1.一种聚3-羧基噻吩/噻吩插层水滑石复合材料，其特征在于其化学式为：
[(M2+)1-x(M3+)x(OH)2]x+(PTHC/TH)n-x/n·mH2O
其中，x＝0.25～0.33，n＝5～35，m＝2～4，m为层间结晶水分子的数量，M2+为二价金属离子，M3+为三价金属离子，PTHC/TH为聚3-羧基噻吩/噻吩。
2.根据权利要求1所述的聚3-羧基噻吩/噻吩插层水滑石复合材料，其特征在于：M2+为Zn2+或Mg2+，M3+为Al3+；PTHC/TH的聚合度为15～100。
3.一种权利要求1或2所述的聚3-羧基噻吩/噻吩插层水滑石复合材料的制备工艺，其特征在于：先制备水滑石前体，再将3-羧基噻吩插层水滑石，在层间形成含有噻吩基团的疏水性环境，然后将3-羧基噻吩插层水滑石放入噻吩的氯仿溶液中浸泡后，再用含双氧水和甘油的水溶液浸泡，在高纯氮气下加热，使得3-羧基噻吩和噻吩在水滑石层间发生原位聚合，得到聚3-羧基噻吩/噻吩插层水滑石复合材料。
4.根据权利要求3所述的聚3-羧基噻吩/噻吩插层水滑石复合材料的制备工艺，其特征在于包括以下步骤：
(1)制备水滑石前体：
制备层间阴离子为NO3－或Cl－，层板二价金属离子、三价金属离子摩尔比M2+/M3+＝2～3的水滑石前体NO3-LDHs或者Cl-LDHs；
将M2+的可溶性盐和M3+的可溶性盐配制成混合溶液，M2+的摩尔浓度为0.1～1.0mol/L，M3+的摩尔浓度为0.05～0.5mol/L；
以1.0～5.0mol/L的NaOH溶液为碱溶液，在室温N2保护条件下，采用双滴法将可溶性盐的混合溶液和碱溶液加入到四口瓶中，然后用0.1～5.0mol/L的NaOH溶液调整其pH值为6～10；
将所得浆液在60～90℃下晶化12～72h，晶化后的产物放入离心机中，在转速为2500～3500r/min下离心3～5min，然后用除CO2的去离子水洗涤至洗涤液呈中性，在50～90℃下干燥20～48h，得到水滑石前体NO3-LDHs或者Cl-LDHs；
(2)制备3-羧基噻吩插层水滑石：
将3-羧酸噻吩溶于除CO2的去离子水中，用0.1～1mol/L的NaOH溶液将pH值调至6.5，然后加入步骤(1)得到的水滑石前体，N2保护下在60～80℃进行离子交换12～72h，所得产物用除CO2的去离子水进行洗涤，经抽滤后放入烘箱，在40～70℃下干燥12～24h，得到3-羧基噻吩插层水滑石THC-LDHs；
(3)制备3-羧基噻吩/噻吩插层水滑石：
将噻吩溶于氯仿中，加入步骤(2)得到的3-羧酸噻吩插层水滑石，然后放入超声波震荡器中超声处理0.5～1h，超声时控制温度不超过30℃，超声处理后产物依次用氯仿和除CO2的去离子水进行洗涤，然后在50～70℃下干燥20～48h后，得到3-羧基噻吩/噻吩插层水滑石THC/TH-LDHs；
(4)浸泡、洗涤、干燥3-羧基噻吩/噻吩插层水滑石：
将步骤(3)得到的3-羧基噻吩/噻吩插层水滑石放入含5～10wt％双氧水以及1wt％甘油的水溶液中浸泡24～72h，然后用除CO2的去离子水进行洗涤，在50～70℃下干燥20～48h；
(5)制备聚3-羧基噻吩/噻吩插层水滑石：
将步骤(4)得到的物料放入管式加热炉中，通入80mL/min的高纯氮气，在200～300℃下加热0.5～1h，得到聚3-羧基噻吩/噻吩插层水滑石PTHC/TH-LDHs。
5.根据权利要求4所述的聚3-羧基噻吩/噻吩插层水滑石复合材料的制备工艺，其特征在于：步骤(1)中M2+的可溶性盐为盐酸盐或硝酸盐，M3+的可溶性盐为盐酸盐或硝酸盐，且M2+的可溶性盐和M3+的可溶性盐的种类相同。