专利名称：双面涂布装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种双面涂布装置，使用于在金属箔的双面同时涂布电解液的工序
坐寸o
背景技术：
例如，在制造锂(lithium) 二次电池时，进行使用涂布头(head)对铝(aluminum)箔等基材按单面分别涂布电极液等涂液的依次涂布。在依次涂布中，传送基材时，用支撑辊(back-up roll)保持与进行涂布的面相反侧的面，暂时仅进行单面的涂布，干燥后进行相反侧的面的涂布。另一方面，还公知有同时对双面涂布而实现产量(throughput)的提高的双面涂布装置。例如，向水平方向送出基材，在基材双面上涂布涂液。若辊接触到涂布有涂液的部位，则涂液附着到辊上，因此不使用辊而直接传入干燥炉。此时，由于没有用辊支撑基材，因此基材的位置精度恶化，并且在宽度方向的剖面(profile)上产生跳动。
发明内容
本发明的实施方式提供一种双面涂布装置，抑制基材的左右方向的跳动，能够进行良好的双面同时涂布。实施方式所涉及的一种双面涂布装置，在具有涂布区域和非涂布区域且形成为片状的基材的双面的上述涂布区域涂布涂液。该双面涂布装置具有传送机构、第I涂布头、第2涂布头及涂布辊(roll)。上述传送机构沿送出方向传送上述基材。上述第I涂布头配置于上述基材的一个面侧，使上述涂液在与上述送出方向交差的方向上交替地形成涂布区域和非涂布区域地涂布上述涂液。上述第2涂布头配置于上述基材的另一个面侧，使上述涂液在与上述送出方向交差的方向上交替地形成涂布区域和非涂布区域地涂布上述涂液。上述涂布辊具有多个第I辊(roller)、第2辊及旋转机构。上述多个第I辊配置于上述基材的一个面侧且与上述第2涂布头隔着上述基材相对置的位置附近，设置于沿着轴向的两端部。上述第2辊设置于上述第I辊之间。上述旋转机构使上述第I辊及上述第2辊旋转，并且使上述第I辊的圆周速度大于上述第2棍的圆周速度。根据上述结构，能够抑制基材的左右方向的跳动，进行良好的双面同时涂布。
图IA是示意地表示第I实施方式所涉及的双面涂布装置的说明图。
图IB是表示作为双面涂布装置的涂布对象的基材的宽度方向的说明图。图2是示意地表示组装于该双面涂布装置的涂布辊的立体图。图3是示意地表示组装于该双面涂布装置的其他涂布辊的立体图。图4是示意地表示组装于该双面涂布装置的其他涂布辊的立体图。图5是示意地表示组装于该双面涂布装置的其他涂布辊的立体图。图6是示意地表示第2实施方式所涉及的双面涂布装置的说明图。
图7是示意地表示第3实施方式所涉及的双面涂布装置的说明图。图8是示意地表示第4实施方式所涉及的双面涂布装置的说明图。
具体实施例方式图IA是示意地表示第I实施方式所涉及的双面涂布装置10的说明图，图IB是表示作为双面涂布装置的涂布对象的基材的宽度方向的说明图，图2是示意地表示组装于双面涂布装置10的涂布辊50的立体图。在图IA中，S表示铝箔等片状的基材，D表示电解液等涂液。在图IB中，基材S上设置有涂布涂液D的涂布区域Sa和不涂布涂液D的非涂布区域Sb，涂布区域Sa和非涂布区域Sb交替地设定在基材S的宽度方向W(与送出方向F正交的方向)上。双面涂布装置10包括向预定的送出方向F送出基材S的送出机构(传送机构)20和在该送出机构20的下游侧依次设置的第I涂布部30、第2涂布部40及干燥装置100。第I涂布部30包括在基材S的表面SI —侧所设置的第I涂布头31 ;和相对于该第I涂布头31隔着基材S在背面S2 —侧所设置的支撑辊32。支撑辊32形成为圆筒形状。第I涂布头31及后述的第2涂布头41均是在单面涂布中所使用的普通的涂布头。第2涂布部40包括在基材S的背面S2 —侧所设置的第2涂布头41 ;和相对于该第2涂布头41隔着基材S在表面SI 一侧所设置的涂布辊50。涂布辊50具有圆柱状的轴体(旋转机构)51，在其轴向(基材S的宽度方向)两端侧一体地设置有形成为大径的圆柱状的第I辊52，在中间部分一体地设置有形成为小径的圆柱状的第2棍53。第I棍52及第2棍53形成在同一旋转轴上，因此相对于基材S,第2辊53比第I辊52凹陷，形成为内插涂布辊50的与基材S的接触面的杠铃状。第I辊52及第2辊53与不涂布涂液D的非涂布区域Sb对应地设置。轴体51使第I辊52和第2辊53以相同的转速旋转。即，第I辊52的圆周速度大于第2辊53的圆周速度。在这样构成的双面涂布装置10中，如下所述进行双面涂布。即，由送出机构20向预定的送出方向F送出未涂布的基材S。接着，在第I涂布部30，由第I涂布头31在基材S的表面SI 一侧涂布涂液D。此时，通过支撑辊32，基材S在宽度方向上被均匀地按压，涂液D被均匀(在宽度方向的剖面上不产生跳动)地涂布。接着，在第2涂布部40，由第2涂布头41在基材S的背面S2 —侧涂布涂液D。此时，通过涂布辊50，基材S被压向第2涂布头41 一侧。由此，第2涂布头41与基材S的距离被高精度地控制。涂布辊50具有第I辊52及第2辊53，上述辊通过轴体51 —体地旋转。S卩，第I棍52的圆周速度大于第2棍53的圆周速度。因此，基材S从圆周速度小的第2辊53侧向圆周速度大的第I辊52侧，即从宽度方向中央侧到宽度方向两端侧受到拉伸力。因此，即使在辊没有与基材S的表面SI的宽度方向整体抵接的情况下，基材S上也不会产生褶皱，涂液D被均匀(在宽度方向的剖面上不产生跳动)地涂布。这样，在表面SI及背面S2上涂布了涂液D的基材S向干燥装置100内传送，进行干燥处理，涂布工序结束。如上所述，在本实施方 式所涉及的双面涂布装置10中，第2涂布头41与基材S的距离被高精度地控制，并且向基材S的宽度方向两端侧受到拉伸力。因此，在基材S上不会产生褶皱，涂液D在表面SI及背面S2上均被均匀(在宽度方向的剖面上不产生跳动)地涂布。图3是示意地表示组装于双面涂布装置10的涂布辊60的立体图。涂布辊60具有等速万向节(joint)(旋转机构)61，在其轴向(基材S的宽度方向)两端侧连接有形成为大径的圆柱状的第I辊62，在中间部分连接有形成为小径的圆柱状的第2辊63。第I辊62的旋转轴和第2辊63的旋转轴偏心，基材S侧的外周面位于同一平面上。等速万向节61使第I辊62和第2辊63以同一转速旋转。即，第I辊62的圆周速度大于第2棍63的圆周速度。在使用这样构成的涂布辊60的情况下，也与上述的涂布辊50同样地进行涂布。即，在第2涂布部40，由第2涂布头41在基材S的背面S2 —侧涂布涂液D。S卩，通过涂布辊60，基材S被压向第2涂布头41 一侧。涂布辊60具有第I辊62及第2辊63，上述辊通过等速万向节61 —体地旋转。S卩，第I辊62的圆周速度大于第2辊63的圆周速度。因此，基材S从圆周速度小的第2辊63侧向圆周速度大的第I辊62侧，即从宽度方向中央侧到宽度方向两端侧受到拉伸力。因此，即使在辊没有与基材S的表面SI的宽度方向整体抵接的情况下，第2涂布头41与基材S的距离也被高精度地控制，并且在基材S上不会产生褶皱，涂液D被均匀(在宽度方向的剖面上不产生跳动)地涂布。如上所述，在使用涂布辊60的情况下，也能够获得与使用涂布辊50的情况相同的效果。图4是示意地表示组装于双面涂布装置10的涂布辊70的立体图。涂布辊70具有齿轮机构(旋转机构)71，在其轴向(基材S的宽度方向)两端侧连接有形成为圆柱状的第I辊72，在中间部分连接有形成为与第I辊72相同直径的圆柱状的第2棍73。第I棍72及第2棍73的基材S —侧的外周面位于同一平面上。齿轮机构71使第I辊72以大于第2辊73的转速旋转。S卩，第I辊72的圆周速度大于第2辊73的圆周速度。在使用这样构成的涂布辊70的情况下，也与上述的涂布辊50同样地进行涂布。即，在第2涂布部40，由第2涂布头41在基材S的背面S2 —侧涂布涂液D。S卩，通过涂布辊70，基材S被压向第2涂布头41 一侧。涂布辊70具有第I辊72及第2辊73，上述辊通过齿轮机构71具有转速差地旋转。即，第I辊72的圆周速度大于第2辊73的圆周速度。因此，基材S从圆周速度小的第2辊73侧向圆周速度大的第I辊72侧，即从宽度方向中央侧到宽度方向两端侧受到拉伸力。因此，即使在辊没有与基材S的表面SI的宽度方向整体抵接的情况下，第2涂布头41与基材S的距离也被高精度地控制，并且在基材S上不会产生褶皱，涂液D被均匀(在宽度方向的剖面上不产生跳动)地涂布。如上所述，在使用涂布辊70的情况下，也能够获得与使用涂布辊50的情况相同的效果。
图5是示意地表示组装于双面涂布装置10的涂布辊80的立体图。涂布辊80具有旋转机构81。旋转机构81具有轴体81a及等速万向节81b。旋转机构81在其轴向(基材S的宽度方向)两端侧设置有一对形成为大径的圆锥台状的第I辊82，在中间部分设置有一对形成为小径的圆锥台状的第2辊83。各第I辊82及第2辊83通过轴体81a结合。各第2棍83通过等速万向节81b结合。第I辊82及第2辊83与不涂布涂液D的非涂布区域Sb对应地设置。轴体81a及等速万向节81b使所有的第I辊82和第2辊83以同一转速旋转。即，第I辊82的圆周速度大于第2辊83的圆周速度。S卩，第I辊72的圆周速度大于第2辊73的圆周速度。在使用这样构成的涂布辊80的情况下，也与上述的涂布辊50同样地进行涂布。即，在第2涂布部40，由第2涂布头41在基材S的背面S2 —侧涂布涂液D。S卩，通过涂布辊80，基材S被压向第2涂布头41 一侧。涂布辊80具有第I辊82及第2辊83，上述辊通过旋转机构81以同一转速旋转。即，第I辊82的圆周速度大于第2棍83的圆周速度。因此，基材S从圆周速度小的第2辊83侧向圆周速度大的第I辊82侧，即从宽度方向中央侧到宽度方向两端侧受到拉伸力。因此，即使在混没有与基材S的表面SI的宽度方向整体抵接的情况下，第2涂布头41与基材S的距离也被高精度地控制，并且在基材S上不会产生褶皱，涂液D被均匀(在宽度方向的剖面上不产生跳动)地涂布。如上所述，在使用涂布辊80的情况下，也能够获得与使用涂布辊50的情况相同的效果。图6是示意地表示第2实施方式所涉及的双面涂布装置IOA的说明图。另外，在图6中对与图I相同的功能部分标以同一标号，省略其详细说明。在双面涂布装置IOA中，上述涂布辊60、70、80没有配置于与第2涂布头41相对的位置，而是沿着基材S的行进方向配置于前后位置。即使这样配置，涂布辊60、70、80也能够发挥支撑(back-up)基材S的功能,并且能够对基材S从宽度方向中央侧到宽度方向两端侧产生拉伸力。因此，即使在辊没有与基材S的表面SI的宽度方向整体抵接的情况下，第2涂布头41与基材S的距离也被高精度地控制，并且在基材S上不会产生褶皱，涂液D被均匀(在宽度方向的剖面上不产生跳动)地涂布。图7是示意地表示第3实施方式所涉及的双面涂布装置IOB的说明图。另外，在图7中对与图I相同的功能部分标以同一标号，省略其详细说明。在双面涂布装置IOB中，上述涂布辊60、70、80没有配置于与第2涂布头41相对的位置，而是沿着基材S的行进方向配置于后方位置。即使这样配置，涂布辊60、70、80也能够发挥支撑基材S的功能，并且能够对基材S从宽度方向中央侧到宽度方向两端侧产生拉伸力。因此，即使在辊没有与基材S的表面SI的宽度方向整体抵接的情况下，第2涂布头41与基材S的距离也被高精度地控制，并且在基材S上不会产生褶皱，涂液D被均匀(在宽度方向的剖面上不产生跳动)地涂布。图8是示意地表示第4实施方式所涉及的双面涂布装置IOC的说明图。另外，在图8中对与图I相同的功能部分标以同一标号，省略其详细说明。在双面涂布装置IOC中，上述涂布辊60、70、80没有配置于与第2涂布头41相对的位置，而是沿着基材S的行进方向配置于前方位置。即使这样配置，涂布辊60、70、80也能够发挥支撑基材S的功能，并且能够对基材S从宽度方向中央侧到宽度方向两端侧产生拉伸力。因此，即使在辊没有与基材S的表面SI的宽度方向整体抵接的情况下，第2涂布头41与基材S的距离也被高精度地控制，并且在基材S上不会产生褶皱，涂液D被均匀(在宽度方向的剖面上不产生跳动)地涂布。以上，例示了本发明的几个实施方式，但上述实施方式仅是作为例子来提示的，不限定发明的范围。上述新颖的实施方式能够以其他各种方式来实施，在不脱 离发明的要旨的范围内，能够进行各种省略、置换、变更等。上述实施方式及其变形例包含于发明的范围及要旨，并且包含于权利要求书中所记载的发明及其相同的范围。此外，上述各实施方式能够彼此组合来实施。
权利要求
1.ー种双面涂布装置，在具有涂布区域和非涂布区域且形成为片状的基材的双面的上述涂布区域上涂布涂液，上述双面涂布装置包括 传送机构，沿送出方向传送上述基材； 第I涂布头，配置于上述基材的ー个面侧，使上述涂液在与上述送出方向交差的方向上交替地形成涂布区域和非涂布区域地涂布上述涂液； 第2涂布头，配置于上述基材的另一个面侧，使上述涂液在与上述送出方向交差的方向上交替地形成涂布区域和非涂布区域地涂布上述涂液；以及 涂布辊，配置于上述基材的ー个面侧且与上述第2涂布头隔着上述基材相对置的位置附近，上述涂布辊具有第I辊，设置于沿着轴向的两端部；第2辊，设置于上述第I辊之间；以及旋转机构，使上述第I辊及第2辊旋转，并且使上述第I辊的圆周速度大于上述第2辊的圆周速度。
2.根据权利要求I所述的双面涂布装置，其中， 在上述涂布辊中，上述第I辊形成为大径的圆柱，上述第2辊形成为小径的圆柱，上述旋转机构是将上述第I辊和上述第2辊一体且同轴连接的轴体。
3.根据权利要求I所述的双面涂布装置，其中， 在上述涂布辊中，上述第I辊形成为大径，上述第2辊形成为小径，上述旋转机构使上述第I辊和上述第2辊以同一转速旋转。
4.根据权利要求I所述的双面涂布装置，其中， 在上述涂布辊中，上述第I辊和上述第2辊形成为相同直径，上述旋转机构使上述第I辊的转速大于上述第2辊的转速。
5.根据权利要求I所述的双面涂布装置，其中， 在上述涂布辊中，上述第I辊形成为大径的圆锥台，上述第2辊形成为小径的圆锥台，上述旋转机构使上述第I辊和上述第2辊以同一转速旋转。
全文摘要
一种双面涂布装置，在具有涂布区域和非涂布区域且形成为片状的基材的双面的涂布区域涂布涂液。双面涂布装置具有传送机构、第1涂布头、第2涂布头及涂布辊。传送机构沿送出方向传送基材。第1涂布头配置于基材的一个面侧，在与送出方向交差的方向上交替地形成涂布区域和非涂布区域而涂布涂液。第2涂布头配置于基材的另一个面侧，在与送出方向交差的方向上交替地形成涂布区域和非涂布区域而涂布涂液。涂布辊具有多个第1辊、第2辊及旋转机构。多个第1辊配置于基材的一个面侧且与第2涂布头隔着基材相对置的位置附近，设置于沿着轴向的两端部。第2辊设置于第1辊之间。旋转机构使第1辊及第2辊旋转，使第1辊的圆周速度大于第2辊的圆周速度。
文档编号B05C9/04GK102632017SQ20121003248
公开日2012年8月15日 申请日期2012年2月14日 优先权日2011年2月14日
发明者中畑政臣, 森岛秀明, 植松育生 申请人:株式会社东芝