1.一种用于高双折射率液晶的含二氟乙烯氧基联苯型稀释剂，其特征在于该稀释剂的结构式如下所示：
式中x1、x2各自独立的代表h或f，r代表c2～c7烷基。
2.一种权利要求1所述的含二氟乙烯氧基联苯型稀释剂的合成方法，其特征在于：
(1)以n,n-二甲基甲酰胺与蒸馏水体积比为3:1的混合液作为溶剂，在惰性气体保护下，将式i所示的(2-氟-4-乙基苯基)硼酸类化合物与式ii所示的对三氟乙氧基溴苯类化合物、碳酸钾、四丁基溴化铵、四(三苯基膦)钯在60～90℃下反应8～10小时，分离纯化，得到式iii化合物；
(2)以四氢呋喃为溶剂，在惰性气体保护下，将式iii化合物与二异丙基氨基锂在-70～-90℃下反应1～2小时，用饱和氯化铵水溶液淬灭，分离纯化，得到式iv所示含二氟乙烯氧基联苯型稀释剂。
3.根据权利要求2所述的含二氟乙烯氧基联苯型稀释剂的合成方法，其特征在于：步骤(1)中，所述(2-氟-4-乙基苯基)硼酸类化合物与对三氟乙氧基溴苯类化合物、碳酸钾、四丁基溴化铵、四(三苯基膦)钯的摩尔比为1:1.1～1.2:3～4:0.4～0.6:0.02～0.03。
4.根据权利要求2所述的含二氟乙烯氧基联苯型稀释剂的合成方法，其特征在于：步骤(2)中，所述式iii化合物与二异丙基氨基锂的摩尔比为1:8～10。