射率差大，因 而从有机EL层入射的光在玻璃板与透明导电膜等的界面发生反射，而光取出效率降低的 问题。因此，若如上所述控制玻璃的折射率n d，则玻璃板与透明导电膜等的折射率差变小， 从有机EL层入射的光难以在玻璃板与透明导电膜等的界面发生反射。在此，"折射率n d"是 指，利用折射率测定器测定的d线。例如，可以首先制作25mmX25mmX约3mm的长方体试 样，在（退火点Ta+30°C )到（应变点Ps-50°C )的温度区域以0· 1°C /分钟的冷却速度进行 退火处理后，使折射率％匹配的浸液渗透，并利用岛津制作所制的折射率测定器KPR-2000 进行测定。
[0045] 第七，本发明（第二本发明）的玻璃的制造方法优选成形为平板形状。
[0046] 第八，本发明（第二本发明）的玻璃的制造方法优选利用溢流下拉法成形。在此， "溢流下拉法"是，从耐热性的槽状结构物的两侧，使熔融玻璃溢出，边在槽状结构物的下端 合流，边向下方延伸成形而将玻璃板成形的方法。
[0047] 第九，本发明（第二本发明）的玻璃的制造方法优选将得到的玻璃用于有机EL照 明。
[0048] 第十，本发明（第二本发明）的玻璃的特征在于，通过上述玻璃的制造方法制作。
[0049] 第十一，本发明（第二本发明）的玻璃的特征在于，具有通过热处理从未分相的状 态至少分相为第一相和第二相的性质，且用于有机EL器件。
[0050] 第十二，本发明（第二本发明）的玻璃优选热处理前的波长为435nm、546nm和 700nm时的浊度值为5~100%。在此，"浊度值"是由（扩散透射率）X 10(V (总光线透射 率）算出的值。"扩散透射率"是利用分光光度计（例如、岛津制作所制UV-2500PC)在厚度 方向测定的值，例如，能够将两表面经镜面研磨过的玻璃作为测定试样。"总光线透射率"是 利用分光光度计（例如、岛津制作所制UV-2500PC)在厚度方向测定的值，例如，能够将两表 面经镜面研磨过的玻璃作为测定试样。
[0051] 第十三，本发明（第二本发明）的玻璃优选热处理后的波长为435nm、546nm和 700nm时的浊度值为0~80%。
【附图说明】
[0052] 图1是在使[实施例2]的试样No. 2 ([实施例7]的试样No. 22)浸渍于IM的盐 酸溶液中10分钟后，用扫描型电子显微镜观察得到的表面的像。
[0053] 图2是在使[实施例2]的试样No. 9 ([实施例7]的试样No. 29)浸渍于IM的盐 酸溶液中10分钟后，用扫描型电子显微镜观察得到的表面的像。
[0054] 图3是在使[实施例2]的试样No. 10 ([实施例7]的试样No. 30)浸渍于IM的盐 酸溶液中10分钟后，用扫描型电子显微镜观察得到的表面的像。
[0055] 图4是在使[实施例2]的试样No. 11 ([实施例7]的试样No. 31)浸渍于IM的盐 酸溶液中10分钟后，用扫描型电子显微镜观察得到的表面的像。
[0056] 图5是在使[实施例2]的试样No. 12 ([实施例7]的试样No. 32)浸渍于IM的盐 酸溶液中10分钟后，用扫描型电子显微镜观察得到的表面的像。
[0057] 图6是在使[实施例2]的试样No. 13 ([实施例7]的试样No. 33)浸渍于IM的盐 酸溶液中10分钟后，用扫描型电子显微镜观察得到的表面的像。
[0058] 图7是在使[实施例2]的试样No. 14 ([实施例7]的试样No. 34)浸渍于IM的盐 酸溶液中10分钟后，用扫描型电子显微镜观察得到的表面的像。
[0059] 图8是在使[实施例2]的试样No. 15 ([实施例7]的试样No. 35)浸渍于IM的盐 酸溶液中10分钟后，用扫描型电子显微镜观察得到的表面的像。
[0060] 图9是在使[实施例2]的试样No. 16 ([实施例7]的试样No. 36)浸渍于IM的盐 酸溶液中10分钟后，用扫描型电子显微镜观察得到的表面的像。
[0061] 图10是在使[实施例2]的试样No. 17 ([实施例7]的试样No. 37)浸渍于IM的 盐酸溶液中10分钟后，用扫描型电子显微镜观察得到的表面的像。
[0062] 图11是在使[实施例2]的试样No. 18 ([实施例7]的试样No. 38)浸渍于IM的 盐酸溶液中10分钟后，用扫描型电子显微镜观察得到的表面的像。
[0063] 图12是在使[实施例2]的试样No. 19 ([实施例7]的试样No. 39)浸渍于IM的 盐酸溶液中10分钟后，用扫描型电子显微镜观察得到的表面的像。
[0064] 图13是在使[实施例2]的试样No. 20 ([实施例7]的试样No. 40)浸渍于IM的 盐酸溶液中10分钟后，用扫描型电子显微镜观察得到的表面的像。
[0065] 图14是表示用于对比[实施例4]的试样No. 12与比较例的电流效率曲线的数据。
[0066] 图15是在将[实施例8]的试样No. 39再熔化后，不进行热处理，而加工成约 10_X30_X 1.0 mm厚的玻璃板后，对其两表面进行镜面研磨时的外观照片。
[0067] 图16是将[实施例8]的试样No. 39再熔化，在840°C热处理20分钟后，加工成约 10_X30_X 1.0 mm厚的玻璃板，对其两表面进行镜面研磨时的外观照片。
[0068] 图17是将[实施例8]的试样No. 39再熔化，在840°C热处理40分钟后，加工成约 10_X30_X 1.0 mm厚的玻璃板，对其两表面进行镜面研磨时的外观照片。
【具体实施方式】
[0069] 本发明（第一本发明）的玻璃具有至少包含第一相和第二相的分相结构，并且第 一相中的3102的含量多于第二相中的SiO2的含量，另外，第二相中的B2O 3的含量多于第一 相中的B2O3的含量。如果这样的话，第一相与第二相的折射率容易不同，能够提高玻璃的散 射功能。
[0070] 至少一个相（第一相和/或第二相）的分相粒子的平均粒径优选为〇. 1~5 μπι。 若分相粒子的平均粒径小于〇. I ym，则从有机EL层放射的光难以在第一相与第二相的界 面发生散射。另外，通过瑞利散射根据波长而显示不同散射强度，作为结果，制作白色OLED 时需要发光层的元件构成的最优化。另一方面，若分相粒子的平均粒径大于5 μ m，则散射强 度变得过强，总光线透射率有可能降低。
[0071] 本发明（第一本发明）的玻璃中，作为玻璃组成，以质量％计，优选含有Si0230~ 75 %、B2O3O. 1 ~50 %、Al2O3O ~35 %，特别优选含有 SiO2超过 39 ~75 %、B 20310 ~40 %、 Al2O3IO~低于23%。如果这样的话，分相性提高，容易提高光散射功能。以下，说明如上述 那样限定各成分的理由。需要说明的是，在各成分的含有范围的说明中，％表示质量％。
[0072] SiO2的含量优选为30~75%。若SiO2的含量变多，则熔融性、成形性容易降低， 另外折射率容易降低。因此，SiO2的适宜的上限范围为75%以下、70%以下或65%以下、特 别是60 %以下。另一方面，若SiO2的含量变少，则难以形成玻璃网络结构，玻璃化变得困难。 另外，玻璃的粘性过于降低，难以确保高液相粘度。因此，SiO 2的适宜的下限范围为30%以 上、35%以上、38%以上或超过39%、特别是40%以上。
[0073] B2O3的含量优选为0· 1~50%。B 203是提高分相性的成分，但若B 203的含量过多， 则玻璃组成的成分平衡受到破坏，耐失透性容易降低，而且耐酸性容易降低。因此，B2O3的 适宜的上限范围为50%以下、40%以下或30%以下、特别是25%以下，适宜的下限范围为 0. 1 %以上、0. 5%以上、1 %以上、4%以上、7%以上、10%以上、12%以上、14%以上、16%以 上、18%以上或20%以上、特别是22%以上。
[0074] Al2O3的含量优选为0~35%。Al 203是提高耐失透性的成分，但若Al 203的含量过 多，则分相性容易降低，而且玻璃组成的成分平衡受到破坏，反而耐失透性容易降低。另外， 耐酸性容易降低。因此，Al2O3的适宜的上限范围为35%以下、30%以下、25%以下或低于 23%、特别是20%以下，适宜的下限范围为0. 1 %以上、3%以上、5%以上、8%以上、10%以 上、12%以上或14%以上、特别是15%以上。
[0075] 从兼顾耐失透性与分相性的观点出发，SiO2-Al2O 3-B2O3的含量优选为-10~30% 或-5~25 %、特别优选为0~20%，A1203+B203的含量优选为25~50 %或29~45%、特 别优选为32~40%，质量比Si〇y(Al203+B203)优选为0. 7~2或6、0. 8~2、特别优选为 0· 85~L 6。需要说明的是，aSiO2-Al2O3-B 2O3"是从SiO2的含量减去Al 203的含量，进一步减 去 B2O3 的含量的量。"A1 203+B203"是 Al2Og B 203 的合计含量。"SiO y(Al203+B203) "是 SiO2 的含量除以Al2O3与B 203的合计含量的值。
[0076] 除上述成分以外，例如，还可以导入以下成分。
[0077] Li2O的含量优选为0~30%。Li2O是提高分相性的成分，但若Li2O的含量过多， 则液相粘度容易降低，另外应变点容易降低。此外，在利用酸的蚀刻工序中，碱成分变得容 易溶出。因此，Li 2O的适宜的上限范围为30%以下、20%以下、10%以下、5%以下或1%以 下、特别是0.5%以下。
[0078] Na2O的含量优选为0~30 %。Na2O是提高分相性的成分，但若Na2O的含量过多， 则液相粘度容易降低，另外应变点容易降低。此外，在利用酸的蚀刻工序中，碱成分变得容 易溶出。因此，Na 2O的适宜的上限范围为30%以下、20%以下、10%以下、5%以下或1%以 下、特别是0.5%以下。
[0079] K2O的含量优选为0~30 %。K2O是提高分相性的成分，但若K2O的含量过多，则液 相粘度容易降低，另外应变点容易降低。此外，在利用酸的蚀刻工序中，碱成分变得容易溶 出。因此，K 2O的适宜的上限范围为30%以下、20%以下、10%以下、5%以下或1%以下、特 别是0. 5%以下。
[0080] MgO的含量优选为0~30%。MgO是提高折射率、杨氏模量、应变点的成分，并且是 降低高温粘度的成分，但若大量含有MgO,则有液相温度上升，耐失透性降低，或密度变得过 高的风险。因此，MgO的适宜的上限范围为30%以下、20%以下、特别是10%以下，适宜的 下限范围为0. 1 %以上、1 %以上或3%以上、特别是5%以上。
[0081] CaO的含量优选为0~30%。CaO是降低高温粘度的成分，但若CaO的含量变多， 则密度容易变高，另外玻璃组成的成分平衡受到破坏，耐失透性容易降低。因此，CaO的适 宜的上限范围为30%以下、20%以下、10%以下、5%以下、特别是3%以下，适宜的下限范 围为0. 1 %以上或0.5%以上、特别是1 %以上。
[0082] SrO的含量优选为0~30%。若SrO的含量变多，则折射率、密度容易变高，另外 玻璃组成的成分平衡受到破坏，耐失透性容易降低。因此，SrO的适宜的上限范围为30%以 下或20%以下、特别是10%以下，适宜的下限范围为1 %以上或3%以上、特别是5%以上。
[0083] BaO在碱土金属氧化物中是不使玻璃的粘性极端降低、提高折射率的成分。若BaO 的含量变多，则折射率、密度容易变高，另外玻璃组成的成分平衡受到破坏，耐失透性容易 降低。因此，BaO的适宜的上限范围为40%以下、30%以下、20%以下或10%以下、特别是 5%以下，适宜的下限范围为0. 1%以上、特别是1%以上。
[0084] ZnO是提高折射率、应变点的成分，并且是使高温粘度降低的成分，但若大量导入 ZnO,则液相温度上升，耐失透性容易降低。因此，ZnO的适宜的上限范围为20%以下、10% 以下或5%以下、特别是3%以下，适宜的下限范围为0. 1%以上、特别是1%以上。
[0085] TiO2是提高折射率的成分，其含量优选为0~20%。但是，若TiO2的含量变多， 则玻璃组成的成分平衡受到破坏，耐失透性容易降低。另外有总光线透射率降低的风险。 因此，TiO 2的适宜的上限范围为20%以下、10%以下、特别是5%以下，适宜的下限范围为 0. 001 %以上、0. 01 %以上、0. 1 %以上、1 %以上或2%以上、特别是3%以上。
[0086] ZrO2是提高折射率的成分，其含量优选为0~20%。但是，若ZrO2的含量变多，则 玻璃组成的成分平衡受到破坏，耐失透性容易降低。因此，ZrO 2的适宜的上限范围为20%以 下或10%以下、特别是5%以下，适宜的下限范围为0. 001 %以上、0. 01 %以上、0. 1 %以上、 1 %以上或2%以上、特别是3%以上。
[0087] La2O3是提高折射率的成分，其含量优选为0~10%。若La2O 3的含量变多，则密度 容易变高，另外耐失透性、耐酸性容易降低。此外，原料成本容易上升，玻璃板的制造成本容 易尚涨。因此，La2O 3的适宜的上限范围为10%以下、5%以下、3%以下、2. 5%以下或1%以 下、特别是〇. 1%以下。
[0088] Nb2O5是提高折射率的成分，其含量优选为0~10 %。若Nb 205的含量变多，则密度 容易变高，另外耐失透性容易降低。此外，原料成本容易上升，玻璃板的制造成本容易高涨。 因此，Nb 2O5的适宜的上限范围为10%以下、5%以下、3%以下、2. 5%以下或1%以下、特别 是0. 1 %以下。
[0089] Gd2O3是提高折射率的成分，其含量优选为0~10%。若Gd2O 3的含量变多，则密度 变得过高，或缺乏玻璃组成的成分平衡，耐失透性降低，或高温粘性过于降低，难以确保高 液相粘度