性强、质量分离效 果好、产品纯度高，杂质离子含量低，适合大规模的工业化生产。
图1为本实用新型超高纯过氧化氢连续生产的装置的总体结构示意图。
图中原料槽l、活性炭预混器2、微滤超滤过滤器3、多塔串联精馏 塔4、反渗透器5、纳滤器6、成品接受器7、泵8、阀9。
具体实施方式
参见图1，本实用新型涉及的超高纯过氧化氢连续生产的装置，主要 由原料槽l、活性炭预混器2、微滤超滤过滤器3、多塔串联精馏塔4、反 渗透器5、纳滤器6、成品接受器7、泵8和阀9组成。
所述原料槽l出口通过管路与活性炭预混器2进口相连通，活性炭预 混器2出口通过管路与微滤超滤过滤器3进口相连通，微滤超滤过滤器3 出口通过管路与泵8进口相连通，泵8出口通过管路与多塔串联精馏塔4 进口相连通，多塔串联精馏塔4出口通过管路与反渗透器5进口相连通， 反渗透器5出口通过管路与阀9进口相连通，阔9出口通过管路与纳滤器 6进口相连通，纳滤器6出口通过管路与成品接受器7相连通。
所述微滤超滤过滤器3中微滤膜的孔径为0.9 u m，超滤膜的孔径为0.06 P m，纳滤器6的纳滤膜的孔径为2nm。
所述微滤膜、超滤膜、反渗透器的反渗透膜和纳滤膜均采用均苯四酸 二酐材料制成。
其生产工艺如下
先将原料槽1里的工业级的过氧化氢原料与改性活性炭在活性炭预混 器2进行混合，过滤产品依次微滤超滤过滤器3进行分级过滤，滤液用泵 8抽到多塔串联精馏塔4，在第一级塔中加入金属离子络合剂，出塔的半成 品进入反渗透器5进入反渗透，待反渗透结束后，最后在0.5~0.8MPa的运 行压力下经阀9进入纳滤器6过滤后进入成品接受器7，得到超高纯过氧 化氢产品。
权利要求1、一种超高纯过氧化氢连续生产的装置，其特征在于所述装置由原料槽(1)、活性炭预混器(2)、微滤超滤过滤器(3)、多塔串联精馏塔(4)、反渗透器(5)、纳滤器(6)、成品接受器(7)、泵(8)和阀(9)组成，所述原料槽(1)出口通过管路与活性炭预混器(2)进口相连通，活性炭预混器(2)出口通过管路与微滤超滤过滤器(3)进口相连通，微滤超滤过滤器(3)出口通过管路与泵(8)进口相连通，泵(8)出口通过管路与多塔串联精馏塔(4)进口相连通，多塔串联精馏塔(4)出口通过管路与反渗透器(5)进口相连通，反渗透器(5)出口通过管路与阀(9)进口相连通，阀(9)出口通过管路与纳滤器(6)进口相连通，纳滤器(6)出口通过管路与成品接受器(7)相连通，所述微滤超滤过滤器(3)中微滤膜的孔径为0.9μm，超滤膜的孔径为0.06μm，纳滤器(6)的纳滤膜的孔径为2nm，所述微滤膜、超滤膜、反渗透器的反渗透膜和纳滤膜均采用均苯四酸二酐材料制成。
专利摘要本实用新型涉及一种超高纯过氧化氢连续生产的装置，由原料槽(1)、活性炭预混器(2)、微滤超滤过滤器(3)、多塔串联精馏塔(4)、反渗透器(5)、纳滤器(6)、成品接受器(7)、泵(8)和阀(9)组成，原料槽(1)出口与活性炭预混器(2)进口相连通，活性炭预混器(2)出口与微滤超滤过滤器(3)进口相连通，微滤超滤过滤器(3)出口与泵(8)进口相连通，泵(8)出口与多塔串联精馏塔(4)进口相连通，多塔串联精馏塔(4)出口通过管路与反渗透器(5)进口相连通，反渗透器(5)出口通过管路与阀(9)进口相连通，阀(9)出口通过管路与纳滤器(6)进口相连通，纳滤器(6)出口通过管路与成品接受器(7)相连通本实用新型装置制作较为简单，成本低，工艺连续性强、质量分离效果好、产品纯度高，杂质离子含量低，适合大规模的工业化生产。
文档编号C01B15/00GK201240847SQ20082003658
公开日2009年5月20日 申请日期2008年6月13日 优先权日2008年6月13日
发明者戈士勇 申请人:江阴市润玛电子材料有限公司