一种C-SiCN复合材料的制作方法

文档序号:14587416发布日期:2018-06-02 05:40阅读:222来源:国知局

本发明涉及一种陶瓷材料,尤其涉及一种C-SiCN复合材料。



背景技术:

有机聚合物热解法制得的非晶SiCN陶瓷具有优良的物理、力学性能,如热膨胀系数低、硬度高、抗蠕变及抗氧化性能优异。以非晶SiCN陶瓷为基体的纤维增强陶瓷基复合材料的应用非常广泛。

作为航空工业高温结构用材料,陶瓷基复合材料要求具有耐高温、长寿命和很高的可靠性。典型的C/SiC复合材料,它在疲劳载荷作用下的使用寿命、失效机理及影响因素已经广泛应用与实际生产中。而C/SiCN具有更为优异的力学性能,其疲劳行为对生产材料的优化、替换十分重要。



技术实现要素:

本发明的目的是为了改善陶瓷材料的稳定性,设计了一种C-SiCN复合材料。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:

C-SiCN复合材料的制备原料包括:C-SiCN基体,选用六甲基二硅氮烷为前驱体。

C-SiCN复合材料的制备步骤为:将预制物增强体放在烘箱中烘干,在预制物增强体两端上下放置石墨垫块并紧固后放置在铜电极上,向放置预制物增强体的沉积室注入前驱物六甲基二硅氮烷,并连续通入氮气排除沉积室内空气,接通电源加热预制物增强体,在10分钟由室温均匀升到700~900℃,期间不断注入六甲基二硅氮烷前驱物保持液面高度,保温0.5~15小时后关闭电源,自然降温至室温。在真空高温环境中非晶SiCN陶瓷易于晶化,发生分解、分相、结晶并伴随气体释放,部分或全部转变为SiC晶体。晶化过程会影响到C/SiCN的疲劳行为,因此在使用之前对材料进行真空预热处理,可使其预先晶化以获得稳定的物相和结构。1500℃是合适的预热处理温度。

C-SiCN复合材料的检测步骤为:所用试样分为两组,一组为未热处理原样(标号:NHTCS),另一组为1500℃真空热处理试样(标号:HTCS)。疲劳应力为40MPa,循环频率为60Hz,应力比R—O.1,正弦波形式。试验温度选取1100℃、1300℃和1500℃三个温度点,真空环境(10-4Pa)。

本发明的有益效果是:

非晶SiCN陶瓷具有优良的物理、力学性能,如热膨胀系数低、硬度高、抗蠕变及抗氧化性能优异等性能。制备了碳纤维增强SiCN陶瓷基复合材料(C/SiCN),NHTCS材料因非晶SiCN的晶化造成大量气体挥发,质量损失明显,尤其在1100~1500℃区间损失严重。对于HTCS试样,质量损失相对较小,体现出良好的预热处理稳定化效果。C/SiCN在疲劳过程中组织结构变化表现为基体脱落、纤维拔出、纤维断裂过程,最终裂纹扩展直至失效。C/SiCN的电阻变化率随实验进程先降后升,变化率与组织结构变化进程密切相关。相对于预稳定化处理的HTCS,NHTCS的电阻变化程度较小,体现了良好的稳定化效果。

具体实施方式

实施案例1:

C-SiCN复合材料的制备原料包括:C-SiCN基体,选用六甲基二硅氮烷为前驱体。C-SiCN复合材料的制备步骤为:将预制物增强体放在烘箱中烘干,在预制物增强体两端上下放置石墨垫块并紧固后放置在铜电极上,向放置预制物增强体的沉积室注入前驱物六甲基二硅氮烷,并连续通入氮气排除沉积室内空气,接通电源加热预制物增强体,在10分钟由室温均匀升到700~900℃,期间不断注入六甲基二硅氮烷前驱物保持液面高度,保温0.5~15小时后关闭电源,自然降温至室温。在真空高温环境中非晶SiCN陶瓷易于晶化,发生分解、分相、结晶并伴随气体释放,部分或全部转变为SiC晶体。晶化过程会影响到C/SiCN的疲劳行为,因此在使用之前对材料进行真空预热处理,可使其预先晶化以获得稳定的物相和结构。1500℃是合适的预热处理温度。C-SiCN复合材料的检测步骤为:所用试样分为两组,一组为未热处理原样(标号:NHTCS),另一组为1500℃真空热处理试样(标号:HTCS)。疲劳应力为40MPa,循环频率为60Hz,应力比R—O.1,正弦波形式。试验温度选取1100℃、1300℃和1500℃三个温度点,真空环境(10-4Pa)。

实施案例2:

NHTCS和HTCS经历30h真空拉一拉疲劳后的质量变化,对于NHTCS,在1100℃疲劳实验后的质量损失率很小,30h实验后的质量损失率为0.9%。损失主要是由非晶SiCN中残余的聚合物以及H的挥发造成的。随温度升高,质量损失率明显增加,1300℃疲劳30h后的质量损失率约为3.2%;1500℃疲劳30h后的质量损失率约为7.7%。疲劳过程促进C/SiCN内部的裂纹张开,使材料结构更加开放。真空及疲劳应力促进非晶SiCN基体分解和结晶,并释放大量气体(N2、SiO、C0等),引起质量损失。温度越高,分解和晶化越剧烈,质量损失越大。在较低温度(1100℃和1300℃)下,质量降低趋势平缓;但在较高温度(1500℃)下,0-5h内非晶SiCN基体分解和结晶剧烈,造成质量急剧下降,5h之后质量降低趋于平缓。此种变化趋势与高温下非晶SiCN基体的晶化行为相关。对于HTCS试样,质量损失相对较小。在1100℃、1300℃、1500℃疲劳30 h后均只有微量的质量损失,分别为0.5%、1.8%和2.1%,体现出良好的预热处理稳定化效果(少量的损失是由于HTCS内未完全晶化的非晶SiCN在实验过程中继续分解造成的)。

实施案例3:

C/SiCN的疲劳破坏是以裂纹扩展直至最终失效为表征,裂纹扩展机理可分为3个阶段。裂纹萌生阶段。在加载初期,当拉应力超过基体开裂强度时,基体上开始萌生微裂纹,随疲劳次数的增加,新生裂纹逐渐增多。裂纹长大阶段。在循环加载作用下,SiCN基体上的裂纹逐渐形成宏观尺度的“张开”型裂纹,并向界面扩展。界面控制裂纹扩展方向。当裂纹扩展到界面,若界面结合强,裂纹不改变扩展方向,直接穿过界面导致纤维突然脆断,若界面结合弱,界面内存在缺陷,裂纹扩展至此因能量释放而停止;或者在界面剪切应力作用下,裂纹改变扩展方向,在界面内呈“滑开”型沿纤维方向扩展,导致纤维与基体脱粘。与NHTCS试样相比,稳定化热处理后的HTCS试样在疲劳实验后,其组织结构变化过程与前者相似,疲劳损伤破坏机理相同。

实施案例4:

C/SiCN在疲劳过程中的变形和损伤可引起电阻变化,两类试样的电阻变化率在0-1h内逐渐下降,其中NHTCS的下降率较大,随疲劳时间延长,电阻逐渐增加,且NHTCS的电阻增加较快。疲劳实验5h后,两类试样的电阻增加率为正值,随疲劳时间延长,电阻增加率逐渐减小。在整个变化过程中,NHTCS的电阻变化率总是大于HTCS。材料内部结构的变化决定了电阻变化。在C/SiCN中,C纤维的电阻率很小,属于良导体,SiCN基体的电阻率较大。属于弱导体,C/SiCN的导电性能主要受C纤维控制。在疲劳过程初期,基体裂纹处于萌生、扩展阶段,造成基体间接触不连续,导致电阻增加;但另一方面.C纤维在疲劳载荷的作用下,编织结构发生变化,纤维束被拉直,纤维相互接触程度变大,与界面的接触范围增加,导致电阻降低。在疲劳实验初期,后者对电阻的影响远大于前者,因此表现出0-1h内电阻降低。随着疲劳时间的延长,材料的电阻增加,原因在于促进电阻增加因素的影响大大占优。在长时间疲劳应力作用下,基体中的微裂纹逐步扩展到界面,并在界面处发生偏转、滑移,从而造成C纤维与SiCN基体脱粘、纤维断裂和拔出等。C纤维磨损或断裂导致导电面积减小,极大地促进了C/SiCN电阻的增加。根据电阻变化,也可以推测在2.5 h左右,试样中已经发生明显的纤维损伤(此时电阻开始由负值变为正值)。而对于NHTCS和HTCS来说,后者的电阻变化率始终小于前者。其原因在于HTCS中非晶SiCN基体已经部分晶化,物相相对稳定;而对于NHTCS,在实验过程中非晶SiCN的晶化趋势强烈,引起基体分解和气体释放,造成较大的电阻变化。

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