一种蚀刻膏及其制备方法与流程

文档序号:11539938阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明公开了一种蚀刻膏,包括以下质量百分含量的成分:可溶性铜盐3‑6%、铵盐3‑5%、水性树脂30‑40%。本发明蚀刻膏具有蚀刻铜层线路清晰、不影响底层ITO电阻、清洗简单、蚀刻速度快等特点,可广泛应用于电子行业,特别是在触控面板用透明导电膜或玻璃、半导体照明、太阳能光电面板等领域。同时,本发明还公开一种所述蚀刻膏的制备方法。

技术研发人员:王伟;周志宏;周昭寅
受保护的技术使用者:广州市尤特新材料有限公司
技术研发日:2017.06.02
技术公布日:2017.08.15
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