技术总结
本发明公开了一种直接还原硫酸镁生产氧化镁的生产工艺，以炭黑、活性炭或焦炭为还原剂，先将还原剂与硫酸镁升温至第一温度，然后在第一温度至第二温度之间变化一段时间后，获得氧化镁；其中，所述还原剂中的灰分小于8％(质量)，所述第一温度为800～900℃，所述第二温度为1000～1200℃。采用该工艺制备的氧化镁纯度高，产生的残渣极少，处理费用较低。
技术研发人员：王在军;张克宏;任帅昌;马倩倩;王亚飞;王星尧
受保护的技术使用者：山东垚石化工科技有限公司
文档号码：201611177912
技术研发日：2016.12.19
技术公布日：2017.05.31