。
[0352] 自由基聚合法没有特别限定，可以使用乳液聚合法、悬浮聚合法、分散聚合法、沉 淀聚合法、本体聚合法、溶液聚合法等。
[0353] 作为能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子的聚合反应中使用的有机溶剂，只 要是所生成的高分子会溶解的有机溶剂就没有特别限定。以下列举出其具体例。
[0354] 可列举出：N，N_二甲基甲酰胺、N，N_二甲基乙酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、N-乙基-2-吡咯烷酮、N-甲基己内酰胺、二甲基亚砜、四甲基脲、吡啶、二甲基砜、六甲基亚砜、γ-丁 内酯、异丙醇、甲氧基甲基戊醇、二戊烯、乙基戊基酮、甲基壬基酮、甲乙酮、甲基异戊基酮、 甲基异丙基酮、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、丁基卡必 醇、乙基卡必醇、乙二醇、乙二醇单乙酸酯、乙二醇单异丙醚、乙二醇单丁醚、丙二醇、丙二醇 单乙酸酯、丙二醇单甲醚、丙二醇叔丁醚、二丙二醇单甲醚、二乙二醇、二乙二醇单乙酸酯、 二乙二醇二甲醚、二丙二醇单乙酸酯单甲醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇 单乙酸酯单乙醚、二丙二醇单丙醚、二丙二醇单乙酸酯单丙醚、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸 酯、三丙二醇甲醚、3-甲基-3-甲氧基丁醇、二异丙醚、乙基异丁醚、二异丁烯、乙酸戊酯、丁 酸丁酯、丁醚、二异丁酮、甲基环己烯、丙醚、二己醚、二噁烷、正己烷、正戊烷、正辛烷、二乙 醚、环己酮、碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸正丁 酯、醋酸丙二醇单乙醚、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸甲基乙 酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸、3-甲氧基丙酸、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁 酯、二甘醇二甲醚、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、3-甲氧基-Ν，Ν-二甲基丙酰胺、3-乙氧基-Ν，Ν-二甲基丙酰胺、3-丁氧基-Ν，Ν-二甲基丙酰胺等。
[0355] 这些有机溶剂可以单独使用，也可以混合使用。进而，即使是不溶解所生成的高分 子的溶剂，只要在所生成的高分子不会析出的范围内，则也可以混合至上述有机溶剂中使 用。
[0356] 另外，在自由基聚合中，有机溶剂中的氧会成为阻碍聚合反应的原因，因此有机溶 剂优选尽可能地脱气后使用。
[0357] 自由基聚合时的聚合温度能够选择30°C~150°C的任意温度，优选为50°C~100°C 的范围。另外，反应可以以任意浓度进行，浓度过低时难以得到高分子量的聚合物，浓度过 高时，反应液的粘性变得过高而难以均匀地搅拌，因此单体浓度优选为1质量％~50质 量％、更优选为5质量％~30质量％。反应初期以高浓度进行，其后可以追加有机溶剂。
[0358] 在上述自由基聚合反应中，自由基聚合引发剂相对于单体的比率较多时，所得高 分子的分子量变小，自由基聚合引发剂相对于单体的比率较少时，所得高分子的分子量变 大，因此自由基引发剂相对于聚合单体的比率优选为0.1摩尔％~1〇摩尔％。另外，聚合时 也可以追加各种单体成分、溶剂、引发剂等。
[0359] [聚合物的回收]
[0360] 从利用上述反应得到的、能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子的反应溶液中 回收所生成的高分子时，将反应溶液投入至不良溶剂，使这些聚合物沉淀即可。作为用于沉 淀的不良溶剂，可列举出甲醇、丙酮、己烷、庚烷、丁基溶纤剂、庚烷、甲乙酮、甲基异丁酮、乙 醇、甲苯、苯、二乙醚、甲乙醚、水等。投入至不良溶剂中而发生沉淀的聚合物可以在过滤回 收后，在常压或减压下进行常温干燥或加热干燥。另外，重复进行2次~10次使沉淀回收的 聚合物再溶解于有机溶剂并再沉淀回收的操作时，能够减少聚合物中的杂质。作为此时的 不良溶剂，可列举出例如醇类、酮类、烃等，使用选自这些之中的3种以上不良溶剂时，精制 效率进一步提尚，故而优选。
[0361] 关于本发明的(A)侧链型高分子的分子量，考虑到所得涂膜的强度、形成涂膜时的 作业性、以及涂膜的均勾性时，利用GPC(Gel Permeation Chromatography，凝胶渗透色谱） 法测定的重均分子量优选为2000~1000000、更优选为5000~100000。
[0362][聚合物组合物的制备]
[0363] 本发明中使用的聚合物组合物优选制备成涂布液的形式，用以适合形成液晶取向 膜。即，本发明所使用的聚合物组合物优选以用于形成树脂覆膜的树脂成分溶解于有机溶 剂而成的溶液的形式来制备。此处，该树脂成分是指包含上述说明的能够表现出液晶性的 感光性侧链型高分子的树脂成分。此时，树脂成分的含量优选为1质量％~20质量％、更优 选为3质量％~15质量％、特别优选为3质量％~10质量％。
[0364] 本实施方式的聚合物组合物中，前述树脂成分可以是全部均为上述能够表现出液 晶性的感光性侧链型高分子，在不损害液晶表现能力和感光性能的范围内，也可以混合除 此之外的其它聚合物。此时，树脂成分中的其它聚合物的含量为0.5质量％~80质量％、优 选为1质量％~50质量％。
[0365]这种其它聚合物可列举出例如包含聚（甲基）丙烯酸酯、聚酰胺酸、聚酰亚胺等且 不是能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子的聚合物等。
[0366]〈有机溶剂〉
[0367] 本发明所使用的聚合物组合物中使用的有机溶剂只要是能够溶解树脂成分的有 机溶剂就没有特别限定。以下列举出其具体例。
[0368] 可列举出：N，N_二甲基甲酰胺、N，N_二甲基乙酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、N-甲基己 内酰胺、2-吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N-乙烯基吡咯烷酮、二甲基亚砜、四甲基脲、啦啶、二 甲基砜、六甲基亚砜、γ-丁内酯、3-甲氧基-N，N-二甲基丙酰胺、3-乙氧基-N，N-二甲基丙酰 胺、3-丁氧基-N，N-二甲基丙酰胺、1，3_二甲基咪唑啉酮、乙基戊基酮、甲基壬基酮、甲乙酮、 甲基异戊基酮、甲基异丙基酮、环己酮、碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯、二甘醇二甲醚、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、丙二醇单乙酸酯、丙二醇单甲醚、丙二醇叔丁醚、二丙二醇单甲醚、二乙二醇、 二乙二醇单乙酸酯、二乙二醇二甲醚、二丙二醇单乙酸酯单甲醚、二丙二醇单甲醚、二丙二 醇单乙醚、二丙二醇单乙酸酯单乙醚、二丙二醇单丙醚、二丙二醇单乙酸酯单丙醚、3-甲基-3_甲氧基丁基乙酸酯、三丙二醇甲醚等。它们可以单独使用，也可以混合使用。
[0369] 本发明中使用的聚合物组合物可以含有上述(A)和(B)成分之外的成分。作为其例 子，可列举出在涂布聚合物组合物时提高膜厚均匀性、表面平滑性的溶剂或化合物，提高液 晶取向膜与基板的密合性的化合物等，但不限定于此。
[0370] 作为提高膜厚均匀性、表面平滑性的溶剂(不良溶剂）的具体例，可列举出以下溶 剂。
[0371] 可列举出例如异丙醇、甲氧基甲基戊醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、甲 基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、丁基卡必醇、乙基卡必醇、乙基卡必醇乙酸酯、乙二 醇、乙二醇单乙酸酯、乙二醇单异丙醚、乙二醇单丁醚、丙二醇、丙二醇单乙酸酯、丙二醇单 甲醚、丙二醇单正丁醚、丙二醇叔丁醚、二丙二醇单甲醚、二乙二醇、二乙二醇单乙酸酯、二 乙二醇二甲醚、二丙二醇单乙酸酯单甲醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单 乙酸酯单乙醚、二丙二醇单丙醚、二丙二醇单乙酸酯单丙醚、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、 三丙二醇甲醚、3-甲基-3-甲氧基丁醇、二异丙醚、乙基异丁醚、二异丁烯、乙酸戊酯、丁酸丁 酯、丁醚、二异丁酮、甲基环己烯、丙醚、二己醚、1-己醇、正己烷、正戊烷、正辛烷、二乙醚、乳 酸甲酯、乳酸乙酯、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸正丁酯、醋酸丙二醇单乙醚、丙酮酸甲酯、丙酮 酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸甲基乙酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸、3-甲氧基丙酸、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、1-甲氧基-2-丙醇、1-乙氧基-2-丙醇、 1-丁氧基-2-丙醇、1-苯氧基-2-丙醇、丙二醇单乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、丙二醇-1-单甲 醚-2-乙酸酯、丙二醇-1-单乙醚-2-乙酸酯、二丙二醇、2-(2-乙氧基丙氧基）丙醇、乳酸甲 酯、乳酸乙酯、乳酸正丙酯、乳酸正丁酯、乳酸异戊酯等具有低表面张力的溶剂等。
[0372] 这些不良溶剂可以使用1种，也可以混合使用多种。使用上述那样的溶剂时，为了 不使聚合物组合物中包含的溶剂整体的溶解性显著降低，优选为溶剂整体的5质量％~80 质量％、更优选为20质量％~60质量％。
[0373] 作为提高膜厚均匀性、表面平滑性的化合物，可列举出氟系表面活性剂、有机硅系 表面活性剂和非离子系表面活性剂等。
[0374] 更具体而言，可列举出例如Eftop(注册商标）301、EF303、EF352(Tohkem products Corporation制）；Megafac(注册商标）F171、F173、R-30(DIC CORPORATION制）；Fluorad F(^430、F(]431 (Sumitomo 3M Limited制）；AsahiGuard(注册商标)AG710(旭硝子株式会社 制）；Surflon(注册商标）S-382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106(AGCSEIMI CHEMICAL CO.，LTD.制）等。这些表面活性剂的使用比例相对于聚合物组合物中含有的树脂 成分100质量份优选为0.01质量份~2质量份、更优选为0.01质量份~1质量份。
[0375] 作为提高液晶取向膜与基板的密合性的化合物的具体例，可列举出以下示出的含 官能性硅烷的化合物等。
[0376] 可列举出例如3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、2-氨基丙基 三甲氧基硅烷、2-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-脲丙基三甲氧基硅烷、3-脲丙基三乙氧基 硅烷、N-乙氧基羰基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-乙氧基羰基-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、 N-三乙氧基甲硅烷基丙基三乙三胺、N-三甲氧基甲硅烷基丙基三乙三胺、10-三甲氧基甲硅 烷基-1，4，7-三氮杂癸烷、10-三乙氧基甲硅烷基-1，4，7-三氮杂癸烷、9-三甲氧基甲硅烷 基-3,6-二氮杂壬基乙酸酯、9-三乙氧基甲硅烷基-3,6-二氮杂壬基乙酸酯、N-苄基-3-氨基 丙基三甲氧基硅烷、N-苄基-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、 N-苯基-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-双(氧亚乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-双(氧亚 乙基)-3_氨基丙基三乙氧基硅烷等。
[0377] 进而，为了提高基板与液晶取向膜的密合性、且防止构成液晶表示元件时由背光 导致的电特性降低等，可以在聚合物组合物中含有如下那样的酚醛塑料系、含环氧基的化 合物的添加剂。以下示出具体的酚醛塑料系添加剂，但不限定于该结构。
[0378]
[0379]作为具体的含环氧基的化合物，可例示出乙二醇二缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水 甘油醚、丙二醇二缩水甘油醚、三丙二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二缩水甘油醚、新戊二醇 二缩水甘油醚、1，6-己二醇二缩水甘油醚、甘油二缩水甘油醚、2，2_二溴新戊二醇二缩水甘 油醚、1，3,5,6_四缩水甘油基-2,4-己二醇、1^』'，-四缩水甘油基间苯二甲胺、1，3-双 (N，N-二缩水甘油基氨基甲基)环己烷、N，N，N'，N'，-四缩水甘油基_4,4'_二氨基二苯基甲 烧等。
[0380]使用用于提高液晶取向膜与基板的密合性的化合物时，其用量相对于聚合物组合 物中含有的树脂成分100质量份优选为0.1质量份~30质量份、更优选为1质量份~20质量 份。用量不足〇. 1质量份时，无法期待提高密合性的效果，多于30质量份时，液晶的取向性有 时变差。
[0381 ]作为添加剂，也可以使用光敏剂。优选为无色增敏剂和三重态增敏剂。
[0382]作为光敏剂，有芳香族硝基化合物、香豆素（7-二乙氨基-4-甲基香豆素、7-羟基-4-甲基香豆素）、香豆素酮、羰基双香豆素、芳香族2-羟基酮、以及被氨基取代的芳香族2-羟 基酮(2-羟基二苯甲酮、单对(二甲氨基)-2-羟基二苯甲酮或二对(二甲氨基)-2-羟基二苯 甲酮）、苯乙酮、蒽醌、氧杂蒽酮、硫代氧杂蒽酮、苯并蒽酮、噻唑啉(2-苯甲酰基亚甲基-3-甲 基-β-萘并噻唑啉、2-(β-萘酰基亚甲基)-3-甲基苯并噻唑啉、2-(α-萘酰基亚甲基)-3-甲基 苯并噻唑啉、2-(4-联苯酰基亚甲基)-3-甲基苯并噻唑啉、2-(β-萘酰基亚甲基)-3-甲基-β-萘并噻唑啉、2-( 4-联苯酰基亚甲基)-3-甲基-β-萘并噻唑啉、2-(对氟苯甲酰基亚甲基)-3-甲基-β-萘并噻唑啉）、噁唑啉（2-苯甲酰基亚甲基-3-甲基-β-萘并噁唑啉、2-(β-萘酰基亚 甲基)-3_甲基苯并噁唑啉、2-(α-萘酰基亚甲基)-3_甲基苯并噁唑啉、2-(4-联苯酰基亚甲 基)-3-甲基苯并噁唑啉、2-(β-萘酰基亚甲基)-3-甲基-β-萘并噁唑啉、2-(4-联苯酰基亚甲 基)-3-甲基-β-萘并噁唑啉、2-(对氟苯甲酰基亚甲基)-3-甲基-β-萘并噁唑啉）、苯并噻唑、 硝基苯胺(间硝基苯胺或对硝基苯胺、2，4,6_三硝基苯胺)或硝基苊(5-硝基苊）、（2-[(间羟 基对甲氧基）苯乙烯基]苯并噻唑、苯偶姻烷基醚、Ν-烷基化酞酮、苯乙酮缩酮（2,2_二甲氧 基苯基乙酮）、萘、蒽（2-萘甲醇、2-萘羧酸、9-蒽甲醇和9-蒽羧酸）、苯并吡喃、偶氮中氮茚、 梅洛香豆素等。
[0383]优选为芳香族2-羟基酮(二苯甲酮）、香豆素、香豆素酮、羰基双香豆素、苯乙酮、蒽 醌、氧杂蒽酮、硫代氧杂蒽酮和苯乙酮缩酮。
[0384]聚合物组合物中除了上述物质之外，只要在不损害本发明效果的范围内，出于改 变液晶取向膜的介电常数、导电性等电特性的目的，可以添加介电体、导电物质，进而出于 在制成液晶取向膜时提高膜的硬度、致密度的目的，可以添加交联性化合物。
[0385] 将上述聚合物组合物涂布在具有横向电场驱动用导电膜的基板上的方法没有特 另IJ限定。
[0386] 关于涂布方法，工业上通常是利用丝网印刷、胶版印刷、柔性印刷或喷墨法等进行 的方法。作为其它涂布方法，有浸渍法、辊涂法、狭缝涂布法、旋涂法(旋转涂布法)或喷涂法 等，可根据目的使用它们。
[0387] 在具有横向电场驱动用导电膜的基板上涂布聚合物组合物后，利用热板、热循环 型烘箱或IR(红外线）型烘箱等加热手段以50~200°C、优选以50~150°C使溶剂蒸发，从而 能够得到涂膜。此时的干燥温度优选低于侧链型高分子的液晶相表现温度。
[0388] 涂膜的厚度过厚时，在液晶表示元件的耗电方面是不利的，涂膜的厚度过薄时，液 晶表示元件的可靠性有时会降低，因此优选为5nm~300nm、更优选为1 Onm~150nm。
[0389]另外，在[I]工序之后且下一 [II]工序之前，还可以设置将形成有涂膜的基板冷却 至室温的工序。
[0390]〈工序[II]〉
[0391 ]在工序[II]中，对工序[I ]中得到的涂膜照射偏振紫外线。对涂膜的膜面照射偏振 紫外线时，从特定方向隔着偏振板对基板照射偏振的紫外线。作为要使用的紫外线，可以使 用波长为l〇〇nm~400nm范围的紫外线。优选的是，根据要使用的涂膜种类，借助滤波器等选 择最佳的波长。并且，例如可以选择使用波长为290nm~400nm范围的紫外线，以便能够选择 性地诱发光交联反应。作为紫外线，可以使用例如由高压汞灯发出的光。
[0392] 针对偏振紫外线的照射量，取决于要使用的涂膜。关于照射量，优选设为实现Δ A 的最大值（以下也称为AAmax)的偏振紫外线的量的1 %~70%的范围内、更优选设为1 %~ 50 %的范围内，所述△ A是该涂膜的、平行于偏振紫外线的偏振方向的方向的紫外线吸光度 与垂直于偏振紫外线的偏振方向的方向的紫外线吸光度之差。
[0393] 〈工序[III]〉
[0394] 工序[III ]中，加热在工序[II ]中照射了偏振紫外线的涂膜。通过加热而能够对涂 膜赋予取向控制能力。
[0395] 加热可以使用热板、热循环型烘箱或IR(红外线）型烘箱等加热手段。加热温度可 以考虑使所用涂膜表现出液晶性的温度来确定。
[0396] 加热温度优选为侧链型高分子会表现出液晶性的温度（以下称为液晶表现温度） 的温度范围内。可预测到:在涂膜之类的薄膜表面的情况下，涂膜表面的液晶表现温度低于 整体观察可表现出液晶性的感光性侧链型高分子时的液晶表现温度。因此，加热温度更优 选为涂膜表面的液晶表现温度的温度范围内。即，照射偏振紫外线后的加热温度的温度范 围优选是将比所用侧链型高分子的液晶表现温度的温度范围的下限低l〇°C的温度作为下 限、且将比该液晶温度范围的上限低l〇°C的温度作为上限的范围的温度。加热温度低于上 述温度范围时，存在涂膜中的由热带来的各向异性增幅效果不充分的倾向，另外，加热温度 与上述温度范围相比过高时，存在涂膜状态接近于各向同性的液体状态(各向同性相)的倾 向，此时，有时难以因自组装化而向一个方向再取向。
[0397] 需要说明的是，液晶表现温度是指:侧链型高分子或涂膜表面从固体相向液晶相 发生相转变的玻璃化转变温度(Tg)以上、且从液晶相向均质相(各向同性相)发生相转变的 均质相转变温度(T i so)以下的温度。
[0398]出于与工序[I]中记载的理由相同的理由，加热后形成的涂膜的厚度可以优选为 5nm ~300nm、更优选为 50nm ~150nm。
[0399]通过具有如上工序，在本发明的制造方法中，能够实现对涂膜高效地导入各向异 性。并且，能够高效地制造带液晶取向膜的基板。
[0400]〈工序[IV]>
[0401 ] [ IV]工序是将在[III ]中得到的横向电场驱动用导电膜上具有液晶取向膜的基板 (第1基板)与同样地在上述[Γ]~[ΙΙΓ]中得到的不具有导电膜的带液晶取向膜的基板 (第2基板)隔着液晶以两者的液晶取向膜相对的方式进行对向配置，利用公知的方法制作 液晶单元，从而制作横向电场驱动型液晶表示元件的工序。需要说明的是，工序[Ι?~ [ΙΙΓ]中，除了在工序[I]中使用不具有横向电场驱动用导电膜的基板来代替具有该横向 电场驱动用导电膜的基板之外，可与工序[I]~[III]同样地进行。工序[I]~[III]与工序 [Γ]~[ΙΙΓ]的不同点仅在于有无上述导电膜，因此省略工序[Γ]~[ΙΙΓ]的说明。
[0402] 若列举出液晶单元或液晶表示元件的一个制作例，则可例示出如下方法:准备上 述的第1基板和第2基板，在一个基板的液晶取向膜上散布间隔物，以液晶取向膜面成为内 侧的方式粘贴于另一个基板，减压注入液晶并密封的方法;或者，向散布有间隔物的液晶取 向膜面滴加液晶后，粘贴基板并进行密封的方法等。此时，一侧的基板优选使用具有横向电 场驱动用梳齿状结构的电极的基板。此时的间隔物直径优选为Ιμπι~30μπι、更优选为2μπι~ 10Μ1。该间隔物直径决定用于夹持液晶层的一对基板的间距、即液晶层的厚度。
[0403] 本发明的带涂膜的基板的制造方法中，将聚合物组合物涂布在基板上而形成涂膜 后，照射偏振紫外线。接着，通过进行加热而实现向侧链型高分子膜中高效地导入各向异 性，从而制造具备液晶取向控制能力的带液晶取向膜的基板。
[0404] 本发明所用的涂膜中，利用侧链的光反应和基于液晶性的自组装化所诱发的分子 再取向的原理，实现对涂膜高效地导入各向异性。本发明的制造方法中，侧链型高分子具有 光交联性基团作为光反应性基团的结构时，使用侧链型高分子在基板上形成涂膜后，照射 偏振紫外线，接着进行加热后，制作液晶表示元件。
[0405] 以下，将使用了具有光交联性基团作为光反应性基团的结构的侧链型高分子的实 施方式称为第1方式，将使用了具有光弗利斯重排基团或进行异构化的基团作为光反应性 基团的结构的侧链型高分子的实施方式称为第2方式，并进行说明。
[0406] 图1是示意性地说明在本发明的第1方式中使用了具有光交联性基团作为光反应 性基团的结构的侧链型高分子而成的、液晶取向膜的制造方法中的各向异性导入处理的一 例的图。图1的(a)是示意性地说明偏振光照射前的侧链型高分子膜的状态的图，图1的(b) 是示意性地说明偏振光照射后的侧链型高分子膜的状态的图，图1的（c)是示意性地说明加 热后的侧链型高分子膜的状态的图，尤其是所导入的各向异性小时，即在本发明的第1方式 中，[II]工序的紫外线照射量在使Δ A到达最大的紫外线照射量的1%~15%的范围内时的 示意图。
[0407] 图2是示意性地说明在本发明的第1方式中使用了具有光交联性基团作为光反应 性基团的结构的侧链型高分子而成的、液晶取向膜的制造方法中的各向异性导入处理的一 例的图。图2的(a)是示意性地说明偏振光照射前的侧链型高分子膜的状态的图，图2的(