技术总结
本发明公开了一种用于高双折射率液晶的含二氟乙烯氧基联苯型稀释剂及其合成方法，该稀释剂的结构式为式中X1、X2各自独立的代表H或F，R代表C2～C7烷基，其采用工业上成熟的Suzuki偶联反应和脱氢反应进行合成，方法简便且高效。本发明稀释剂结构中含有二氟乙烯氧基末端基，能够有效改善高双折射率液晶的低温性能，且双折射率和介电各向异性都比商业化稀释剂3HHV明显提高。
技术研发人员：安忠维;赵雯静;贺玉平;徐恒;陈然;陈新兵;陈沛
受保护的技术使用者：陕西师范大学
技术研发日：2019.12.17
技术公布日：2020.04.03