1.一种基板移送装置，所述基板移送装置对处理药液涂敷工艺的基板进行移送，其特征在于，包括：
基板移送部，其包括独立地被分割的多个悬浮部，并且将基板以悬浮的状态进行移送；
控制部，其个别地对通过所述多个悬浮板而产生的悬浮力进行控制。
2.根据权利要求1所述的基板移送装置，其特征在于，
所述基板移送部包括多个振动板和多个振动器，所述多个振动板以独立的形式被分割，所述多个振动器分别以独立的形式使得所述多个振动板振动，
利用通过超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮。
3.根据权利要求2所述的基板移送装置，其特征在于，
所述控制部选择性地以相互不同的形式对通过所述多个振动板而产生的悬浮力进行控制。
4.根据权利要求3所述的基板移送装置，其特征在于，
所述多个振动板相互协作地使得所述基板悬浮，
所述控制部对所述多个振动板中配置于产生所述基板的偏转的部位的至少任意一个悬浮力以比其余的振动板的悬浮力相对大的形式进行控制。
5.根据权利要求4所述的基板移送装置，其特征在于，
所述控制部对所述多个振动板中配置于所述基板的边缘的至少任意一个悬浮力以比其余的振动板的悬浮力相对大的形式进行控制。
6.根据权利要求2所述的基板移送装置，其特征在于，
所述多个振动板相互形成为相同的形态及尺寸。
7.根据权利要求2所述的基板移送装置，其特征在于，
所述多个振动板中至少一个形成为不同的形态及尺寸。
8.根据权利要求7所述的基板移送装置，其特征在于，
所述多个振动板中配置于所述基板的边缘的至少任意一个形成为比其余的振动板小的尺寸。
9.根据权利要求2所述的基板移送装置，其特征在于，所述基板移送部包括：
装载移送部，其包括独立地被分割的多个第一振动板，并且所述基板装载于所述装载移送部；
处理移送部，其包括以独立地被分割的形式配置的多个第二振动板，并且药液涂敷于所述基板的表面；
卸载移送部，其包括独立地被分割的多个第三振动板，并且涂敷有所述药液的所述基板卸载于所述卸载移送部。
10.根据权利要求9所述的基板移送装置，其特征在于，
所述多个第一振动板和所述多个第三振动板中至少任意一个沿着所述基板的移送路径以一维或二维的形式被隔开地配置。
11.根据权利要求9所述的基板移送装置，其特征在于，
所述多个第二振动板沿着所述基板被移送的方向以间隔一定间距的形式配置。
12.根据权利要求11所述的基板移送装置，其特征在于，
在所述处理移送部中所述药液通过所述第二振动板间的被隔开的间隔区域被涂敷于所述基板的表面。
13.根据权利要求12所述的基板移送装置，其特征在于，
还包括吸入压形成部，所述吸入压形成部将吸入压施加于所述间隔区域，
可通过形成于所述间隔区域的所述吸入压来支撑所述基板。
14.根据权利要求2至13中任意一项所述的基板移送装置，其特征在于，
所述振动板相对于水平面水平地配置，
所述基板以平行于所述振动板的形式悬浮。
15.根据权利要求2至13中任意一项所述的基板移送装置，其特征在于，
所述振动板以沿着所述基板的行进方向的一个侧边为中心以相对于水平面倾斜的形式配置，
所述基板以平行于所述振动板的形式悬浮。
16.根据权利要求15所述的基板移送装置，其特征在于，
包括移送部件，所述移送部件对相对于水平面倾斜地倾转的所述基板的一个侧边进行支撑，并且使得所述基板移送，
所述基板的荷重作用于所述移送部件，并且因为由于所述基板的荷重而产生的摩擦力，所以所述基板通过所述移送部件来得到移送。
17.一种基板处理系统，所述基板处理系统对针对被处理基板的药液涂敷工艺进行处理，其特征在于，包括：
基板移送部，其包括独立地被分割的多个悬浮部，并且将基板以悬浮的状态进行移送；
控制部，其个别地对通过所述多个悬浮板而产生的悬浮力进行控制；
药液涂敷单元，其配置于所述悬浮部间的以一定间距隔开的间隔区域，并且将药液涂敷于所述基板的表面。
18.根据权利要求17所述的基板处理系统，其特征在于，
所述基板移送部包括多个振动板和多个振动器，所述多个振动板以独立的形式被分割，所述多个振动器分别以独立的形式使得所述多个振动板振动，
利用通过超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮。
19.根据权利要求18所述的基板处理系统，其特征在于，
所述控制部选择性地以相互不同的形式对通过所述多个振动板而产生的悬浮力进行控制。
20.根据权利要求19所述的基板处理系统，其特征在于，
所述多个振动板相互协作地使得所述基板悬浮，
所述控制部对所述多个振动板中配置于产生所述基板的偏转的部位的至少任意一个悬浮力以比其余的振动板的悬浮力相对大的形式进行控制。
21.根据权利要求18所述的基板处理系统，其特征在于，所述基板移送部包括：
装载移送部，其包括独立地被分割的多个第一振动板，并且所述基板装载于所述装载移送部；
处理移送部，其包括以独立地被分割的形式配置的多个第二振动板，并且药液涂敷于所述基板的表面；
卸载移送部，其包括独立地被分割的多个第三振动板，并且涂敷有所述药液的所述基板卸载于所述卸载移送部。
22.根据权利要求21所述的基板处理系统，其特征在于，
所述多个第一振动板和所述多个第三振动板中至少任意一个沿着所述基板的移送路径以一维或二维的形式被隔开配置。
23.根据权利要求21所述的基板处理系统，其特征在于，
所述多个第二振动板沿着所述基板被移送的方向以间隔一定间距的形式配置。
24.根据权利要求23所述的基板处理系统，其特征在于，
所述药液涂敷单元的喷嘴边缘配置于所述第二振动板间的被隔开的间隔区域的正中间位置。
25.根据权利要求23所述的基板处理系统，其特征在于，
还包括吸入压形成部，所述吸入压形成部将吸入压施加于所述第二振动板间的被隔开的间隔区域，
可通过形成于所述间隔区域的所述吸入压来支撑所述基板。
26.一种基板处理装置，所述基板处理装置对针对被处理基板的药液涂敷工艺进行处理，其特征在于，包括：
振动板，其配置于基板的移送路径；
第一振动区域，其形成于所述振动板上，并通过因超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮；
第二振动区域，其以与所述第一振动区域邻接的形式形成于所述振动板上，并且通过因超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮；
药液涂敷单元，其配置于第一位置和第二位置的中间位置区域，并且将药液涂敷于所述基板的表面，所述第一位置在所述第一振动区域中以最大振幅进行振动，所述第二位置在所述第二振动区域中以最大振幅进行振动。
27.根据权利要求26所述的基板处理装置，其特征在于，
所述中间位置区域以所述第一位置和所述第二位置的正中间为中心，并且具有小于所述第一位置和所述第二位置的间隔长度的80％的长度。
28.根据权利要求27所述的基板处理装置，其特征在于，
所述药液涂敷单元配置于所述第一位置和所述第二位置的正中间位置。
29.根据权利要求26所述的基板处理装置，其特征在于，
所述药液涂敷单元的喷嘴边缘配置于所述中间位置区域，并且在所述中间位置区域将药液涂敷于所述基板的表面。
30.根据权利要求26所述的基板处理装置，其特征在于，
所述第一振动区域沿着与所述基板被移送的方向呈垂直的方向连续地形成，
所述第二振动区域沿着与所述基板被移送的方向呈垂直的方向连续地形成。
31.根据权利要求26至30中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，还包括：
吸入压形成部，其在所述基板沿着所述振动板被移送期间，将吸入压施加于所述基板。
32.根据权利要求31所述的基板处理装置，其特征在于，
所述吸入压形成部以与所述药液涂敷单元邻近的形式形成于所述振动板，并且所述基板通过所述吸入压相对于所述振动板得到支撑。
33.根据权利要求32所述的基板处理装置，其特征在于，
所述吸入压形成部形成为槽或孔形态。
34.根据权利要求32所述的基板处理装置，其特征在于，
所述吸入压形成部设置于沿着所述基板被移送的方向的所述药液涂敷单元的前方及后方中至少任意一侧。
35.根据权利要求32所述的基板处理装置，其特征在于，
所述吸入压形成部设置为与所述药液涂敷单元形成在相同的线上。
36.根据权利要求26所述的基板处理装置，其特征在于，
垂直于所述基板被移送的方向的所述振动板的第一宽度以比垂直于所述基板被移送的方向的所述基板的第二宽度大或相同的形式形成。
37.根据权利要求26至30中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，
所述振动板相对于水平面水平地配置，
所述基板以平行于所述振动板的形式悬浮。
38.根据权利要求26至30中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，
所述振动板以沿着所述基板的行进方向的一个侧边为中心以相对于水平面倾斜的形式配置，
所述基板以平行于所述振动板的形式悬浮。
39.根据权利要求28所述的基板处理装置，其特征在于，
包括移送部件，所述移送部件对相对于水平面倾斜地倾转的所述基板的一个侧边进行支撑，并且使得所述基板移送，
所述基板的荷重作用于所述移送部件，并且因为由于所述基板的荷重而产生的摩擦力，所以所述基板通过所述移送部件来得到移送。
40.根据权利要求26所述的基板处理装置，其特征在于，
沿着与所述基板被移送的方向呈垂直的方向间隔地设置有多个所述振动板，
所述多个振动板相互协助地在所述药液涂敷单元的下部形成处理区域，所述药液涂敷于所述处理区域。
41.根据权利要求26所述的基板处理装置，其特征在于，
沿着与所述基板被移送的方向间隔地设置有多个所述振动板，
所述多个振动板相互协助地在所述药液涂敷单元的下部形成处理区域，所述药液涂敷于所述处理区域。
42.一种基板处理装置，所述基板处理装置对针对被处理基板的药液涂敷工艺进行处理，其特征在于，包括：
第一振动板，其配置于基板的移送路径；
第一-一振动区域，其形成于所述第一振动板上，并通过因超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮；
第一-二振动区域，其以与所述第一振动区域相邻接的形式形成于所述振动板上，并且通过因超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮；
第二振动板，其配置为沿着与所述基板被移送的方向呈垂直的方向距离所述第一振动板一定的间距；
第二-一振动区域，其以与所述第一-一振动区域形成于相同的线上的形式形成于所述第二振动板上，并且通过因超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮；
第二-二振动区域，其以与所述第一-二振动区域形成于相同的线上，并且以与所述第二-一振动区域邻接的形式形成于所述振动板上，并且通过因超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮；
药液涂敷单元，其配置于第一位置和第二位置的中间位置区域，并且将药液涂敷于所述基板的表面，所述第一位置在所述第一-一振动区域以及所述第二-一振动区域中分别以最大振幅进行振动，所述第二位置在所述第一-二振动区域以及所述第二-二振动区域中分别以最大振幅进行振动。
43.根据权利要求42所述的基板处理装置，其特征在于，
所述中间位置区域以所述第一位置和所述第二位置的正中间为中心，并且具有小于所述第一位置和所述第二位置的间隔长度的80％的长度。
44.根据权利要求43所述的基板处理装置，其特征在于，
所述药液涂敷单元配置于所述第一位置和所述第二位置的正中间位置。
45.根据权利要求42所述的基板处理装置，其特征在于，
所述药液涂敷单元的喷嘴边缘配置于所述中间位置区域，并且在所述中间位置区域将药液涂敷于所述基板的表面。
46.根据权利要求42所述的基板处理装置，其特征在于，
所述第一振动区域沿着与所述基板被移送的方向呈垂直的方向连续地形成，
所述第二振动区域沿着与所述基板被移送的方向呈垂直的方向连续地形成。
47.根据权利要求42至46中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，还包括：
吸入压形成部，其在所述基板沿着所述第一振动板和所述第二振动板被移送期间，将吸入压施加于所述基板。
48.根据权利要求47所述的基板处理装置，其特征在于，
所述吸入压形成部以与所述药液涂敷单元邻近的形式分别形成于所述第一振动板和所述第二振动板，并且所述基板通过所述吸入压相对于所述第一振动板和所述第二振动板得到支撑。
49.根据权利要求47所述的基板处理装置，其特征在于，
所述吸入压形成部设置于沿着所述基板被移送的方向的所述药液涂敷单元的前方及后方中至少任意一侧。
50.根据权利要求47所述的基板处理装置，其特征在于，
所述吸入压形成部设置为与所述药液涂敷单元形成于相同的线上。