专利名称：含硫环氧化合物及其制造方法
技术领域：
本发明涉及一种含硫环氧化合物及其制造方法。其中，涉及适合用于塑料透镜、棱镜、光纤、信息记录基础、滤光器等光学材料、特别是塑料透镜的成为环硫化合物的原料的含硫环氧化合物及其制造方法。
背景技术：
塑料材料为轻量且富有韧性，而且容易染色，所以近年来多用于各种光学材料，特别是眼镜片。对于光学材料、尤其是眼镜片所特别要求的性能而言，作为物理性质是低比重、高透明性以及低黄色度、高耐热性、高强度等，作为光学性能是高折射率和高阿贝值。高折射率可以使透镜薄壁化、高阿贝值降低透镜的色差，但由于折射率越高阿贝值越低，所以实施了使两者同时提高的研究。在这些研究中最具代表性的方法是专利文献I 3所示的使用环硫化合物的方法。
这些环硫化合物是制造了环硫部分的硫原子为氧原子的含硫环氧化合物后，进行硫化而得到的。对于含硫环氧化合物的制造方法，提出了专利文献4、5所示的制法，其收率提高、或使硫化得到的环 硫化合物固化而得到的树脂的透明性得到改善。
作为使含硫环氧化合物与硫化剂反应而得到环硫化合物的方法，提出了专利文献6所示的使用硫氰酸盐的方法和专利文献7所示的使用硫脲的方法。
另一方面，环硫化合物是具有自身聚合性的化合物，因此对于保存，提出了专利文献8所示的方法，但此时需要设为20°C以下。由于更优选的保存温度为10°C以下，所以为了保存而需要冷藏设备，存在花费成本的问题。如果能够以前一步的含硫环氧化合物的状态进行室温保存，则能够低成本且有效地生产。
然而，现有的含硫环氧化合物在室温下长期保存时会产生白浊。白浊的产生会降低使硫化得到的环硫化合物进行固化而得到的树脂的透明性。因此，期待开发出在室温下长期保存时不产生白浊的稳定的含硫环氧化合物及其制造方法。
专利文献1:日本特开平9-71580号公报
专利文献2:日本特开平9-110979号公报
专利文献3:日本特开平9-255781号公报
专利文献4:日本特开2000-143651号公报
专利文献5:日本特开2003-48883号公报
专利文献6:日本特开2000-186086号公报
专利文献7:日本特开2000-186087号公报
专利文献8:日本特开2000-327677号公报发明内容
本发明要解决的课题在于提供一种在室温下长期保存时不产生白浊的稳定的含硫环氧化合物及其制造方法。
本发明人等鉴于这种情况，反复进行了深入研究，结果发现使用硫化氢或聚硫醇化合物与制成30质量％甲醇溶液时的浊度值为1.0ppm以下的表氯醇作为原料而制造的含硫环氧化合物是在室温下长期保存时不产生白浊的稳定的含硫环氧化合物。即，本申请发明如下所述。
1.一种由下述通式(I)表示的含硫环氧化合物，其特征在于，在氮气环境下，在25°C在玻璃瓶中保存30天后的制成30质量％甲醇溶液时的浊度值为IOppm以下。
权利要求
1.一种由下述通式(I)表示的含硫环氧化合物，其特征在于，在氮气环境下，在25°c在玻璃瓶中保存30天后的制成30质量％甲醇溶液时的浊度值为IOppm以下，
2.根据权利要求1所述的含硫环氧化合物，其中，由通式(I)表示的含硫环氧化合物为由式(2 )表不的化合物，
3.根据权利要求1所述的含硫环氧化合物，其中，由通式(I)表示的含硫环氧化合物为由式(3 )表不的化合物，
4.一种含硫环氧化合物的制造方法，是权利要求1所述的含硫环氧化合物的制造方法，其特征在于，使用硫化氢或聚硫醇化合物与制成30质量％甲醇溶液时的浊度值为1.0ppm以下的表氯醇作为原料。
5.根据权利要求4所述的含硫环氧化合物的制造方法，其中，通过使表氯醇与硫化氢或聚硫醇化合物反应而得到具有氯基、醇性羟基以及硫键的化合物后，与碱性化合物反应，从而形成环氧基。
6.根据权利要求4所述的含硫环氧化合物的制造方法，其中，通过使表氯醇与硫化氢或聚硫醇化合物反应而得到具有氯基、醇性羟基以及硫醇基的化合物后，使用卤素和碱性化合物使硫醇基彼此通过分子间反应而形成二硫键，然后与碱性化合物反应，从而形成环氧基。
7.根据权利要求4 6中任一项所述的含硫环氧化合物的制造方法，其特征在于，使用硫化氢作为原料。
8.根据权利要求5所述的含硫环氧化合物的制造方法，其为制造权利要求2所述的含硫环氧化合物的方法。
9.根据权利要求6所述的含硫环氧化合物的制造方法，其为制造权利要求3所述的含硫环氧化合物的方法。
全文摘要
本发明提供一种在室温下保存时不产生白浊的稳定的含硫环氧化合物及其制造方法。本发明通过使用硫化氢或聚硫醇化合物与制成30质量%甲醇溶液时的浊度值为1.0ppm以下的表氯醇作为原料而制造的含硫环氧化合物及该制造方法来解决本发明的课题。
文档编号C07D303/26GK103204831SQ20131000802
公开日2013年7月17日 申请日期2013年1月9日 优先权日2012年1月11日
发明者久宝峰树, 堀越裕 申请人:三菱瓦斯化学株式会社