一种用于相变材料GeSbTe的化学机械抛光液的制作方法

技术总结
本发明涉及一种用于相变材料GeSbTe的化学机械抛光液，包含氨型纳米二氧化硅磨料、氧化剂、水溶性聚合物表面保护剂、氨基酸类有机添加剂和水性介质。本发明所述化学机械抛光液适用于相变材料GeSbTe的化学机械抛光工艺，抛光速率高，达到200nm/min，GeSbTe/SiO2抛光选择比高，达到4000:1，且无抛光腐蚀缺陷。

技术研发人员：王良咏;徐志国;潘忠才;李燕军
受保护的技术使用者：浙江晶圣美纳米科技有限公司
技术研发日：2018.01.15
技术公布日：2018.06.08