专利名称：水平电场驱动用液晶取向处理剂、液晶取向膜及液晶显示元件的制作方法
技术领域：
本发明涉及施加与基板平行的电场进行驱动的液晶显示元件所用的液晶取向处理剂、液晶取向膜及使用了该液晶取向膜的液晶显示元件。
背景技术：
已知仅在基板的一侧形成电极，以与基板平行的方向施加电压的水平电场的形式，与迄今为止的向上下基板形成的电极施加电压、驱动液晶的垂直电场形式相比，有广阔视角的特性、且可作为进行高质量显示的液晶显示元件。例如在特开平5-505247号公报中公开了如上述用水平电场形式的液晶显示元件。
水平电场形式的液晶元件在视角方面的特性优良，但存在下述问题，基板内形成的电极部分少，因此静电在液晶元件内容易积聚，即使施加驱动时所产生的非对称电压，液晶元件内也会有电荷的积聚，这些积聚的电荷会影响液晶的取向、或在余像及图像持久性方面影响显示效果，导致液晶元件的显示质量明显降低。
另外，垂直电场形式的余像现象、图像持久性对应于液晶元件内积聚的电荷，但水平电场形式的余像现象不单纯受液晶元件内所积聚的电压的影响，还随着液晶的种类、液晶元件制作过程的条件而变化，因此可认为水平电场形式的余像现象除储蓄电压之外，还受种种因素的影响。另外，上述余像现象、图像持久性还受液晶取向膜的种类的影响，因此要求有一种可降低余像、图像持久性的液晶取向膜。
液晶取向膜一般是将液晶取向剂进行印刷、干燥、烘烤后，再进行打磨处理形成的，而水平电场形式的液晶元件由于仅在基板的一侧具有电极结构，因此基板的凹凸大，另外，在基板的表面还形成了氮化硅等绝缘体，这就要求一种比迄今为止的取向剂的印刷性更优良的液晶取向处理剂。另外还有下述问题，与迄今为止的液晶元件相比，打磨处理时容易引起剥落及碎裂，这些剥离及损伤降低显示质量。
即，用于水平电场形式的液晶取向膜，不仅要求降低其余像及图像持久性，还要求由印刷性、耐打磨性优良的液晶取向剂所形成。
发明的内容为了解决上述课题，本发明者进行了深入的研究，结果发现了一种液晶取向膜，它使用具有特定结构的液晶取向剂，在制作印刷性、耐打磨性优良的液晶元件时，对防止余像、图像持久性效果优良。
即，本发明是关于液晶取向处理剂、将该液晶取向剂在基板上涂敷、烘烤后再进行打磨处理所形成的液晶取向膜及使用了该液晶取向膜的液晶显示元件。该液晶取向处理剂用于在基板的一侧具有电极构造、通过基本上与基板平行方向的水平电场驱动的液晶显示元件，其特征在于，它含有同时包含下述通式(I)及(II)表示的单元结构、在温度为30℃的N-甲基吡咯烷酮中、浓度为0.5g/dl的条件下测得的比浓粘度为0.05～5.0dl/g的聚酰胺酸或该聚酰胺酸经脱水闭环所得到的聚酰亚胺， 式(I)、(II)中，R1表示构成芳香族系四羧酸的4价有机基，且R2表示构成脂环式四羧酸的4价的有机基，R3、R4表示构成二胺的2价有机基。
图示的简单说明
图1为实施例1中的DC施加前后的电压-透过率特性图实施发明的最佳方式以下对本发明进行详细的说明。
通式(I)中的R1为构成芳香族系四羧酸的4价有机基团，该有机基团可使用1种也可多种混合使用。具有上述结构的四羧酸可列举，均苯四酸、2，3，6，7-萘四羧酸、1，2，5，6-萘四羧酸、1，4，5，8-萘四羧酸、2，3，6，7-蒽四羧酸、1，2，5，6-蒽四羧酸、3，3’，4，4’-联苯四羧酸、2，3，3’，4-联苯四羧酸、二(3，4-二羧基苯基)醚、3，3’，4，4’-二苯甲酮四羧酸、二(3，4-二羧基苯基)砜、二(3，4-二羧基苯基)甲烷、2，2-二(3，4-二羧基苯基)丙烷、1，1，1，3，3，3-六氟-2，2’-二(3，4-二羧基苯基)丙烷、二(3，4-二羧基苯基)二甲基硅烷、二(3，4-二羧基苯基)二苯基硅烷、2，3，4，5-吡啶四羧酸、2，6-二(3，4-二羧基苯基)吡啶等，而从降低余像性方面来看，R1优选自下述结构的有机基。 具有该结构的四羧酸可列举，均苯四酸、2，3，6，7-萘四羧酸、3，3’，4，4’-联苯四羧酸、3，3’，4，4’-二苯甲酮四羧酸、二(3，4-二羧基苯基)甲烷等，特别好的是均苯四酸。
通式(II)中的R2为构成脂环式四羧酸的4价有机基团，该有机基团可使用1种也可多种混合使用。具有上述结构的四羧酸可列举，1，2，3，4-环丁烷四羧酸、1，2，3，4-环庚烷四羧酸、2，3，4，5-四氢呋 四羧酸、1，2，4，5-环己烷四羧酸、3，4-二羧基-1-环己基琥珀酸、3，4-二羧基-1，2，3，4-四氢-1-萘琥珀酸、二环〔3，3，0〕辛烷-2，4，6，8-四羧酸、2，3，5-三羧基环戊基醋酸等，而从耐打磨性方面来看，R2优选自下述结构的有机基。 具有该结构的四羧酸可列举，1，2，3，4-环丁烷四羧酸、1，2，3，4-环庚烷四羧酸、3，4-二羧基-1，2，3，4-四氢-1-萘琥珀酸、二环(3，3，0)辛烷-2，4，6，8-四羧酸、2，3，5-三羧基环戊基醋酸或它们的衍生物等，特别好的是1，2，3，4-环丁烷四羧酸。
通式(I)及通式(II)中使用的芳香族系四羧酸成分和脂环式四羧酸成分的含量，相对于聚合物的总摩尔数，通式(I)占10～90摩尔％、通式(II)占90～10摩尔％，从余像特性及耐打磨性方面来看较好的是，通式(I)占20-80摩尔％、通式(II)占80～20摩尔％，更好的是通式(I)占40～60摩尔％、通式(II)占60～40摩尔％(通式(I)和通式(II)的总和不超过100摩尔％。
另外，在不损害本发明目的的范围内，也可使用其它的四羧酸，其具体例可列举丁烷四羧酸等脂肪族四羧酸等。
通式(I)及通式(II)中的R3及R4为构成二胺的二价有机基，它们可相同也可不同，可使用1种也可多种混合使用。有上述结构的二胺可列举，p-苯二胺、m-苯二胺、2，5-二氨基甲苯、2，6-二氨基甲苯、4，4’-二氨基联苯、3，3’-二甲基-4，4’-二氨基联苯、3，3’-二甲氧基-4，4’-二氨基联苯、二氨基二苯基甲烷、二氨基二苯基醚、2，2’-二氨基苯基丙烷、二(3，5-二乙基-4-氨基苯基)甲烷等芳香族二胺。上述芳香族二胺中从余像特性方面来看，较好为R3及R4各自独立地选自下述结构的2价有机基。 具有该结构的二胺可列举，p-苯二胺、4，4’-二氨基联苯、二氨基二苯基甲烷、二氨基二苯基醚等，且较好为R3及R4各自独立地选自下述结构的2价有机基。 具有该结构的二胺可列举，4，4’-二氨基二苯基醚、3，3’-二氨基二苯基醚、3，4’-二氨基二苯基醚、4，4’-二氨基二苯基甲烷、3，3’-二氨基二苯基甲烷、3，4’-二氨基二苯基甲烷等。
另外，在不损害本发明目的的范围内，也可使用其它二胺，可使用1种，也可多种混合使用。其具体例可列举，二氨基二苯基砜、二氨基二苯甲酮、二氨基萘、1，4-二(4-氨基苯氧基)苯、1，4-二(4-氨基苯基)苯、9，10-二(4-氨基苯基)蒽、1，3-二(4-氨基苯氧基)苯、4，4’-二(4-氨基苯氧基)二苯基砜、2，2-二〔4-(4-氨基苯氧基)苯基〕丙烷、2，2-二(4-氨基苯基)六氟丙烷、2，2-二〔4-(4-氨基苯氧基)苯基〕六氟丙烷等芳香族二胺、二(4-氨基环己基)甲烷、二(4-氨基-3-甲基环己基)甲烷等脂环式二胺及1，2-二氨基乙烷、1，3-二氨基丙烷、1，4-二氨基丁烷、1，6-二氨基己烷等脂肪族二胺及以下通式 (n、m表示1-10的整数，R14、R15、R16、R17表示甲基、苯基)所表示的二胺。
本发明的取向处理剂其特征是，含有具有特定结构的聚酰胺酸或该聚酰胺酸的一部分或者全部经亚胺化得到的聚酰亚胺，但对制作方法没有特别限定。一般可通过在有机极性溶剂中使四羧酸二酐和二胺进行反应，聚合得到聚酰胺酸。该情况下，四羧酸二酐和二胺的摩尔数之比较好为0.8～1.2。与一般的缩聚反应相同，该摩尔比越接近1，生成的聚合物的聚合度越大。如聚合度太小，则聚酰亚胺塗膜的强度不够。而聚合度太大，则会有形成聚酰亚胺塗膜时的操作性变差的情况，因此，本反应中生成物的聚合度，以聚酰胺酸时的比浓粘度来看，较好的是0.05-5.0dl/g(在温度为30℃的N-甲基吡咯烷酮中，浓度为0.5g/dl)，特别好的是0.2～2.0dl/g。
溶液聚合时所使用的溶剂其具体例可列举，N-甲基-2-吡咯烷酮、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基己内酰胺、二甲基亚砜、四甲基脲、吡啶、二甲基砜、六甲磷酰胺及丁内酯等，特别合适的是N-甲基-2-吡咯烷酮。上述溶剂可单独使用，也可混合使用。另外，即使是不溶解聚酰胺酸的溶剂，在可得到均匀溶液的范围内，也可与上述溶剂混合使用。溶液聚合的反应温度可选择-20℃～150℃、较好为-5℃～100℃的任意温度。
要进一步得到具有特定结构的聚酰胺酸，可使用具有特定结构的四羧酸二酐或多种二胺进行共聚合，或者在聚合得到具有特定结构的聚酰胺酸之后，聚合得到具有其它特定结构的聚酰胺酸，将它们混合，从余像特性方面来看，以使其共聚合为好。
得到的聚酰胺酸溶液可直接作为液晶取向处理剂使用，但为了提高液晶取向处理剂的印刷性，也可与其它溶剂混合使用。该溶剂除作为溶液聚合所使用溶剂的上述物质之外，在聚合物不析出的范围内，即使单独使用时不能使聚合物溶解的溶剂也可使用，其具体例可列举，乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、乙基二甘醇一乙醚、丁基二甘醇一乙醚、乙基二甘醇一乙醚乙酸酯、乙二醇、1-甲氧基-2-丙醇、1-乙氧基-2-丙醇、1-丁氧基-2-丙醇、1-苯氧基-2-丙醇、丙二醇一乙酸酯、丙二醇双乙酸酯、丙二醇-1-一甲基醚-2-乙酸酯、丙二醇-1-一乙基醚-2-乙酸酯、二丙二醇、2-(2-乙氧基丙氧基)丙醇、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸n-丙酯、乳酸n-丁酯、乳酸异戊酯等，可多种溶剂混合使用，但特别合适的是含有丁基溶纤剂的溶剂。上述溶剂的浓度较好的是占聚合物溶液总重量的3～50重量％，更好的是占4～30重量％。
将聚酰胺酸的一部分或全部进行亚胺化时的制作方法没有特别限定，但可在四羧酸二酐和二胺反应后的聚酰胺酸的溶液中直接进行亚胺化。该情况下，为使聚酰胺酸的一部分或全部转化为聚酰亚胺，可采用通过加热使聚酰胺酸脱水闭环的方法及使用公知的脱水闭环催化剂通过化学的方式进行闭环的方法。使用加热的方法时，可选择100℃～300℃，较好为120℃～250℃的任意温度。使用通过化学方式闭环的方法时，例如可在含有醋酸酐等的条件下使用吡啶、三乙胺等，这时的温度可选择-20℃～200℃的任意温度。
如上述方法得到的一部分或全部已转化为亚胺的溶液也可直接使用，也可在甲醇、乙醇等弱溶剂中进行沉淀、分离、得到粉末之后，用适当的溶剂再进行溶解后使用。对于使得到的聚合物再溶解的溶剂，只要能使该聚合物溶解，则没有特别限定，其具体例可列举，2-吡咯烷酮、N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N-乙烯基吡咯烷酮、N，N-二甲基乙酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、γ-丁内酯等，从溶解性方面来看，N-甲基吡咯烷酮、γ-丁内酯为宜，另外将其混合的溶剂更为合适。即使单独使用时不能使聚合物溶解的溶剂，但在聚合物不析出的范围内也可与上述溶剂混合使用。其具体例有，乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、乙基二甘醇一乙醚、丁基二甘醇一乙醚、乙基二甘醇一乙醚乙酸酯、乙二醇、1-甲氧基-2-丙醇、1-乙氧基-2-丙醇、1-丁氧基-2-丙醇、1-苯氧基-2-丙醇、丙二醇一乙酸酯、丙二醇双乙酸酯、丙二醇-1-一甲基醚-2-乙酸酯、丙二醇-1-一乙基醚-2-乙酸酯、二丙二醇、2-(2-乙氧基丙氧基)丙醇、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸n-丙酯、乳酸n-丁酯、乳酸异戊酯等。可将多种弱溶剂混合使用，但特别合适的是含有丁基溶纤剂的溶剂。上述溶剂的浓度较好的是占聚合物溶液总重量的3～50重量％，更好的是占4～30重量％。
如上述方式得到的本发明的液晶取向处理剂中的聚酰胺酸或使聚酰胺酸亚胺化所得的聚合物的含量，只要是均匀的溶液则没有特别限定，但一般情况下固体成分为1～15重量％，较好为2～8重量％。
另外，为了提高上述聚合物的树脂膜与基板的粘附性，也可在得到的聚合物溶液中，作为添加剂添加含有官能性硅烷的化合物或含有环氧基的化合物等。其具体例可列举，3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、2-氨基丙基三甲氧基硅烷、2-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-脲基丙基三甲氧基硅烷、3-脲基丙基三乙氧基硅烷、N-乙氧基羰基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-乙氧基羰基-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-三乙氧基甲硅烷基丙基三亚乙基三胺、N-三甲氧基甲硅烷基丙基三亚乙基三胺、10-三甲氧基甲硅烷基-1，4，7-三氮癸烷、10-三乙氧基甲硅烷基-1，4，7-三氮癸烷、9-三甲氧基甲硅烷基-3，6-二氮壬基乙酸酯、9-三乙氧基甲硅烷基-3，6-二氮壬基乙酸酯、N-苄基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-苄基-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-二(氧代乙烯)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-二(氧代乙烯)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、乙二醇二缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、丙二醇二缩水甘油醚、三丙二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二缩水甘油醚、新戊二醇二缩水甘油醚、1，6-己烷二缩水甘油醚、甘油二缩水甘油醚、2，2-二溴新戊二醇二缩水甘油醚、1，3，5，6-四缩水甘油基-2，4-己二醇、N.N.N’，N’，-四缩水甘油基-m-二甲苯二胺、1，3-二(N，N-二缩水甘油基氨基甲基)环己烷、N.N.N’，N’，-四缩水甘油基-4，4’-二氨基二苯基甲烷等。上述含有功能性硅烷的化合物及含有环氧基的化合物较好的是占聚合物溶液总重量的0.1～30重量％，更好的是占1～20％。
本发明的液晶取向处理剂一般可用旋涂、印刷等方法涂敷在附有电极的玻璃基板及附有滤色片的玻璃基板上，从生产性方面来看，印刷法比较合适。该种印刷一般是在温度为20～30℃、湿度为60％以上的条件下进行。涂敷时使用的液晶取向处理剂，用热板或加热炉以40～120℃进行干燥处理后，通过热板或加热炉进行烘烤。这时烘烤温度可选择120～350℃的任意温度，烘烤时间包括升温降温过程可选择3分～180分范围内的任意时间。经烘烤后的涂膜用人造纤维、棉等打磨布进行打磨处理，形成液晶取向膜。
本发明的液晶元件可用一般的方法制作，其制作方法没有特别限定。一般来说，将密封剂涂敷在至少在一块基板上形成了液晶取向膜的玻璃基板上，中间夹有分散的间隔物，使之保持在一定间隙的状态下，将粘合2块基板用的贴合密封剂固化。预先可从液晶注入口将液晶注入后封闭注入口、制作液晶元件。液晶可使用氟系液晶及氰基系液晶等一般的液晶，但特别好的是电容率各向异性大且转动粘性低的液晶。
以下列举实施例对本发明进行详细说明，但本发明不仅限于此。
<印刷性评价>
液晶取向剂的印刷性是使用日本照片印刷(株式会社)制造的简易型印刷机，将液晶取向剂涂敷在铬基板上，用80℃的热板干燥1分钟，用显微镜对该涂膜表面进行观察、评价。
<液晶取向膜打磨性的评价>
液晶取向剂的打磨性是通过旋转涂敷法将液晶取向剂涂敷在ITO基板上，再进行干燥、烘烤形成涂膜，将该涂膜进行打磨处理后，用显微镜观察打磨后涂膜的表面状态。
打磨是使用人造纤维(TA-20R；吉川加工(株式会社)、在打磨辊的辊径为120mm、辊的转数为300rpm、输送基板的速度为10mm/sec、挤压量为0.5mm的状态下进行。
<余像评价>
在具有电极总为20μm、电极间间隔为20μm的梳形电极的基板上将液晶取向剂进行印刷、干燥、烘烤，制得膜厚为200nm的薄膜(基板1)。同样在没有电极的玻璃基板上，将液晶取向剂进行印刷、干燥、烘烤，制得膜厚为200nm的薄膜(基板2)。对于基板1，使液晶取向剂与电极方向保持45°角进行打磨处理。对于基板2，使基板1和打磨方向平行进行打磨处理。将上述基板在中间夹有间隔物的状态下进行粘合、制作间隙为6μm的元件，将液晶ZLI-4792(Merck公司制)或MLC-2042(Merck公司制)注入上述元件中，制得液晶元件。用30Hz的矩形波测定该液晶元件的电压-透过率(V-T)特性后，施加30分钟10V的直流电压。切断直流电压后立即再次测定V-T特性，从施加直流电压前后的电压-透过率特性的变化评价余像。即，根据V-T特性发生变化，在施加一定电压、透过率发生变化时，该区域可观察到余像。
实施例1将4，4’-二氨基二苯醚20.0g(0.10mol)溶解在N-甲基吡咯烷酮150g(以下略称NMP)中。在室温的状态下向该溶液中依次添加1，2，3，4-环丁烷四羧酸二酐9.8g(0.05mol)和均苯四酸二酐10.0g(0.046mol)，再添加NMP75g，调制成聚酰胺酸溶液。测得该聚酰胺酸的比浓粘度为1.10dl/g(0.5g/dl、NMP溶液中、30℃)。用NMP和丁基溶纤剂(重量比为4∶1)的混合溶剂将该聚酰胺酸稀释至4重量％后，对其印刷性进行评价，其结果是，得到了没有膜厚不均匀现象的均匀涂膜。另外，将取向膜溶液涂敷在ITO基板上，以80℃的温度下进行5分钟、再在23℃的温度下进行60分钟的烘烤后，对打磨后的碎屑进行评价，其结果是，打磨后没有碎屑。再用梳形电极制作液晶元件，对其V-T特性评价的结果是，施加直流电压前后的V-T特性没有变化(图1)、没有观察到余像。
实施例2除将4，4’-二氨基二苯醚换为4，4’-二氨基二苯甲烷19.8g(0.10mol)之外，其它与实施例1相同，调制成聚酰胺酸溶液。测得该聚酰胺酸的比浓粘度为0.93dl/g(0.5g/dl、NMP溶液中、30℃)。以下用与实施例1相同的方法对印刷性、耐打磨性、余像进行评价，其结果是，得到了均匀涂膜、打磨时没有碎屑、没有V-T特性的变化。
实施例3将4，4’-二氨基二苯醚20.0g(0.10mol)溶解在NMP 150g中。在室温的状态下向该溶液中依次添加1，2，3，4-环丁烷四羧酸二酐11.8g(0.06mol)和均苯四酸二酐7.4g(0.034mol)，再添加NMP72g，调制成聚酰胺酸溶液。测得该聚酰胺酸的比浓粘度为1.00dl/g(0.5g/dl、NMP溶液中、30℃)。以下用与实施例1相同的方法对印刷性、耐打磨性、余像进行评价，其结果是，得到了均匀涂膜、打磨时没有碎屑、没有V-T特性的变化。
实施例4将4，4’-二氨基二苯醚20.0g(0.10mol)溶解在NMP 150g中。在室温的状态下向该溶液中依次添加1，2，3，4-环丁烷四羧酸二酐7.8g(0.04mol)和均苯四酸二酐11.8g(0.054mol)，再添加NMP74g，调制成聚酰胺酸溶液。测得该聚酰胺酸的比浓粘度为0.92dl/g(0.5g/dl、NMP溶液中、30℃)。以下用与实施例1相同的方法对印刷性、耐打磨性、余像进行评价，其结果是，得到了均匀涂膜、打磨时没有碎屑、没有V-T特性的变化。
实施例5将4，4’-二氨基二苯醚20.0g(0.10mol)溶解在NMP 170g中。在室温的状态下向该溶液中依次添加1，2，3，4-环丁烷四羧酸二酐7.8g(0.04mol)和3，3，’4，4’-联苯四羧酸二酐15.3g(0.052mol)，再添加NMP75g，调制成聚酰胺酸溶液。测得该聚酰胺酸的比浓粘度为0.98dl/g(0.5g/dl、NMP溶液中、30℃)。以下用与实施例1相同的方法对印刷性、耐打磨性、余像进行评价，其结果是，得到了均匀涂膜、打磨时没有碎屑、没有V-T特性的变化。
比较例1将4，4’-二氨基二苯醚20.0g(0.10mol)溶解在NMP 150g中。在室温的状态下向该溶液中添加均苯四酸二酐20.5g(0.094mol)，再添加NMP80g，调制成聚酰胺酸溶液。测得该聚酰胺酸的比浓粘度为0.89dl/g(0.5g/dl、NMP溶液中、30℃)。以下用与实施例1相同的方法对印刷性、耐打磨性、余像进行评价，其结果是，得到了均匀涂膜、打磨时有大量碎屑、确认了其耐打磨性差。
产业上利用的可能性本发明的液晶取向处理剂，作为水平电场驱动的液晶显示元件的液晶取向膜使用时，其印刷性优良、打磨时的损害小且在防止水平电场形式所特有的余像、图像持久性方面性能优良，可得到显示质量高的液晶显示元件。
权利要求
1.一种液晶取向处理剂，它用于在基板的一侧具有电极结构、通过基本上与基板平行方向的水平电场驱动的液晶显示元件，其特征在于，所述液晶取向处理剂含有同时包含下述通式(I)及(II)表示的单元结构、在温度为30℃的N-甲基吡咯烷酮中、浓度为0.5g/dl的条件下测得的比浓粘度为0.05～5.0dl/g的聚酰胺酸或该聚酰胺酸经脱水闭环所得到的聚酰亚胺， 式(I)、(II)中，R1表示构成芳香族系四羧酸的4价有机基，且R2表示构成脂环式四羧酸的4价的有机基，R3、R4表示构成二胺的2价有机基。
2.根据权利要求1所述的液晶取向处理剂，其特征在于，它是将含有以所述通式(I)表示的单元结构的聚酰胺酸或该聚酰胺酸经脱水闭环所得到的聚酰亚胺与含有以所述通式(II)表示的单元结构的聚酰胺酸或该聚酰胺酸经脱水闭环所得到的聚酰亚胺混合后得到的。
3.根据权利要求1所述的液晶取向处理剂，其特征在于，它含有在同一分子链中含有所述通式(I)及通式(II)表示的单元结构的聚酰胺酸或该聚酰胺酸经脱水闭环所得到的聚酰亚胺。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的液晶取向处理剂，其特征在于，通式(I)中的R1为选自下述结构的4价有机基，
5.根据权利要求1-4中任一项所述的液晶取向处理剂，其特征在于，通式(II)中的R2选自下述结构， R5、R6、R7、R8、R9各自独立地表示氢或甲基。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的液晶取向处理剂，其特征在于，通式(I)单元结构的含量为10～90摩尔％，通式(II)单元结构的含量为90～10摩尔％，但通式(I)和通式(II)的单元结构的含量总和不超过100摩尔％。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的液晶取向处理剂，其特征在于，通式(I)及通式(II)中的R3、R4为各自独立地选自下述结构的2价有机基。 式中，R10、R11、R12各自独立地选自氢、甲基、乙基、甲氧基及乙氧基，R13为单键、醚键及碳数为1～3的直链状或分支状烷基，a表示1～4的整数。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的液晶取向处理剂，其特征在于，通式(I)中的R1为构成均苯四酸的有机基，通式(II)中的R2为构成环丁烷四羧酸的有机基。
9.根据权利要求1-8中任一项所述的液晶取向处理剂，其特征在于，通式(I)及通式(II)中的R3、R4为各自独立地选自下述结构，
10.一种水平电场驱动用液晶取向膜，它是将权利要求1-9中任一项所述的液晶取向处理剂涂敷在基板上，经烘烤后，进行打磨处理所形成的。
11.一种水平电场驱动的液晶显示元件，它使用的是将权利要求1-9中任一项所述的液晶取向处理剂涂敷在基板上，经烘烤后，进行打磨处理所形成的液晶取向膜。
全文摘要
本发明提供在使用水平电场驱动的液晶显示元件时，印刷性、耐打磨性优良且余像及图像持久性少的液晶取向剂、液晶取向膜及使用了该液晶取向膜的显示质量高的液晶显示元件。本发明提供同时含有具有构成芳香族四羧酸的4价有机基的聚酰胺酸或聚酰亚胺单元结构和具有构成脂环式四羧酸的4价有机基的聚酰胺酸或聚酰亚胺单元结构的液晶取向处理剂、将该液晶取向剂在基板上涂敷、烘烤后再进行打磨处理所形成的液晶取向膜及使用该液晶取向膜制作的水平电场驱动的液晶显示元件。
文档编号C08G73/00GK1470007SQ01817356
公开日2004年1月21日 申请日期2001年10月16日 优先权日2000年10月16日
发明者真野雄一, 佐野俊一, 小野豪, 黑崎真理子, 远藤秀幸, 一, 幸, 理子 申请人:日产化学工业株式会社